扬州负性光刻胶项目实施方案_模板范文

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1、泓域咨询/扬州负性光刻胶项目实施方案目录第一章 行业发展分析7一、 “半导体材料皇冠上的明珠”光刻胶7二、 DUV光刻胶化学放大型KrF&ArF光刻胶7三、 光刻工艺的影响因素8第二章 项目概述11一、 项目名称及建设性质11二、 项目承办单位11三、 项目定位及建设理由12四、 报告编制说明13五、 项目建设选址15六、 项目生产规模16七、 建筑物建设规模16八、 环境影响16九、 项目总投资及资金构成16十、 资金筹措方案17十一、 项目预期经济效益规划目标17十二、 项目建设进度规划18主要经济指标一览表18第三章 项目建设单位说明20一、 公司基本信息20二、 公司简介20三、 公司

2、竞争优势21四、 公司主要财务数据22公司合并资产负债表主要数据22公司合并利润表主要数据23五、 核心人员介绍23六、 经营宗旨25七、 公司发展规划25第四章 背景、必要性分析30一、 大陆晶圆代工厂成熟制程快速扩建，国产光刻胶企业迎来重大机遇30二、 负性光刻胶最传统的光刻胶31三、 半导体工业发展的基石光刻技术33四、 积极拓展内外市场加快融入新发展格局35五、 构建以智能融合发展为导向的现代产业体系37六、 项目实施的必要性39第五章 产品方案分析41一、 建设规模及主要建设内容41二、 产品规划方案及生产纲领41产品规划方案一览表41第六章 项目选址43一、 项目选址原则43二、

3、建设区基本情况43三、 打造自主创新能够扎根的特色产业创新高地51四、 项目选址综合评价52第七章 发展规划54一、 公司发展规划54二、 保障措施58第八章 法人治理结构61一、 股东权利及义务61二、 董事65三、 高级管理人员71四、 监事73第九章 工艺技术设计及设备选型方案76一、 企业技术研发分析76二、 项目技术工艺分析78三、 质量管理79四、 设备选型方案80主要设备购置一览表81第十章 环境影响分析83一、 编制依据83二、 环境影响合理性分析84三、 建设期大气环境影响分析85四、 建设期水环境影响分析87五、 建设期固体废弃物环境影响分析87六、 建设期声环境影响分析8

4、8七、 建设期生态环境影响分析89八、 清洁生产89九、 环境管理分析90十、 环境影响结论91十一、 环境影响建议92第十一章 原辅材料供应93一、 项目建设期原辅材料供应情况93二、 项目运营期原辅材料供应及质量管理93第十二章 建设进度分析94一、 项目进度安排94项目实施进度计划一览表94二、 项目实施保障措施95第十三章 项目投资分析96一、 投资估算的编制说明96二、 建设投资估算96建设投资估算表98三、 建设期利息98建设期利息估算表99四、 流动资金100流动资金估算表100五、 项目总投资101总投资及构成一览表101六、 资金筹措与投资计划102项目投资计划与资金筹措一览

5、表103第十四章 经济效益评价105一、 基本假设及基础参数选取105二、 经济评价财务测算105营业收入、税金及附加和增值税估算表105综合总成本费用估算表107利润及利润分配表109三、 项目盈利能力分析110项目投资现金流量表111四、 财务生存能力分析113五、 偿债能力分析113借款还本付息计划表114六、 经济评价结论115第十五章 招标、投标116一、 项目招标依据116二、 项目招标范围116三、 招标要求116四、 招标组织方式118五、 招标信息发布120第十六章 总结说明121第十七章 附表123建设投资估算表123建设期利息估算表123固定资产投资估算表124流动资金估

6、算表125总投资及构成一览表126项目投资计划与资金筹措一览表127营业收入、税金及附加和增值税估算表128综合总成本费用估算表129固定资产折旧费估算表130无形资产和其他资产摊销估算表131利润及利润分配表131项目投资现金流量表132本期项目是基于公开的产业信息、市场分析、技术方案等信息，并依托行业分析模型而进行的模板化设计，其数据参数符合行业基本情况。本报告仅作为投资参考或作为学习参考模板用途。第一章 行业发展分析一、 “半导体材料皇冠上的明珠”光刻胶伴随着光刻工艺的不断发展，光刻用化学品也在飞速发展，主要的光刻用化学品包括有光刻胶、抗反射层、溶剂、显影液、清洗液等。在这些化学品中，光

7、刻胶凭借其复杂且精准的成分组成具有最高的价值，也是整个半导体制造工艺中最为关键的材料之一，有着“半导体材料皇冠上的明珠”之称。组成成分：光刻胶主要由成膜树脂、溶剂、感光剂（光引发剂、光致产酸剂）、添加剂（表面活性剂、匀染剂等）等部分组成。典型的光刻胶成分中，50%90%是溶剂，10%40%是树脂，感光剂占1%8%，表面活性剂、匀染剂及其他添加剂占比则不到1%。分类标准：对于半导体光刻胶的分类有多种标准，常用的分类标准包括有：（1）以曝光后光刻胶在显影液中的溶解度变化分为正性光刻胶和负性光刻胶；（2）针对正性光刻胶以是否使用化学放大（ChemicallyAmplified）机制可分为化学放大型光

8、刻胶和非化学放大型光刻胶；（3）以所使用的光刻工艺可分为紫外宽谱光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子束光刻胶等。二、 DUV光刻胶化学放大型KrF&ArF光刻胶在20世纪90年代初期，半导体光刻工艺的技术节点已发展至线宽0.25m，i线光刻技术及重氮萘醌-酚醛树脂体系光刻胶已不能满足如此高的分辨率要求，因此人们开始寻求适用于具有更短波长的深紫外（DeepUltra-Violet，DUV）的光刻胶体系，即DUV光刻胶。当时的KrF和ArF等深紫外光刻机的曝光剂量都比较低，对于量子产率只有0.20.3的重氮萘醌-酚醛树脂体系光刻胶而言，只有极大程度地提高其

