半导体FAB里基本的常识简介精华版

《半导体FAB里基本的常识简介精华版》由会员分享，可在线阅读，更多相关《半导体FAB里基本的常识简介精华版（29页珍藏版）》请在装配图网上搜索。

1、1.2.3.4.5.6.7.8.9.10.11.12.13.14.15.16.17.18.19.20.晶圆制造厂非常昂贵的原因之一，是需要一个无尘室，为何需要无尘室答：由于微小的粒子就能引起电子组件与电路的缺陷何谓半导体?答：半导体材料的电传特性介于良导体如金属(铜、铝，以及钨等)和绝缘和橡胶、塑料与干木头之间。最常用的半导体材料是硅及锗。半导体最重要的性质之一就是能够藉由一种叫做掺杂的步骤刻意加入某种杂质并应用电场来控制其之导电性。常用的半导体材料为何？答：硅(Si)、锗(Ge)和砷化镓(AsGa)何谓VLSI?答：VLSI(VeryLargeScaleIntegration)超大规模集成电

2、路在半导体工业中，作为绝缘层材料通常称什么?答：介电质(Dielectric).薄膜区机台主要的功能为何?答：沉积介电质层及金属层何谓CVD(ChemicalVaporDep.)答：CVD是一种利用气态的化学源材料在晶圆表面产生化学沉积的制程CVD分那几种?答:PE-CVD(电浆增强型)及Thermal-CVD(热耦式)为什么要用铝铜(Al-Cu)合金作导线？答：良好的导体仅次于铜介电材料的作用为何？答：做为金属层之间的隔离何谓PMD(Pre-MetalDielectric)答：称为金属沉积前的介电质层，其界于多晶硅与第一个金属层的介电质何谓IMD(Inter-MetalDielectric)

3、答：金属层间介电质层。何谓USG？答：未掺杂的硅玻璃(UndopedSilicateGlass)何谓FSG？答：掺杂氟的硅玻璃(FluorinatedSilicateGlass)何谓BPSG？答：掺杂硼磷的硅玻璃(Borophosphosilicateglass)何谓TEOS？答：Tetra-ethoxy-silane四乙氧基硅烷,正硅酸四乙酯,用途为沉积二氧化硅TEOS在常温时是以何种形态存在？答：液体二氧化硅其K值为3.9表示何义答：表示二氧化硅的介电质常数为真空的3.9倍氟在CVD的工艺上，有何应用答：作为清洁反应室(Chamber)用之化学气体简述Endpointdetector之作用

4、原理答：clean制程时,利用生成物或反应物浓度的变化,因其特定波长光线被detector侦测到强度变强或变弱,当超过某一设定强度时,即定义制程结束而该点为endpoint.21. 机台使用的管件材料主要有那些?答：有不锈钢制(StainlessSteal),黄铜制(Brass)，塑胶制(PVC),特氟隆制(Teflon)四种.22. 机器维修时要放置停机维修告示牌目的为何?答：告知所有的人勿操作机台，避免危险23. 机台维修至少两人配合，有何目的?答：帮忙拆卸重物，并随时警戒可能的意外发生24. 更换过任何气体管路上的零件之后，一定要做何动作?答：用氦气测漏机来做测漏.25. 维修尚未降至室

5、温之反应室(Chamber),应配带何种手套答：石棉材质之防热手套并宜在80摄式度下始可动作26. 何为真空(Vacuum)?半导体业常用真空单位是什么？答：半导体业通常用Torr作为真空的压力单位，一大气压相当760Torr;低于760Torr压力的环境称为真空.27. 真空Pump的作用？答：降低反应室(Chamber)内的气体密度和压力28. 何谓内部连锁(Interlock)答：机台上interlock有些属于保护操作人员的安全，有些属于水电气等规格讯号,用以保护机台.29. 机台设定许多interlock有何作用？答：机台上interlock主要避免人员操作错误及防止不相关人员动作.

6、30. WaferScrubber的功能为何？答：移除芯片表面的污染粒子,Scrubber(Waferclean)机台是水清洗wafer表面，去除wafer表面外来的微尘颗粒(particle).31. 何谓蚀刻(Etch)?答：将形成在晶圆表面上的薄膜全部，或特定处所去除至必要厚度的制程。32. 蚀刻种类:答：(1)干蚀刻;(2)湿蚀刻33. 蚀刻对象依薄膜种类可分为:答：poly,oxide,metal34. 半导体中一般金属导线材质为何?答：钨线(W)/铝线(AI)/铜线(Cu)35. 何谓dielectric蚀刻(介电质蚀刻)?答：Oxideetchandnitrideetch(Si3

7、N4)SiO2(k=3.9),Si3N4膜介电常数高达6-7单晶硅的相对介电常数是11.70.2，多晶硅导电性不如金属，限制了讯号传递的速度。虽然可以利用掺杂的方式改善其导电性，但成效仍然有限。有些熔点比较高的金属材料如:钨(Tungsten)、钛(Titanium)、钻(Cobalt)或是镍(Nickel)被用来和多晶硅制成合金。这类混合材料通常称为金属硅化物(silicide)。加上了金属硅化物的多晶硅栅极有比较好的导电特性，而且又能够耐受高温制程。此外因为金属硅化物的位置是在栅极表面，离通道区较远，所以也不会对MOSFET的临界电压造成太大影响。在栅极、源极与漏极都镀上金属硅化物的制程称