9、灵敏度，最终曝光所产生的图像的对比度才能满足要求。此外，当光线从光刻胶顶部向光刻胶底部传播时会被逐渐吸收，如果底部光强不足，外加光刻胶灵敏度较低，则最终容易形成梯形形貌。梯形形貌会明显影响后续工艺的正常进行，从而限制光刻工艺分辨率的进一步提升。因此，提高光刻胶灵敏度的“化学放大”势在必行。1982年，美国IBM公司Ito和Wilson等人正式提出了化学放大型光刻胶（ChemicallyAmplifiedResist，CAR）的概念。化学放大型光刻胶在光引发下能够产生一种催化剂，促使光化学反应迅速进行或者引发链式反应，从而快速改变基质性质进而产生图像。化学放大型光刻胶通常由聚合物骨架、光致产酸剂

10、（Photo-AcidGenerator，PAG）、刻蚀阻挡基团、酸根、保护基团、溶剂等组成。三、 光刻工艺的影响因素在现代半导体光刻工艺中，光源从紫外宽谱（300-450nm）向特定波长光源发展，从436nm的汞灯g线可见光发展到365nm的汞灯i线中的紫外光，再发展到248nm的氟化氪（KrF）及193nm的氟化氩（ArF）准分子激光。在KrF和ArF准分子激光光源后，还曾有对于以氟气分子（F2）为激光媒介的准分子激光器作为光源的探究，该光源的波长为157nm，但由于浸没式193nm光刻技术研发的成功，157nm光刻技术很快就被抛弃。在通过浸没式光刻和多重曝光技术将193nm光刻推向极致后

11、，13.5nm极紫外（EUV）光刻技术的到来又进一步使得更高的分辨率成为可能。另外除可见光及紫外光以外，电子束、X射线、离子束等也都可作为曝光光源进行使用，目前利用X射线和离子束作为曝光光源的技术还处于研究阶段，未能得到商用。电子束光刻虽然能够得到极高的分辨率，但是该技术由于自身工艺的限制等原因无法高效地进行大规模量产，因而通常被用来制作光刻工艺中所需的掩膜版。在传统的干法光刻工艺中，光在光刻镜头与光刻胶之间的传播介质是空气，因此最大的数值孔径为1.0，也就是光线和光轴的最大张角为90，分辨率在NA=1.0时就达到了极限。而浸没式光刻（也称为湿法光刻）其光刻镜头和光刻胶之间被填充了水（折射率大

12、于空气），因此光能够以更大角度在光刻胶中成像，也就是等效于更加大的数值孔径，由此进一步提高了光刻工艺的分辨率。其实浸没式成像技术最早于19世纪就被提出来了，其目的是提高光学显微镜的分辨率。而这项技术真正大规模应用到现代光刻工艺中是在2007-2009年间，随着荷兰ASML公司推出数值孔径为1.35NA的XT1900i系列光刻机，193nm浸没式光刻才真正地接替193nm干法光刻。随后，再叠加一些辅助的光刻技术，比如分辨率增强技术（RET）、偏振照明、自定义照明、双/多重曝光（多重图案化技术）、自对准空间频率倍增、单方向布线设计等技术，一同推动193nm浸没式光刻技术一直延续到了10nm、7nm

13、的半导体工艺节点。第二章 项目概述一、 项目名称及建设性质（一）项目名称扬州负性光刻胶项目（二）项目建设性质本项目属于新建项目二、 项目承办单位（一）项目承办单位名称xxx（集团）有限公司（二）项目联系人孟xx（三）项目建设单位概况公司始终坚持“人本、诚信、创新、共赢”的经营理念，以“市场为导向、顾客为中心”的企业服务宗旨，竭诚为国内外客户提供优质产品和一流服务，欢迎各界人士光临指导和洽谈业务。本公司秉承“顾客至上，锐意进取”的经营理念，坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务。公司坚持“责任+爱心”的服务理念，将诚信经营、诚信服务作为企业立世之本，在服务社会、方便大众中赢得信誉、赢得市

14、场。“满足社会和业主的需要，是我们不懈的追求”的企业观念，面对经济发展步入快车道的良好机遇，正以高昂的热情投身于建设宏伟大业。公司不断推动企业品牌建设，实施品牌战略，增强品牌意识，提升品牌管理能力，实现从产品服务经营向品牌经营转变。公司积极申报注册国家及本区域著名商标等，加强品牌策划与设计，丰富品牌内涵，不断提高自主品牌产品和服务市场份额。推进区域品牌建设，提高区域内企业影响力。公司依据公司法等法律法规、规范性文件及公司章程的有关规定，制定并由股东大会审议通过了董事会议事规则，董事会议事规则对董事会的职权、召集、提案、出席、议事、表决、决议及会议记录等进行了规范。 三、 项目定位及建设理由目前

15、主流的KrF化学放大型正性光刻胶往往是具有多种取代基团的共聚物，通过调节聚合物整体的分子量和带有不同取代基团单体的配比来调节光刻胶的性能。根据KrF光刻胶的活化能，可以将KrF光刻胶分为高活化能胶（俗称高温胶，如ESCAP）和低活化能胶（低温胶，如乙缩醛类）。高温胶和低温胶因脱保护的温度差异，导致了比较明显的性能差异。此外，由于空气中存在有一定量的碱性分子，在KrF光刻胶曝光后，光刻胶会接触空气导致曝光后所产生的光酸会被空气中的碱性成分中和掉，最终会造成光刻胶灵敏度的大幅度变化，这一现象被称为曝光到显影的时间延迟问题（PED）。为了解决这一问题，工业界除了采取在洁净室、光刻机等关键地方安装化学

16、成分过滤器以外，还可以通过在光刻胶表面涂布一层保护层来隔绝空气中的碱性物质。四、 报告编制说明（一）报告编制依据1、国家经济和社会发展的长期规划，部门与地区规划，经济建设的指导方针、任务、产业政策、投资政策和技术经济政策以及国家和地方法规等；2、经过批准的项目建议书和在项目建议书批准后签订的意向性协议等；3、当地的拟建厂址的自然、经济、社会等基础资料；4、有关国家、地区和行业的工程技术、经济方面的法令、法规、标准定额资料等；5、由国家颁布的建设项目可行性研究及经济评价的有关规定；6、相关市场调研报告等。（二）报告编制原则本项目从节约资源、保护环境的角度出发，遵循创新、先进、可靠、实用、效益的指

17、导方针。保证本项目技术先进、质量优良、保证进度、节省投资、提高效益，充分利用成熟、先进经验，实现降低成本、提高经济效益的目标。1、力求全面、客观地反映实际情况，采用先进适用的技术，以经济效益为中心，节约资源，提高资源利用率，做好节能减排，在采用先进适用技术的同时，做好投资费用的控制。2、根据市场和所在地区的实际情况，合理制定产品方案及工艺路线，设计上充分体现设备的技术先进，操作安全稳妥，投资经济适度的原则。3、认真贯彻国家产业政策和企业节能设计规范，努力做到合理利用能源和节约能源。采用先进工艺和高效设备，加强计量管理，提高装置自动化控制水平。4、根据拟建区域的地理位置、地形、地势、气象、交通运

18、输等条件及安全，保护环境、节约用地原则进行布置；同时遵循国家安全、消防等有关规范。5、在环境保护、安全生产及消防等方面，本着“三同时”原则，设计上充分考虑装置在上述各方面投资，使得环境保护、安全生产及消防贯穿工程的全过程。做到以新代劳，统一治理，安全生产，文明管理。（二） 报告主要内容1、项目背景及市场预测分析；2、建设规模的确定；3、建设场地及建设条件；4、工程设计方案；5、节能；6、环境保护、劳动安全、卫生与消防；7、组织机构与人力资源配置；8、项目招标方案；9、投资估算和资金筹措；10、财务分析。五、 项目建设选址本期项目选址位于xx园区，占地面积约30.00亩。项目拟定建设区域地理位置

19、优越，交通便利，规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备，非常适宜本期项目建设。六、 项目生产规模项目建成后，形成年产xx吨负性光刻胶的生产能力。七、 建筑物建设规模本期项目建筑面积41013.62，其中：生产工程27712.30，仓储工程8794.98，行政办公及生活服务设施3364.42，公共工程1141.92。八、 环境影响本项目污染物主要为废水、废气、噪声和固废等，通过污染防治措施后，各污染物均可达标排放，并且保持相应功能区要求。本项目符合各项政策和规划，本项目各种污染物采取治理措施后对周围环境影响较小。从环境保护角度，本项目建设是可行的。九、 项目总投资及资金构成（一）项目总投资构成

20、分析本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算，项目总投资19708.98万元，其中：建设投资14732.13万元，占项目总投资的74.75%；建设期利息200.20万元，占项目总投资的1.02%；流动资金4776.65万元，占项目总投资的24.24%。（二）建设投资构成本期项目建设投资14732.13万元，包括工程费用、工程建设其他费用和预备费，其中：工程费用12749.93万元，工程建设其他费用1617.11万元，预备费365.09万元。十、 资金筹措方案本期项目总投资19708.98万元，其中申请银行长期贷款8171.39万元，其余部分由企业自筹。十一、 项目预期

21、经济效益规划目标（一）经济效益目标值（正常经营年份）1、营业收入（SP）：41700.00万元。2、综合总成本费用（TC）：34443.35万元。3、净利润（NP）：5308.00万元。（二）经济效益评价目标1、全部投资回收期（Pt）：5.73年。2、财务内部收益率：20.60%。3、财务净现值：7237.34万元。十二、 项目建设进度规划本期项目按照国家基本建设程序的有关法规和实施指南要求进行建设，本期项目建设期限规划12个月。十四、项目综合评价综上所述，本项目能够充分利用现有设施，属于投资合理、见效快、回报高项目；拟建项目交通条件好；供电供水条件好，因而其建设条件有明显优势。项目符合国家产

22、业发展的战略思想，有利于行业结构调整。主要经济指标一览表序号项目单位指标备注1占地面积20000.00约30.00亩1.1总建筑面积41013.621.2基底面积12200.001.3投资强度万元/亩470.962总投资万元19708.982.1建设投资万元14732.132.1.1工程费用万元12749.932.1.2其他费用万元1617.112.1.3预备费万元365.092.2建设期利息万元200.202.3流动资金万元4776.653资金筹措万元19708.983.1自筹资金万元11537.593.2银行贷款万元8171.394营业收入万元41700.00正常运营年份5总成本费用万元3

23、4443.356利润总额万元7077.337净利润万元5308.008所得税万元1769.339增值税万元1494.3110税金及附加万元179.3211纳税总额万元3442.9612工业增加值万元11739.0913盈亏平衡点万元15772.45产值14回收期年5.7315内部收益率20.60%所得税后16财务净现值万元7237.34所得税后第三章 项目建设单位说明一、 公司基本信息1、公司名称：xxx（集团）有限公司2、法定代表人：孟xx3、注册资本：770万元4、统一社会信用代码：xxxxxxxxxxxxx5、登记机关：xxx市场监督管理局6、成立日期：2015-3-57、营业期限：20

24、15-3-5至无固定期限8、注册地址：xx市xx区xx9、经营范围：从事负性光刻胶相关业务（企业依法自主选择经营项目，开展经营活动；依法须经批准的项目，经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动；不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。）二、 公司简介公司不断推动企业品牌建设，实施品牌战略，增强品牌意识，提升品牌管理能力，实现从产品服务经营向品牌经营转变。公司积极申报注册国家及本区域著名商标等，加强品牌策划与设计，丰富品牌内涵，不断提高自主品牌产品和服务市场份额。推进区域品牌建设，提高区域内企业影响力。公司依据公司法等法律法规、规范性文件及公司章程的有关规定，制定并由股东大会审议通过了董