8、为“自我对准金属硅化物制程”(Self-AlignedSilicide)，通常简称salicide制程36. 半导体中一般介电质材质为何?答：氧化硅/氮化硅37. 何谓湿式蚀刻答：利用液相的酸液或溶剂;将不要的薄膜去除38. 何谓电浆Plasma?答：电浆是物质的第四状态带有正，负电荷及中性粒子之总和淇中包含电子，正离子，负离子，中性分子,活性基及发散光子等，产生电浆的方法可使用高温或高电压39. 何谓干式蚀刻？答：利用plasma将不要的薄膜去除40. 何谓Under-etching（蚀刻不足）？答：系指被蚀刻材料，在被蚀刻途中停止造成应被去除的薄膜仍有残留41. 何谓Over-etchin

9、g（过蚀刻）答：蚀刻过多造成底层被破坏）42. 何谓Etchrate（蚀刻速率）答：单位时间内可去除的蚀刻材料厚度或深度43. 何谓Seasoning（陈化处理）44. 答：是在蚀刻室的清净或更换零件后，为要稳定制程条件，使用仿真（dummy）晶圆进行数次的蚀刻循环。45. Asher的主要用途：答：光阻去除46. Wetbenchdryer功用为何？答：将晶圆表面的水份去除47. 列举目前Wetbenchdry方法答：（1）SpinDryer（2）Marangonidry（3）IPAVaporDry48. 何谓SpinDryer答：利用离心力将晶圆表面的水份去除49. 何谓MaragoniD

10、ryer答：利用表面张力将晶圆表面的水份去除MARANGONIDRYER盲JU也占阳冋50.51.52.53.54.55.56.57.58.59.60.61.62.63.64.65.66.irAh/isiriiKriKDfitoKihiefc:rrxsait：N3iK：tniitMhiwit.何谓IPAVaporDryer答：利用IPA（异丙醇）和水共溶原理将晶圆表面的水份去除测Particle时,使用何种测量仪器？答:TencorSurfscan测蚀刻速率时，使用何者量测仪器？答：膜厚计,测量膜厚差值何谓AEI答：AfterEtchingInspection蚀刻后的检查AEI目检Wafer须

11、检查哪些项目：答：（1）正面颜色是否异常及刮伤（2）有无缺角及Particle（3）刻号是否正确金属蚀刻机台转非金属蚀刻机台时应如何处理？答：清机防止金属污染问题金属蚀刻机台Asher的功用为何？答：去光阻及防止腐蚀金属蚀刻后为何不可使用一般硫酸槽进行清洗？答：因为金属线会溶于硫酸中HotPlate机台是什么用途？答：烘烤HotPlate烘烤温度为何？答:90120C，何种气体为PolyETCH主要使用气体？答:CI2,HBr,HCl用于Al金属蚀刻的主要气体为：答：CI2,BCI3用于W金属蚀刻的主要气体为答:SF6何种气体为oxidevai/contactETCH主要使用气体?答:C4F8

12、,C5F8,C4F6硫酸槽的化学成份为:答:H2SO/H2O2.AMP槽的化学成份为:答：nh4oh/h2o2/h2oUVcuring是什么用途?答：利用UV光对光阻进行预处理以加强光阻的强度UVcuring用于何种层次？答：金属层，67. 何谓EMO?答：机台紧急开关68. EMO作用为何？答：当机台有危险发生之顾虑或已不可控制，可紧急按下69. 湿式蚀刻门上贴有那些警示标示？答：(1)警告.内部有严重危险.严禁打开此门(2)机械手臂危险.严禁打开此门(3)化学药剂危险.严禁打开此门70. 遇化学溶液泄漏时应如何处置？答：严禁以手去测试漏出之液体.应以酸碱试纸测试.并寻找泄漏管路.71. 遇

13、IPA槽着火时应如何处置?？答：立即关闭IPA输送管路并以机台之灭火器灭火及通知紧急应变小组72. BOE槽之主成份为何？答：HF(氢氟酸)与NH4F(氟化铵).73. BOE为那三个英文字缩写？答：BufferedOxideEtcher。$U.与3IH止依冲冋比拥屈台血顷b6:10也理到即表不HZ:列超=3旳顷H帰合而成oEF为主要的蚀劇液，NH4F则侦対缓冲剂使用。利用MH4F的冰度，使之保持一走的蚀刻率。HF会倶蚀城璃及任何住更申物质闕皮抉有坯烈的席曲性不小心被術到应用天量冲洗。74. 有毒气体之阀柜(VMB)功用为何？答：当有毒气体外泄时可利用抽气装置抽走,并防止有毒气体漏出75. 电

14、浆的频率一般13.56MHz，为何不用其它频率？答：为避免影响通讯品质，目前只开放特定频率，作为产生电浆之用，如380420KHz,13.56MHz,2.54GHz等76. 何谓ESC(electricalstaticchuck)答：利用静电吸附的原理，将Wafer固定在极板(Substrate)77. Asher主要气体为答：O278. Asher机台进行蚀刻最关键之参数为何？答：温度79. 简述TURBOPUMP原理答：利用涡轮原理,可将压力抽至10-6TORR80. 热交换器(HEATEXCHANGER)之功用为何？答：将热能经由介媒传输，以达到温度控制之目地81. 简述BACKSIDE