25、事会议事规则，董事会议事规则对董事会的职权、召集、提案、出席、议事、表决、决议及会议记录等进行了规范。 三、 公司竞争优势（一）公司具有技术研发优势，创新能力突出公司在研发方面投入较高，持续进行研究开发与技术成果转化，形成企业核心的自主知识产权。公司产品在行业中的始终保持良好的技术与质量优势。此外，公司目前主要生产线为使用自有技术开发而成。（二）公司拥有技术研发、产品应用与市场开拓并进的核心团队公司的核心团队由多名具备行业多年研发、经营管理与市场经验的资深人士组成，与公司利益捆绑一致。公司稳定的核心团队促使公司形成了高效务实、团结协作的企业文化和稳定的干部队伍，为公司保持持续技术创新和不断扩张

26、提供了必要的人力资源保障。（三）公司具有优质的行业头部客户群体公司凭借出色的技术创新、产品质量和服务，树立了良好的品牌形象，获得了较高的客户认可度。公司通过与优质客户保持稳定的合作关系，对于行业的核心需求、产品变化趋势、最新技术要求的理解更为深刻，有利于研发生产更符合市场需求产品，提高公司的核心竞争力。（四）公司在行业中占据较为有利的竞争地位公司经过多年深耕，已在技术、品牌、运营效率等多方面形成竞争优势；同时随着行业的深度整合，行业集中度提升，下游客户为保障其自身原材料供应的安全与稳定，在现有竞争格局下对于公司产品的需求亦不断提升。公司较为有利的竞争地位是长期可持续发展的有力支撑。四、 公司主

27、要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额6648.525318.824986.39负债总额2269.231815.381701.92股东权益合计4379.293503.433284.47公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入30486.5724389.2622864.93营业利润6604.075283.264953.05利润总额5308.624246.903981.47净利润3981.473105.552866.66归属于母公司所有者的净利润3981.473105.552866.66五、 核心人员介绍1、孟

28、xx，中国国籍，无永久境外居留权，1959年出生，大专学历，高级工程师职称。2003年2月至2004年7月在xxx股份有限公司兼任技术顾问；2004年8月至2011年3月任xxx有限责任公司总工程师。2018年3月至今任公司董事、副总经理、总工程师。2、卢xx，中国国籍，无永久境外居留权，1971年出生，本科学历，中级会计师职称。2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司财务经理。2017年3月至今任公司董事、副总经理、财务总监。3、丁xx，中国国籍，无永久境外居留权，1961年出生，本科学历，高级工程师。2002年11月至今任

29、xxx总经理。2017年8月至今任公司独立董事。4、冯xx，1957年出生，大专学历。1994年5月至2002年6月就职于xxx有限公司；2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2018年3月至今任公司董事。5、蔡xx，中国国籍，1978年出生，本科学历，中国注册会计师。2015年9月至今任xxx有限公司董事、2015年9月至今任xxx有限公司董事。2019年1月至今任公司独立董事。6、何xx，1974年出生，研究生学历。2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责任公司；2006年8月至2011年3月，任xxx有限责任公司销售部副经理。2011年3月至今历任公司监事、销售

30、部副部长、部长；2019年8月至今任公司监事会主席。7、魏xx，中国国籍，无永久境外居留权，1958年出生，本科学历，高级经济师职称。1994年6月至2002年6月任xxx有限公司董事长；2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事长；2016年11月至今任xxx有限公司董事、经理；2019年3月至今任公司董事。8、史xx，中国国籍，1977年出生，本科学历。2018年9月至今历任公司办公室主任，2017年8月至今任公司监事。六、 经营宗旨公司经营国际化，股东回报最大化。七、 公司发展规划（一）公司未来发展战略公司秉承“不断超越、追求完美、诚信为本、创新为魂”的经营理念，贯彻“安全、

31、现代、可靠、稳定”的核心价值观，为客户提供高性能、高品质、高技术含量的产品和服务，致力于发展成为行业内领先的供应商。未来公司将通过持续的研发投入和市场营销网络的建设进一步巩固公司在相关领域的领先地位，扩大市场份额；另一方面公司将紧密契合市场需求和技术发展方向进一步拓展公司产品类别，加大研发推广力度，进一步提升公司综合实力以及市场地位。（二）扩产计划经过多年的发展，公司在相关领域领域积累了丰富的生产经验和技术优势，随着公司业务规模逐年增长，产能瓶颈日益显现。因此，产能提升计划是实现公司整体发展战略的重要环节。公司将以全球行业持续发展及逐渐向中国转移为依托，提高公司生产能力和生产效率，满足不断增长

32、的客户需求，巩固并扩大公司在行业中的竞争优势，提高市场占有率和公司影响力。在产品拓展方面，公司计划在扩宽现有产品应用领域的同时，不断丰富产品类型，持续提升产品质量和附加值，保持公司产品在行业中的竞争地位。（三）技术研发计划公司未来将继续加大技术开发和自主创新力度，在现有技术研发资源的基础上完善技术中心功能，规范技术研究和产品开发流程，引进先进的设计、测试等软硬件设备，提高公司技术成果转化能力和产品开发效率，提升公司新产品开发能力和技术竞争实力，为公司的持续稳定发展提供源源不断的技术动力。公司将本着中长期规划和近期目标相结合、前瞻性技术研究和产品应用开发相结合的原则，以研发中心为平台，以市场为导