15、HELIUMCOOLING之原理？答：藉由氦气之良好之热传导特性，能将芯片上之温度均匀化82. ORIENTER之用途为何？答：搜寻notch边，使芯片进反应腔的位置都固定，可追踪问题83. 简述EPD之功用答：侦测蚀刻终点;Endpointdetector利用波长侦测蚀刻终点84. 何谓MFC？答：massflowcontroler气体流量控制器;用于控制反应气体的流量85. GDP为何？答：气体分配盘(gasdistributionplate)86.GDP有何作用？答：均匀地将气体分布于芯片上方87. 何谓isotropicetch?答：等向性蚀刻;侧壁侧向蚀刻的机率均等88. 何谓ani

16、sotropicetch?答：非等向性蚀刻;侧壁侧向蚀刻的机率少89. 何谓etch选择比?答：不同材质之蚀刻率比值90. 何谓AEICD?答：蚀刻后特定图形尺寸之大小，特征尺寸(CriticalDimension)91. 何谓CDbias?答：蚀刻CD减蚀刻前黄光CD92. 简述何谓田口式实验计划法?答：利用混合变因安排辅以统计归纳分析93. 何谓反射功率?答：蚀刻过程中,所施予之功率并不会完全地被反应腔内接收端所接受,会有部份值反射掉,此反射之量,称为反射功率94. LoadLock之功能为何?答：Wafers经由loadlock后再进出反应腔，确保反应腔维持在真空下不受粉尘及湿度的影响.

17、95. 厂务供气系统中何谓BulkGas?答：BulkGas为大气中普遍存在之制程气体,如N2,O2,Ar等96. 厂务供气系统中何谓InertGas?答：InertGas为一些特殊无强烈毒性的气体,如NH3,CF4,CHF3,SF6等.97. 厂务供气系统中何谓ToxicGas?答：ToxicGas为具有强烈危害人体的毒性气体,如SiH4,Cl2,BCl3等.98. 机台维修时,异常告示排及机台控制权应如何处理?答：将告示牌切至异常且将机台控制权移至维修区以防有人误动作99. 冷却器的冷却液为何功用?答：传导热100. Etch之废气有经何种方式处理？答：利用水循环将废气溶解之后排放至废酸槽

18、101. 何谓RPM?答：即RemotePowerModule,系统总电源箱.102. 火灾异常处理程序答：(1)立即警告周围人员.(2)尝试3秒钟灭火.(3)按下EMO停止机台.(4)关闭VMBValve并通知厂务.撤离103. 一氧化碳(CO)侦测器警报异常处理程序答:(1)警告周围人员.(2)按Pause键，暂止Run货.(3)立即关闭VMB阀,并通知厂务.(4)进行测漏.104. 高压电击异常处理程序答：(1)确认安全无虑下，按EMO键(2)确认受伤原因(误触电源,漏水等)(3)处理受伤人员105.T/C(传送TransferChamber)之功能为何?答：提供一个真空环境，以利机器手

19、臂在反应腔与晶舟间传送Wafer;节省时间.106. 机台PM时需佩带面具否答：是,防毒面具107. 机台停滞时间过久run货前需做何动作答：Seasoning(陈化处理)；108. 何谓日常测机答：机台日常检点项目,以确认机台状况正常109. 何谓WAC(WaferlessAutoClean)答：无wafer自动干蚀刻清机110. 何谓DryClean答：干蚀刻清机111. 日常测机量测etchrate之目的何在？答：因为要蚀刻到多少厚度的film，其中一个重要参数就是蚀刻率112. 操作酸碱溶液时,应如何做好安全措施？答：(1)穿戴防酸碱手套围裙安全眼镜或护目镜(2)操作区备有清水与水管以

20、备不时之需(3)操作区备有吸酸棉及隔离带113. 如何让chamber达到设定的温度?答：使用heater和chiller114. Chiller之功能为何？答：用以帮助稳定chamber温度115. 如何在chamber建立真空?答：(1)首先确立chamberparts组装完整(2)以drypump作第一阶段的真空建立(3)当圧力到达100mT时再以turbopump抽真空至1mT以下116. 真空计的功能为何?答：侦测chamber的压力，确保wafer在一定的压力下117. processTransfermodule之robot功用为何？答：将wafer传进chamber与传出cham

21、ber之用118. 何谓MTBC？(meantimebetweenclean)答：上一次wetclean到这次wetclean所经过的时间)119. RFGenerator是否需要定期检验？答：是需要定期校验；若未校正功率有可能会变化;如此将影响电浆的组成120. 为何需要对etchchamber温度做监控？答：因为温度会影响制程条件；如etchingrate/均匀度121. 为何需要注意drypumpexhaustpressure(pump出口端的气压)？答：因为气压若太大会造成pump负荷过大，造成pump跳掉，影响chamber的压力,直接影响到run货品质122. 为何要做漏率测试？(

22、Leakrate)答：(1)在PM后PUMPDown12小时后;为确保chamberRun货时,无大气进入chamble影响chamberGAS成份(2)在日常测试时，为确保chamber内来自大气的泄漏源,故需测漏。123. 机台发生Alarm时应如何处理?答：(1)若为火警，立即圧下EMO(紧急按钮)，并灭火且通知相关人员与主管(2)若是一般异常,请先检查alarm讯息再判定异常原因,进而解决问题,若未能处理应立即通知主要负责人124.蚀刻机台废气排放分为那几类?答：一般无毒性废气/有毒酸性废气排放125. 蚀刻机台使用的电源为多少伏特(v)?答：208V三相126. 干式蚀刻机台分为那几

23、个部份?答：(1)Load/Unload端(2)transfermodule(3)Chamberprocessmodule(4)真空系统(5)GASsystem(6)RFsystem)127. PHOTO流程?答：上光阻一曝光一显影一显影后检查一CD量测一Overlay量测128. 何为光阻？其功能为何？其分为哪两种？答:Photoresist(光阻)是一种感光的物质，其作用是将Pattern从光罩(Reticle)上传递到Wafer上的一种介质。其分为正光阻和负光阻。129. 何为正光阻?答：正光阻，是光阻的一种，这种光阻的特性是将其曝光之后，感光部分的性质会改变，并在之后的显影过程中被曝光

24、的部分被去除。130. 何为负光阻?答：负光阻也是光阻的一种类型，将其曝光之后，感光部分的性质被改变，但是这种光阻的特性与正光阻的特性刚好相反，其感光部分在将来的显影过程中会被留下，而没有被感光的部分则被显影过程去除。131. 什么是曝光？什么是显影？答：曝光就是通过光照射光阻，使其感光；显影就是将曝光完成后的图形处理，以将图形清晰的显现出来的过程。132. 何谓Photo?答：Photo=Photolithgraphy,光亥0,将图形从光罩上成象到光阻上的过程。133. Photo主要流程为何？答：Photo的流程分为前处理，上光阻，SoftBake,曝光，PEB，显影，HardBake13

25、4. 何谓PHOTO区之前处理？答：在Wafer上涂布光阻之前，需要先对Wafer表面进行一系列的处理工作，以使光阻能在后面的涂布过程中能够被更可靠的涂布。前处理主要包括Bake，HDMS等过程。其中通过Bake将Wafer表面吸收的水分去除，然后进行HDMS工作，以使Wafer表面更容易与光阻结合。Note:HMDS是增粘剂，是硅烷偶联剂的一种，恰恰不是做亲水处理的。主要是增强硅片和有机物尤其是高分子树脂(光刻胶)之间的黏附性。HMDS的处理方式是用真空烘箱或者特殊热板对硅片进行熏蒸进行的。135. 何谓上光阻?答：上光阻是为了在Wafer表面得到厚度均匀的光阻薄膜。光阻通过喷嘴(Nozzl

26、e)被喷涂在高速旋转的Wafer表面，并在离心力的作用下被均匀的涂布在Wafer的表面。136. 何谓SoftBake?答：上完光阻之后，要进行SoftBake，其主要目的是通过SoftBake将光阻中的溶剂蒸发，并控制光阻的敏感度和将来的线宽，同时也将光阻中的残余内应力释放。137. 何谓曝光?答:曝光是将涂布在Wafer表面的光阻感光的过程，同时将光罩上的图形传递到Wafer上的过程。138. 何谓PEB(PostExposureBake)?答：PEB是在曝光结束后对光阻进行控制精密的Bake的过程。其目的在于使被曝光的光阻进行充分的化学反应，以使被曝光的图形均匀化。139. 何谓显影？答

27、：显影类似于洗照片，是将曝光完成的Wafer进行成象的过程，通过这个过程，成象在光阻上的图形被显现出来。140. 何谓HardBake?答:HardBake是通过烘烤使显影完成后残留在Wafer上的显影液蒸发，并且固化显影完成之后的光阻的图形的过程。141. 何为BARC?何为TARC?它们分别的作用是什么？答：BARC=BottomAntiReflectiveCoating,TARC=TopAntiReflectiveCoating.BARC是被涂布在光阻下面的一层减少光的反射的物质，TARC则是被涂布在光阻上表面的一层减少光的反射的物质。他们的作用分别是减少曝光过程中光在光阻的上下表面的反

28、射，以使曝光的大部分能量都被光阻吸收。142. 何谓I-line？答：曝光过程中用到的光，由MercuryLamp(汞灯)产生，其波长为365nm,其波长较长，因此曝光完成后图形的分辨率较差，可应用在次重要的层次。143. 何谓DUV?答：曝光过程中用到的光，其波长为248nm,其波长较短，因此曝光完成后的图形分辨率较好，用于较为重要的制程中，深紫外光(deepultraviolet)oEUV(ExtremeUltraviolet)为极紫外光,常称作EUV光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm的紫外线光刻的光源Visible(iMTiFl沪LT

29、VIfilrwrdwavesRidii*157m24gA(nm)j|1VUVDUVEHLIVCunimcinWUMfdinupCkiilX-ray:O.OOlnm10nmUV:10nm400nm144.1-line与DUV主要不同处为何?答：光源不同，波长不同，因此应用的场合也不同。I-Line主要用在较落后的制程（0.35微米以上）或者较先进制程（0.35微米以下）的Non-Criticallayer。DUV则用在先进制程的Criticallayer上。145. 何为ExposureField?答：曝光区域，一次曝光所能覆盖的区域146. 何谓Stepper?其功能为何？答：一种曝光机，其曝

30、光动作为Stepbystep形式，一次曝整個exposurefield,一個一個曝過去147. 何谓Scanner?其功能为何？答：一种曝光机，其曝光动作为Scanningandstep形式，在一個exposurefield曝光時，先Scan完整個field,Scan完後再移到下一個field.148. 何为象差？答：代表透镜成象的能力，越小越好.149.Scanner比Stepper优点为何？答：ExposureField大，象差较小150. 曝光最重要的两个参数是什么？答：Energy（曝光量），Focus（焦距）。如果能量和焦距调整的不好，就不能得到要求的分辨率和要求大小的图形，主要表现