33、向，进行技术开发和产品创新，健全和完善技术创新机制，从人、财、物和管理机制等方面确保公司的持续创新能力，努力实现公司新技术、新产品、新工艺的持续开发。（四）技术研发计划公司将以新建研发中心为契机，在对现有产品的技术和工艺进行持续改进、提高公司的研发设计能力、满足客户对产品差异化需求的同时，顺应行业技术发展，不断研发新工艺、新技术，不断提升产品自动化程度，在充分满足下游领域对产品质量要求不断提高的同时，强化公司自主创新能力，巩固公司技术的行业先进地位，强化公司的综合竞争实力。积极实施知识产权保护自主创新、自主知识产权和自主品牌是公司今后持续发展的关键。自主知识产权是自主创新的保障，公司未来三年将

34、重点关注专利的保护，依靠自主创新技术和自主知识产权，提高盈利水平。公司计划在未来三年内大量引进或培养技术研发、技术管理等专业人才，以培养技术骨干为重点建设内容，建立一支高、中、初级专业技术人才合理搭配的人才队伍，满足公司快速发展对人才的需要。公司将采用各种形式吸引优秀的科技人员。包括：提高技术人才的待遇；通过与高校、科研机构联合，实行对口培训等形式，强化技术人员知识更新；积极拓宽人才引进渠道，实行就地取才、内部挖掘和面向社会广揽人才相结合。确保公司产品的高技术含量，充分满足客户的需求，使公司在激烈的市场竞争中立于不败之地。公司将加强与高等院校、研发机构的合作与交流，整合产、学、研资源优势，通过

35、自主研发与合作开发并举的方式，持续提升公司技术研发水平，提升公司对重大项目的攻克能力，提高自身研发技术水平，进一步强化公司在行业内的影响力。（五）市场开发规划公司根据自身技术特点与销售经验，制定了如下市场开发规划：首先，公司将以现有客户为基础，在努力提升产品质量的同时，以客户需求为导向，在各个方面深入了解客户需求，以求充分满足客户的差异化需求，从而不断增加现有客户订单；其次，公司将在稳定与现有客户合作关系的同时，凭借公司成熟的业务能力及优质的产品质量逐步向新的客户群体拓展，挖掘新的销售市场；最后，公司将不断完善营销网络建设，提升公司售后服务能力，从而提升公司整体服务水平，实现整体业务的协同及平

36、衡发展。（六）人才发展规划人才是公司发展的核心资源，为了实现公司总体战略目标，公司将健全人力资源管理体系，制定科学的人力资源开发计划，进一步建立完善的培训、薪酬、绩效和激励机制，最大限度的发挥人才潜力，为公司的可持续发展提供人才保障。公司将立足于未来发展需要，进一步加快人才引进。通过专业化的人力资源服务和评估机制，满足公司的发展需要。一方面，公司将根据不同部门职能，有针对性的招聘专业化人才：管理方面，公司将建立规范化的内部控制体系，根据需要招聘行业内专业的管理人才，提升公司整体管理水平；技术方面，公司将引进行业内优秀人才，提升公司的技术创新能力，增加公司核心技术储备，并加速成果转化，确保公司技

37、术水平的领先地位。另一方面，公司将建立人才梯队，以培养管理和技术骨干为重点，有计划地吸纳各类专业人才进入公司，形成高、中、初级人才的塔式人才结构，为公司的长远发展储备力量。培训是企业人力资源整合的重要途径，未来公司将强化现有培训体系的建设，建立和完善培训制度，针对不同岗位的员工制定科学的培训计划，并根据公司的发展要求及员工的发展意愿，制定员工的职业生涯规划。公司将采用内部交流课程、外聘专家授课及先进企业考察等多种培训方式提高员工技能。人才培训的强化将大幅提升员工的整体素质，使员工队伍进一步适应公司的快速发展步伐。公司将制定具有市场竞争力的薪酬结构，制定和实施有利于人才成长和潜力挖掘的激励政策。

38、根据员工的服务年限及贡献，逐步提高员工待遇，激发员工的创造性和主动性，为员工提供广阔的发展空间，全力打造团结协作、拼搏进取、敬业爱岗、开拓创新的员工队伍，从而有效提高公司凝聚力和市场竞争力。第四章 背景、必要性分析一、 大陆晶圆代工厂成熟制程快速扩建，国产光刻胶企业迎来重大机遇半导体工业沿摩尔定律向前发展，光刻技术是基石。摩尔定律的延续离不开光刻技术的进步，目前全球最为顶尖且实现量产的光刻工艺为台积电的5nm制程工艺（2020年），3nm制程工艺预计将于2022年正式投产。而大陆方面，最为领先的晶圆代工企业中芯国际已于2021年实现7nm制程工艺的突破，但仍与世界顶尖水平存在着约2代技术的差距

39、，对应的技术研发周期约为3-4年。半导体光刻胶为晶圆制造核心材料，大陆产品仍存较大技术差距。在所有的晶圆制造材料中，半导体光刻胶凭借其复杂且精准的成分组成要求而具有最高的价值含量。半导体光刻胶产品由低端到高端可分为g线、i线、KrF、ArF和EUV光刻胶，最高端的EUV光刻胶基本被日本和美国企业所垄断。大陆方面目前仅实现了KrF光刻胶的量产，ArF光刻胶产品仍处于下游客户验证阶段并未形成实际性的量产产能，而最高端的EUV光刻胶的技术储备近乎空白。行业政策与“大基金”加持，助力光刻胶突破“卡脖子”技术壁垒。“十四五”规划提出了“强化国家战略科技力量”的方针，重点强调要从“卡脖子”问题清单和国家重

40、大需求中找出科学问题。集成电路的产业发展一直是我国的“卡脖子”问题之一，其中半导体光刻胶等产品领域存在有明显的“受制于人”的问题，而突破这些“卡脖子”技术壁垒必将成为践行“强化国家战略科技力量”这一宏观战略的重点之一。自2014年6月国务院发布国家集成电路产业发展推进纲要以来，国家不断地通过政策、科研专项基金、产业基金等多种形式为国内光刻胶企业的发展提供支持。大陆晶圆代工产能增速全球第一，聚焦成熟制程利好国产化推进。根据SIA和BCG预测，2021-2030年期间中国大陆的晶圆代工产能增速在全球范围内将排名第一。伴随着大陆晶圆代工产能的快速扩张，特别是28nm及以上成熟制程晶圆代工产能快速扩张