31、在图形的CD值超出要求的范围。因此要求在生产时要时刻维持最佳的能量和焦距，这两个参数对于不同的产品会有不同。151. 何为Reticle?答：Reticle也称为Mask，翻译做光掩模板或者光罩，曝光过程中的原始图形的载体，通过曝光过程，这些图形的信息将被传递到芯片上。152. 何为Pellicle?答：Pellicle是Reticle上为了防止灰尘（dust）或者微尘粒子（Particle）落在光罩的图形面上的一层保护膜。Pellicle:膜剂；薄皮；护膜；菌醭；光罩护膜。153. 何为OPC光罩？答：OPC（OpticalProximityCorrection）为了增加曝光图案的真实性，做

32、了一些修正的光罩，例如，0.18微米以下的Poly,Metallayer就是OPC光罩。154. 何为PSM光罩？答：PSM（PhaseShiftMask）不同于Crmask,利用相位干涉原理成象，目前大都应用在contactlayer以及较小CD的Criticallayer（如AA，POLY，METAL1）以增加图形的分辨率。155. 何為CRMask?答：传统的铬膜光罩，只是利用光讯0与1干涉成像，主要应用在较不Critical的layer156. 光罩编号各位代码都代表什么？答：例如003700-156AA-1DA,0037代表产品号，00代表Specialcode,156代表layer

33、,A代表客户版本，后一个A代表SMIC版本，1代表FAB1,D代表DUV（如果是J,则代表I-line）,A代表ASML机台（如果是C,则代表Canon机台）157. 光罩室同时不能超过多少人在其中？答：2人，为了避免产生更多的Particle和静电而损坏光罩。158. 存取光罩的基本原则是什么？答：（1）光罩盒打开的情况下，不准进出MaskRoom,最多只准保持2个人（2）戴上手套（3）轻拿轻放159. 如何避免静电破坏Mask？答：光罩夹子上连一导线到金属桌面，可以将产生的静电导出。160. 光罩POD和FOUP能放在一起吗？它们之间至少应该保持多远距离？答：不能放在一起，之间至少要有30

34、公分的距离，防止搬动FOUP时碰撞光罩Pod而损坏光罩。161. 何谓Track?答:Photo制程中一系列步骤的组合，其包括：Wafer的前、后处理，Coating（上光阻）,和Develop（显影）等过程。关键没曝光机scanner,scanner需要另外设立。162. In-lineTrack机台有几个Coater槽，几个Developer槽？答：均为4个163. 机台上亮红灯的处理流程？答：机台上红灯亮起的时候表明机台处于异常状态，此时已经不能RUN货，因此应该及时CallEE进行处理。若EE现在无法立即解决，则将机台挂DOWN。164. 何谓WEE?其功能为何?答：WaferEdge

35、Exposureo由于Wafer边缘的光阻通常会涂布的不均匀，因此一般不能得到较好的图形，而且有时还会因此造成光阻peeling而影响其它部分的图形，因此将WaferEdge的光阻曝光，进而在显影的时候将其去除，这样便可以消除影响。165. 何为PEB？其功能为何？答：PostExposureBake，其功能在于可以得到质量较好的图形。（消除standingwaves166. PHOTOPOLYIMIDE所用的光阻是正光阻还是负光阻答：目前正负光阻都有，SMICFAB内用的为负光阻。167. RUN货结束后如何判断是否有wafer被reject？答：查看RUN之前lot里有多少Wafer,再看

36、Run之后lot里的WAFER是否有少掉，如果有少，则进一步查看机台是否有Reject记录。168. 何谓Overlay?其功能为何?答：叠对测量仪。由于集成电路是由很多层电路重迭组成的，因此必须保证每一层与前面或者后面的层的对准精度，如果对准精度超出要求范围内，则可能造成整个电路不能完成设计的工作。因此在每一层的制作的过程中，要对其与前层的对准精度进行测量，如果测量值超出要求，则必须采取相应措施调整processcondition.169. 何谓ADICD?答:CriticalDimension,光罩图案中最小的线宽。曝光过后，它的图形也被复制在Wafer上，通常如果这些最小的线宽能够成功的

37、成象，同时曝光的其它的图形也能够成功的成象。因此通常测量CD的值来确定process的条件是否合适。170.何谓CD-SEM?其功能为何?答：扫描电子显微镜。是一种测量用的仪器，通常可以用于测量CD以及观察图案。171. PRS的制程目的为何？答：PRS(ProcessReleaseStandard)通过选择不同的条件(能量和焦距)对Wafer曝光，以选择最佳的processcondition。172. 何为ADI?ADI需检查的项目有哪些？答:AfterDevelopInspection,曝光和显影完成之后，通过ADI机台对所产生的图形的定性检查，看其是否正常，其检查项目包括：LayerID

38、,LockingCorner,Vernier,PhotoMacroDefect173. 何为00C,OOS，OCAP？答：OOC=outofcontrol,OOS=OutofSpec,OCAP=outofcontrolactionplan174. 当需要追货的时候，是否需要将ETCH没有下机台的货追回来？答:需要。因为通常是process出现了异常，而且影响到了一些货，因此为了减少损失,必须把还没有ETCH的货追回来，否则ETCH之后就无法挽回损失。175. PHOTOADI检查的SITE是每片几个点？答：5点，Wafer中间一点，周围四点。176. PHOTOOVERLAY检查的SITE是每