41、，大陆市场对于光刻胶等半导体材料的需求将与日俱增。而中美贸易摩擦对于半导体材料的限制或禁运，将加快国内已实现量产突破的产品向国内晶圆代工厂商的导入进度。同时，半导体光刻胶企业在获得持续订单后有望形成正反馈循环，依靠可持续性的资金流入，推动现有半导体光刻胶产品的产能扩增及新一代半导体光刻胶产品的研发。二、 负性光刻胶最传统的光刻胶光刻胶在经过曝光后，被曝光区域变得可溶于显影剂的为正性光刻胶，反之被曝光区域变得不溶于显影剂的则被称为负性光刻胶。早期的光刻胶材料，如犹太沥青、重铬明胶及其他重铬酸盐胶，都是负性光刻胶。在早期的接触式光刻时代，负性光刻胶因其较高的化学稳定性和较好的成像能力，广泛应用于集

42、成电路板和微电子器件的制造领域。最早的用于电子工业上的光刻胶是由Eastman-Kodak公司于1954年生产出来的聚乙烯醇肉桂酸酯系负性光刻胶，而负性光刻胶中应用最为广泛的则是环化橡胶-双叠氮系负性光刻胶。环化橡胶-双叠氮系负性光刻胶由Kodak公司于1958年研发成功，其感光范围为280460nm。该类光刻胶在硅片上具有良好的粘附性，同时具有感光速度快、感光范围宽、抗湿法刻蚀能力强等优点。该类光刻胶以环化橡胶为成膜树脂，以芳香族双叠氮化合物作为交联剂，在紫外光照射下，交联剂发生光化学反应产生自由基使得不同成膜聚合物分子间发生交联，从而变为具有不溶性的聚合物，展现出负性光刻胶的特质。虽然称负

43、性光刻胶的曝光区具有“不溶性”、非曝光区具有“可溶性”，但是实际上通过曝光引起的化学交联作用不足以完全抑制曝光区光刻胶与溶剂之间的相互作用，曝光区光刻胶在显影过程中会发生溶胀现象。由于溶胀现象的产生，导致光刻胶对于衬底的附着力降低，同时也会使得曝光区光刻胶的图案变形。在微米级别的光刻工艺中，溶胀现象所导致的图案变形问题可以通过选择合适的显影液或其他手段来进行控制，对于整体微观图案的尺寸影响程度不大。然而随着光刻工艺分辨率需求的不断提升，特征尺寸在不断缩小，负性光刻胶的溶胀问题的负面影响更加凸显，导致其难以应用于分辨率在2m以下的光刻工艺中。三、 半导体工业发展的基石光刻技术1904年英国物理学

44、家弗莱明发明了二级检波管（弗莱明管），1907年美国发明家弗雷斯特发明了第一只真空三极管，而世界上第一台通用电子计算机ENIAC则于1946年由约翰冯诺依曼等人在美国发明完成。ENIAC由17,468个电子管和7,200根晶体二极管构成，重量高达30英吨，占地达170平方米。1947年12月，美国贝尔实验室正式成功演示了第一个基于锗半导体的具有放大功能的点接触式晶体管，并于1954年开发出了第一台晶体管化计算机TRADIC。TRADIC由700个晶体管和10,000个锗二极管构成。 现如今已经来到21世纪20年代，在ENIAC和TRADIC发布大半个世纪后，华为公司于2020年10月22日发布

45、了截至当时全球最为先进的芯片产品之一基于5nm工艺制程的手机SoC芯片麒麟9000。麒麟9000集成了多达15,300,000,000个晶体管，将手机所需的CPU、GPU、NPU、ISP、安全系统和5G通信基带等计算单元都集成于一体。与ENIAC和TRADIC相比，麒麟9000的电子元器件数量增加了约100万倍，但整体的器件体积和质量却有了极大程度的缩小，搭载有麒麟9000芯片的华为Mate40Pro手机的重量仅为212克。从ENIAC和TRADIC到麒麟9000，这反映了全球科技的高速发展，而更确切地说这代表着全球半导体集成电路（IC）工艺的飞跃。19世纪50年代末，仙童（Fairchild

46、）半导体公司发明了基于掩膜版的曝光和刻蚀技术，极大地推动了半导体技术革命，该技术也一直沿用至今。1965年，时任仙童半导体公司研究开发实验室主任的戈登摩尔（GordonMoore）在电子学（Electronics）上发表了题为让集成电路填满更多的元件（CrammingMoreComponentsOntoIntergratedCircuits）的文章，并首次提出了被后世奉为“计算机第一定律”的经验性规律摩尔定律：当价格不变时，集成电路上可以容纳的元器件的数目，每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。在过去的数十年间，整个半导体工业都始终遵循着摩尔定律向前不断发展。基于现有的晶圆制造工艺

47、规划情况，摩尔定律在未来至少5-10年内仍将保持着“生命力”。半导体工业能够沿着摩尔定律向前发展离不开光刻工艺的不断进步，在光刻领域，对于摩尔定律其实还存在另外一种解读：每18-24个月，利用光刻工艺在集成电路板上所能形成的最小图案的特征尺寸将缩小30%。光刻工艺是半导体制造中通过化学或物理方法进行图案转移的技术。现代光刻工艺通过光学成像系统将掩膜版上的电路设计图样，使用特定波长的光投影到涂覆有光刻胶的硅片上，使其感光并发生化学性质及溶解性的转变，而后再通过显影、刻蚀、去胶等步骤将原掩膜版上的图案信息转移到带有电介质或者金属层的硅片上。在整个芯片制造过程中可能需要进行数十次的光刻，光刻工艺的成