39、片几个点？答：20177. PHOTOADI检查的片数一般是哪几片？答：#1，#6，#15，#24;统计随机的考量;178. 何谓RTMS，其主要功能是什么？答：RTMS(ReticleManagementSystem)光罩管理系统用于trace光罩的History,Status,Location,andInformation以便于光罩管理179. PHOTO区的主机台进行PM的周期？答：一周一次180. PHOTO区的控片主要有几种类型答：(1)Particle:作为Particlemonitor用的芯片，使用前测前需小于10颗(2) ChuckParticle:作为Scanner测试Chu

40、ck平坦度的专用芯片，其平坦度要求非常高(3) Focus:作为ScannerDailymonitorbest的wafer(4) CD:做为photo区dailymonitorCD稳定度的wafer(5) PRthickness:做为光阻厚度测量的wafer(6) PDM:做为photodefectmonitor的wafer181. 当TRACK刚显示光阻用完时，其实机台中还有光阻吗？答：有少量光阻182. WAFERSORTER有读WAFER刻号的功能吗？答：有183. 光刻部的主要机台是什么?它们的作用是什么?答：光刻部的主要机台是：TRACK(涂胶显影机)，Sanner(扫描曝光机)18

41、4. 为什么说光刻技术最象日常生活中的照相技术答：Track把光刻胶涂附到芯片上就等同于底片,而曝光机就是一台最高级的照相机.光罩上的电路图形就是人物.通过对准,对焦,打开快门,让一定量的光照过光罩,其图像呈现在芯片的光刻胶上,曝光后的芯片被送回Track的显影槽,被显影液浸泡,曝光的光刻胶被洗掉,图形就显现出来了.185. 光刻技术的英文是什么答：PhotoLithography186.常听说的.18或点.13技术是指什么?答：它是指某个产品，它的最小CD的大小为0.18umor0.13um.越小集成度可以越高,每个芯片上可做的芯片数量越多,难度也越大.它是代表工艺水平的重要参数.187.

42、从点18工艺到点13工艺到点零9.难度在哪里?答：难度在光刻部,因为图形越来越小,曝光机分辨率有限.188. 曝光机的NA是什么?答：NA是曝光机的透镜的数值孔径;是光罩对透镜张开的角度的正玹值.最大是1;先进的曝光机的NA在0.5-0.85之间.189. 曝光机分辨率是由哪些参数决定的?答：分辨率=k1*Lamda/NA.Lamda是用于曝光的光波长;NA是曝光机的透镜的数值孔径;k1是标志工艺水准的参数,通常在0.4-0.7之间.190. 如何提高曝光机的分辨率呢?答：减短曝光的光波长，选择新的光源；把透镜做大，提高NA.191. 现在的生产线上,曝光机的光源有几种,波长多少?答：有三种:

43、高压汞灯光谱中的365nm谱线,我们也称其为I-line;KrF激光器,产生248nm的光;ArF激光器,产生193nm的光;Kr:氪Ar:氩192. 下一代曝光机光源是什么?答：F2激光器.波长157nm193. 我们可否一直把波长缩短,以提高分辨率?困难在哪里?答：困难在透镜材料.能透过157nm的材料是CaF2,其晶体很难生长.194. 为什么光刻区采用黄光照明？答：因为白光中包含365nm成份会使光阻曝光，所以采用黄光；就象洗像的暗房采用暗红光照明.195. 什么是SEM答：扫描电子显微镜(SeanElectronicMicroscope)光刻部常用的也称道CDSEM.用它来测量CD1

44、96. 如何做Overlay测量呢?答:芯片(Wafer)被送进Overlay机台中.先确定Wafer的位置从而找到OverlayMARK.这个MARK是一个方块IN方块的结构.大方块是前层,小方块是当层;通过小方块是否在大方块中心来确定Overlay的好坏.197. 生产线上最贵的机器是什么？答：曝光机;5-15百万美金/台198. 曝光机贵在哪里?答：曝光机贵在它的光学成像系统(它的成像系统由15到20个直径在200300MM的透镜组成.波面相位差只有最好相机的5%.它有精密的定位系统(使用激光工作台)199. 激光工作台的定位精度有多高?答：现用的曝光机的激光工作台定位的重复精度小于10

45、nm200. 曝光机是如何保证Overlay50nm.答:曝光机要保证每层的图形之间对准精度v50nm.它首先要有一个精准的激光工作台,它把wafer移动到准确的位置.再就是成像系统，它带来的图像变形0.35um以上的图层(LAYER)209. KrFscanner的工作范围是多少?答：CD0.13um以上的图层(LAYER)210. ArFscanner的工作范围是多少?答：CD0.08um以上的图层(LAYER)211. 什么是DUVSCANNER答：DUVSCANNER是指所用光源为DeepUltraVoliet,超紫外线.即现用的248nm,193nmScanner212.Scanne