48、本约为整个芯片制造工艺的30%，耗时约占整个芯片生产环节的40%-50%。光刻工艺的精密度决定了集成电路的关键尺寸，奠定了器件微缩的基础，即得到更短的沟道长度和实现更低的工作电压。四、 积极拓展内外市场加快融入新发展格局牢牢把握扩大内需战略基点，以优化供给质量助推消费活力提升，不断拓展投资新空间，健全完善消费环境和政策体系，加快建设长三角区域消费中心城市。（一）加快建设区域消费中心城市建设“世界美食之都”。放大“世界美食之都”品牌效应，积极打造世界美食集聚区，建设一批美食示范店和美食文化展示窗口，推进扬州三把刀特色步行街、东关街国庆路老字号集聚区等特色商业街区建设，支持扬州大学中餐繁荣基地建设

49、，推动商文旅融合发展。提档升级中国淮扬菜博物馆，推出一批美食网红店、“打卡地”，推动淮扬美食标准化、产业化、连锁化发展。（二）全面提升消费供给质量全面提升消费供给品质，加快实施进口产品替代，提升市级优质产品品牌，培育一批展现扬州商品、服务品质形象的本土品牌和企业。深化全国质量强市示范城市建设，开展质量提升行动。（三）优化完善消费环境改善消费环境。进一步完善商贸流通布局，健全现代流通体系，提升商贸流通现代化水平，增强消费供给能力。（四）拓展投资新空间发挥投资对优化供给结构的关键作用，着力优化投资结构，保持投资合理增长。完善重大项目建设、储备和推进机制，聚焦制造业、服务业、基础设施、文旅、民生、区

50、域性开发、商住一体化、农业休闲等八大领域，继续梳排和精准实施一批打基础、利长远、补短板的重大工程项目，切实增强投资对高质量发展的支撑和拉动作用。积极推动财政政策、货币政策同消费、投资、就业、产业等政策形成合力，着力提高投资质量和效益，促进产业和消费“双升级”。坚持要素跟着项目走、项目跟着规划走，构建项目与财政性建设资金、银行贷款、社会资本等要素匹配机制。创造公平、宽松的环境，不断降低投资成本，切实提升投资回报率，激励投资增长。五、 构建以智能融合发展为导向的现代产业体系以实体经济为着力点，强化产业链思维，以智能制造和工业互联网为主攻方向，构建具有扬州特色的现代产业体系，推进产业基础高级化和产业

51、链现代化，推动向产业价值链高端攀升，全面提升产业竞争力。（一）做大做强先进制造业集群推动先进制造业集群专业化链条化发展。实施产业基础再造行动。引导制造业向分工细化、协作紧密方向发展，围绕沿328国道、连淮扬镇高铁两大产业发展带，重点巩固提升汽车及零部件、高端装备、新型电力装备等优势支柱产业，培育做大软件和信息服务、生物医药和新型医疗器械、航空等新兴产业，转型提升高端纺织和服装、食品等传统特色产业。实施产业链提升计划。（二）培育壮大战略性新兴产业实施新动能培育计划。突出高端化、特色化、品牌化、集聚化，以增量优化带动存量调整，推动战略性新兴产业在空间、资源、人才等方面有效集聚。加速发展高端数控机床

52、与智能装备、智能网联汽车及零部件、航空科技与制造、新光源与新材料、数字科技与新型元器件、生物医药等特色新兴产业；超前布局人工智能、虚拟现实、数字创意等前瞻新兴产业；跟踪关注未来能源（氢能源）、未来材料、未来制造等未来产业，加快培育一批各具特色、优势互补、结构合理的战略性新兴产业集群。到2025年，战略性新兴产业产值占规上工业总产值比重达到40%左右。（三）转型发展建筑业坚持“一业为主、多元发展”原则，持续巩固壮大土建主业，大力发展绿色装配式建筑产业，拓展高端设备安装、信息智能化、市政路桥、生态环保等土建关联产业，发展综合开发、建筑设计、建材、咨询等建筑服务行业。（四）高质量发展现代服务业培育壮

53、大生产性服务业。以专业化、网络化和向价值链高端延伸为方向，围绕全产业链整合优化，提升生产性服务业有效供给，大力发展科技服务、服务外包、现代物流、软件信息等现代服务业，带动制造业流程再造、业务延伸、模式创新。聚焦城市功能完善和推动产城融合，积极发展现代金融、商务服务、会展经济、楼宇经济等服务业态。鼓励企业运用现代信息技术创新产品和服务，不断提升核心竞争力。到2025年，生产性服务业增加值占服务业增加值比重稳步提升。（五）高水平发展数字经济大力发展数字产业。加快发展大数据、云计算、人工智能，培育未来网络、新一代人工智能、区块链等新兴数字产业，推动数字经济与其他领域融合创新发展，打造一批基于城市与产

54、业发展的应用场景。围绕满足多样化消费需求，以数字技术融合应用推动服务模式和业态创新，推动贸易、物流、文创、零售等行业数字化创新发展。加快平台经济、共享经济、体验经济发展。（六）加强现代企业家队伍建设着力建设企业家队伍。聚焦培育大企业集团、国内领先企业和行业领军企业，着力培养一批擅长国际化经营管理、具有国际市场影响力的企业家、经营业绩突出的知名企业家以及富有创新精神和工匠精神、具有行业或区域影响力的企业家。六、 项目实施的必要性（一）现有产能已无法满足公司业务发展需求作为行业的领先企业，公司已建立良好的品牌形象和较高的市场知名度，产品销售形势良好，产销率超过 100%。预计未来几年公司的销售规模