46、r在曝光中可以达到精确度宏观理解答：Scanner是一个集机，光，电为一体的高精密机器；为控制Overlayv40nm,在曝光过程中，光罩和Wafer的运动要保持很高的同步性.在250nm/秒的扫描曝光时，两者同步位置v10nm.相当于两架时速1000公里/小时的波音747飞机前后飞行，相距小于10微米213.光罩的结构如何？答：光罩是一块石英玻璃，它的一面镀有一层铬膜(不透光).在制造光罩时，用电子束或激光在铬膜上写上电路图形(把部分铬膜刻掉，透光).在距铬膜5mm的地方覆盖一极薄的透明膜(叫pellicle)，保护铬膜不受外界污染.214. 在超净室(cleanroom)为什么不能携带普通

47、纸答：普通纸张是由大量短纤维压制而成，磨擦或撕割都会产生大量微小尘埃(particle).进cleanroom要带专用的CleanroomPaper.215. 如何做CD测量呢？答：芯片(Wafer)被送进CDSEM中.电子束扫过光阻图形(Pattern).有光阻的地方和无光阻的地方产生的二次电子数量不同；处理此信号可的图像对图像进行测量得CD.216. 什么是DOF答：DOF也叫DepthOfFocus,与照相中所说的景深相似.光罩上图形会在透镜的另一侧的某个平面成像，我们称之为像平面(ImagePlan),只有将像平面与光阻平面重合(InFocus)才能印出清晰图形.当离开一段距离后，图像

48、模糊.这一可清晰成像的距离叫DOF)217. 曝光显影后产生的光阻图形(Pattern)的作用是什么？答：曝光显影后产生的光阻图形有两个作用：一是作刻蚀的模板，未盖有光阻的地方与刻蚀气体反应，被吃掉去除光阻后，就会有电路图形留在芯片上另一作用是充当例子注入的模板218. 光阻种类有多少？答：光阻种类有很多.可根据它所适用的曝光波长分为I-line光阻,KrF光阻和ArF光阻219. 光阻层的厚度大约为多少？答:光阻层的厚度与光阻种类有关.I-line光阻最厚,0.7umto3um.KrF光阻0.4-0.9um.ArF光阻0.2-0.5um.220. 哪些因素影响光阻厚度？答：光阻厚度与芯片(w

49、afer)的旋转速度有关，越快越薄，与光阻粘稠度有关.221. 哪些因素影响光阻厚度的均匀度？答：光阻厚度均匀度与芯片(WAFER)的旋转加速度有关，越快越均匀，与旋转加减速的时间点有关222. 当显影液或光阻不慎溅入眼睛中如何处理答：大量清水冲洗眼睛，并查阅显影液的CSDS(ChemicalSafetyDataSheet),把它提供给医生，以协助治疗FAC223. 根据工艺需求排气分几个系统?答：分为一般排气(General)、酸性排气(Scrubbers)、碱性排气(Ammonia)和有机排气(Solvent)四个系统224. 高架地板分有孔和无孔作用?答：使循环空气能流通，不起尘，保证洁

50、净房内的洁净度；防静电；便于HOOK-UP。225. 离子发射系统作用!答：离子发射系统，防止静电226. SMIC洁净等级区域划分答：MaskShopclass1&100；Fab1&Fab2:Photoandprocessarea；Class100Cu-lineAl-LineOS1L3OS1L4testingClass1000227. 什么是制程工艺真空系统(PV);答：是提供厂区无尘室生产及测试机台在制造过程中所需的工艺真空；如真空吸笔、光阻液涂布、吸芯片用真空源等。该系统提供一定的真空压力(真空度大于80kpa)和流量，每天24小时运行228. 什么是MAU(MakeUpAirUnit)

51、,新风空调机组作用答：提供洁净室所需之新风，对新风湿度，温度，及洁净度进行控制，维持洁净室正压和湿度要求。229. HouseVacuumSystem作用答:HV(HouseVacuum)系统提供洁净室制程区及回风区清洁吸取微尘粒子之真空源，其真空度较低。使用方法为利用软管连接事先已安装在高架地板下或柱子内的真空吸孔，打开运转电源。此系统之运用可减低清洁时的污染。230. FilterFanUnitSystem(FFU)作用答：FFU系统保证洁净室内一定的风速和洁净度，由Fan和Filter(ULPA)组成231. 什么是CleanRoom洁净室系统答：洁净室系统供应给制程及机台设备所需之洁净

52、度、温度、湿度、正压、气流条件等环境要求232. Cleanroomspec:标准答：Temperature23C1C(Photo:23C0.5C)Humidity45%5%(Photo:45%3%)Class100Overpressure+15paAirvelocity0.4m/s0.08m/s;233. Fab内的safetyshower的日常维护及使用监督由谁来负责答：Fab内的AreaOwner(若出现无水或大量漏水等可请厂务水课(19105)协助)234. 工程师在正常跑货用纯水做rinse或做机台维护时，要注意不能有酸或有机溶剂(如IPA等)进入纯水回收系统中，这是因为：答：酸会导

53、致conductivity(导电率)升高，有机溶剂会导致TOC升高。两者均会影响并降低纯水回收率。235. 若在Fab内发现地面有水滴或残留水等，应如何处理或通报答：先检查是否为机台漏水或做PM所致，若为厂务系统则通知厂务中控室(12222)236. 机台若因做PM或其它异常，而要大量排放废溶剂或废酸等应首先如何通报答：通知厂务主系统水课的值班(19105)237. 废水排放管路中酸碱废水/浓硫酸/废溶剂等使用何种材质的管路?答:酸碱废水/高密度聚乙烯(HDPE)浓硫酸/钢管内衬铁福龙(CS-PTFE)废溶剂/不琇钢管238. 若机台内的drain管有接错或排放成分分类有误，将会导致后端的主系