55、仍将保持快速增长。随着业务发展，公司现有厂房、设备资源已不能满足不断增长的市场需求。公司通过优化生产流程、强化管理等手段，不断挖掘产能潜力，但仍难以从根本上缓解产能不足问题。通过本次项目的建设，公司将有效克服产能不足对公司发展的制约，为公司把握市场机遇奠定基础。（二）公司产品结构升级的需要随着制造业智能化、自动化产业升级，公司产品的性能也需要不断优化升级。公司只有以技术创新和市场开发为驱动，不断研发新产品，提升产品精密化程度，将产品质量水平提升到同类产品的领先水准，提高生产的灵活性和适应性，契合关键零部件国产化的需求，才能在与国外企业的竞争中获得优势，保持公司在领域的国内领先地位。第五章 产品

56、方案分析一、 建设规模及主要建设内容（一）项目场地规模该项目总占地面积20000.00（折合约30.00亩），预计场区规划总建筑面积41013.62。（二）产能规模根据国内外市场需求和xxx（集团）有限公司建设能力分析，建设规模确定达产年产xx吨负性光刻胶，预计年营业收入41700.00万元。二、 产品规划方案及生产纲领本期项目产品主要从国家及地方产业发展政策、市场需求状况、资源供应情况、企业资金筹措能力、生产工艺技术水平的先进程度、项目经济效益及投资风险性等方面综合考虑确定。具体品种将根据市场需求状况进行必要的调整，各年生产纲领是根据人员及装备生产能力水平，并参考市场需求预测情况确定，同时，

57、把产量和销量视为一致，本报告将按照初步产品方案进行测算。产品规划方案一览表序号产品（服务）名称单位单价（元）年设计产量产值1负性光刻胶吨xx2负性光刻胶吨xx3负性光刻胶吨xx4.吨5.吨6.吨合计xx41700.00分类标准：对于半导体光刻胶的分类有多种标准，常用的分类标准包括有：（1）以曝光后光刻胶在显影液中的溶解度变化分为正性光刻胶和负性光刻胶；（2）针对正性光刻胶以是否使用化学放大（ChemicallyAmplified）机制可分为化学放大型光刻胶和非化学放大型光刻胶；（3）以所使用的光刻工艺可分为紫外宽谱光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子束

58、光刻胶等。第六章 项目选址一、 项目选址原则1、符合城乡建设总体规划，应符合当地工业项目占地使用规划的要求，并与大气污染防治、水资源和自然生态保护相一致。2、项目选址应避开自然保护区、风景名胜区、生活饮用水源地和其它特别需要保护的敏感性目标。3、节约土地资源，充分利用空闲地、非耕地或荒地，尽可能不占良田或少占耕地。4、项目选址选择应提供足够的场地以满足工艺及辅助生产设施的建设需要。5、项目选址应具备良好的生产基础条件，水源、电力、运输等生产要素供应充裕，能源供应有可靠的保障。6、项目选址应靠近交通主干道，具备便利的交通条件，有利于原料和产成品的运输。通讯便捷，有利于及时反馈市场信息。7、地势平

59、缓，便于排除雨水和生产、生活废水。8、应与居民区及环境污染敏感点有足够的防护距离。二、 建设区基本情况扬州市地处江苏省中部，位于长江北岸、江淮平原南端。现辖区域在北纬32度15分至33度25分、东经119度01分至119度54分之间。东部与盐城市、泰州市毗邻；南部濒临长江，与镇江市隔江相望；西南部与南京市相连；西部与安徽省滁州市交界；西北部与淮安市接壤。扬州城区位于长江与京杭大运河交汇处，北纬32度24分、东经119度26分。全市东西最大距离85千米，南北最大距离125千米，总面积6591.21平方千米，其中市区面积2305.68平方千米（其中建成区面积140平方千米）、县（市）面积4285.

60、53平方千米（其中建成区面积97.8平方千米）。陆地面积4908.00平方千米，占74.46%；水域面积1683.21平方千米，占25.54%。按照二三五年远景目标的阶段性部署安排，“十四五”时期，扬州经济社会发展总体目标是：高水平全面建成小康社会成果得到全方位巩固，高质量发展走在全省前列，高品质生活大幅跃升，高效能治理成效彰显，“强富美高”新扬州建设迈上新的台阶，社会主义现代化建设新征程取得良好开局。经济发展更高质量。经济运行更加稳健，经济结构更加优化，创新能力显著提升。地区生产总值年均增速在6%左右，人均地区生产总值达到17万元。现代产业体系加快构建，“323+1”先进制造业集群竞争力大幅

61、提升，构建具有扬州特色、在全国有影响力的产业集群。服务业增加值占GDP比重达到50%以上。高新技术产业占规模以上工业产值比重达到50%，数字经济成为新的发展增长点。农业现代化走在全省前列。科技进步贡献率达68%，全社会R&D支出占GDP比重提高到2.7%左右。城乡和区域发展更加协调，县域经济支撑作用明显增强。幸福生活更高品质。就业更加充分更有质量。居民收入增长和经济增长基本同步。中等收入群体持续扩大，低收入群体增收长效机制基本建立，城乡居民收入比进一步降低。就业总量更加稳定，城镇调查失业率控制在5%左右。构建优质均衡的公共服务体系。高质量的教育体系、高水平的卫生健康体系基本建成，多层次社会保障

62、体系、多元化养老服务体系更加完善，人民群众“衣食住行康育娱”水平显著提升。美丽扬州更高颜值。美丽扬州建设的空间布局、发展路径、动力机制基本形成。生态产品供给稳步提升，生态环境质量明显改善，资源利用更加节约高效。主要污染物排放削减量达到省下达的控制目标。古城保护、老城更新与新城建设各具特色，城乡宜居品质显著提升。“世界运河之都”“世界美食之都”“东亚文化之都”品牌效应进一步放大，公共文化服务更加健全，文化产业加速发展，文旅品牌和文化标识更加彰显。对外开放更高水平。以“一带一路”沿线和东亚国家为重点的对外合作不断深化，深度融入长三角区域一体化和宁镇扬一体化，全方位参与长江经济带建设，开发园区“二次创业”持续推进、“二次振兴”基本实现，开放型经济质量和水平持续提