54、统出现什么问题?答：将会导致后端处理的主系统相关指标处理不合格，从而可能导致公司排放口超标排放的事故。239. 公司做水回收的意义如何?答：(1)节约用水，降低成本，重在环保。(2)符合ISO可持续发展的精神和公司环境保护暨安全卫生政策。240. 何种气体归类为特气(SpecialtyGas)?答：SiH2Cl2241. 何种气体由VMBStick点供到机台？答：H2242. 何种气体有自燃性?答：SiH4243. 何种气体具有腐蚀性?答：ClF3244. 当机台用到何种气体时，须安装气体侦测器?答：PH3245. 名词解释GC,VMB,VMP答：GC-GasCabinet气瓶柜VMB-Val

55、veManifoldBox阀箱，适用于危险性气体。VMP-ValveManifoldPanel阀件盘面，适用于惰性气体。246. 标准大气环境中氧气浓度为多少？工作环静氧气浓度低于多少时人体会感觉不适？答：21%247. 什么是气体的LEL?H2的LEL为多少？答：LEL-LowExplosiveLevel气体爆炸下限H2LEL-4%.248. 当FAB内气体发生泄漏二级警报(既LeakHiHi),气体警报灯(LAU)会如何动作？FAB内工作人员应如何应变？答：LAU红、黄灯闪烁、蜂鸣器叫听从ERC广播命令，立刻疏散。249. 化学供应系统中的化学物质特性为何?答：Acid/Caustic酸性

56、/腐蚀性(2)Solvent有机溶剂Slurry研磨液250. 有机溶剂柜的安用保护装置为何?答：Gas/Temp.detector;气体/温度侦测器CO2extinguisher;二氧化碳灭火器251. 中芯有那几类研磨液(slurry)系统？答：(1)Oxide(Si02)(2)Tungsten(W)鵭252. 设备机台总电源是几伏特？答：208VOR380V253. 欲从事生产/测试/维护时,如无法就近取得电源供给,可以无限制使用延长线吗？答：不可以254. 如何选用电器器材？答：使用电器器材需采用通过认证之正规品牌255. 机台开关可以任意分/合吗？答：未经确认不可随意分/合任何机台开

57、关,以免造成生产损失及人员伤害.256. 欲从事生产/测试/维护时,如无法就近取得电源供给,也不能无限制使用延长线,对吗？答：对257. 假设断路器启断容量为16安培导线线径2.5mm2，电源供应电压单相220伏特，若使用单相5000W电器设备会产生何种情况？答：断路器跳闸258. 当供电局供电中断时，人员仍可安心待在FAB中吗？答：当供电局供电中断时,本厂因有紧急发电机设备,配合各相关监视系统,仍然能保持FAB之Safety,所以人员仍可安心待在FAB中.WET259. 在半导体程制中,湿制程(wetprocessing)分那二大頪？答：晶圆洗净(wafercleaning)(2)湿蚀刻(w

58、etetching).260. 圆洗净(wafercleaning)的设备有那几种？答：(1)Batchtype(immersiontype):a)carriertypeb)Cassettelesstype(2)Singlewafertype(spraytype)261. 晶圆洗净(wafercleaning)的目的为何？答：去除金属杂质,有机物污染及微尘.262. 半导体制程有那些污染源？答：(1)微粒子(2)金属(3)有机物(4)微粗糙(5)天生的氧化物263. RCA清洗制程目的为何？答：于微影照像后,去除光阻,清洗晶圆,并做到酸碱中和,使晶圆可进行下一个制程.264. 洗净溶液APM(

59、SC-1)-NH4OH:H2O2:H2O的目的为何？答：去除微粒子及有机物265. 洗净溶液SPM-H2SO4:H2O2:H2O的目的为何？答：去除有机物266. 洗净溶液HPM(SC-2)-HCL:H2O2:H2O的目的为何？答：去除金属267. 洗净溶液DHF-HF:H2O(1:1001:500)的目的为何？答：去除自然氧化膜及金属268. 洗净溶液FPM-HF:H2O2:H2O的目的为何？答：去除自然氧化膜及金属269. 洗净溶液BHF(BOE)-HF:NH4F的目的为何？答：氧化膜湿式蚀刻270. 洗净溶液热磷酸-H3PO4的目的为何？答：氮化膜湿式蚀刻271.0.25微米逻辑组件有那

60、五种标准清洗方法？答：(1)扩散前清洗(2)蚀刻后清洗(3)植入后清洗(4)沉积前洗清(5)CMP后清洗272. 超音波刷洗(ultrasonicscrubbing)目的为何？答：去除不溶性的微粒子污染273. 何谓晶圆盒(POD)清洗？答：利用去离子水和界面活性剂(surfactant),除去晶圆盒表面的污染.274. 高压喷洒(highpressurespray)或刷洗去微粒子在那些制程之后？答:(1)锯晶圆(wafersaw)晶圆磨薄(waferlapping)(3)晶圆拋光(waferpolishing)(4)化学机械研磨275. 晶圆湿洗净设备有那几种？答：(1)多槽全自动洗净设备(2)单槽清洗设备(3)单晶圆清洗设备.276. 单槽清洗设备的优点？答：(1)较佳的环境制程与微粒控制能力.(2)化学品与纯