大理关于成立纳米级薄膜沉积设备公司可行性报告_模板范本

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1、泓域咨询/大理关于成立纳米级薄膜沉积设备公司可行性报告大理关于成立纳米级薄膜沉积设备公司可行性报告xxx投资管理公司报告说明xxx投资管理公司主要由xx有限公司和xxx(集团)有限公司共同出资成立。其中:xx有限公司出资627.00万元,占xxx投资管理公司55%股份;xxx(集团)有限公司出资513万元,占xxx投资管理公司45%股份。根据谨慎财务估算,项目总投资42265.51万元,其中:建设投资34680.18万元,占项目总投资的82.05%;建设期利息749.47万元,占项目总投资的1.77%;流动资金6835.86万元,占项目总投资的16.17%。项目正常运营每年营业收入77900.

2、00万元,综合总成本费用65917.37万元,净利润8736.52万元,财务内部收益率14.17%,财务净现值3490.87万元,全部投资回收期6.75年。本期项目具有较强的财务盈利能力,其财务净现值良好,投资回收期合理。钙钛矿太阳能电池是以钙钛矿晶体为吸光材料的一种新型太阳能电池技术。与其它太阳能电池材料相比,有机无机杂化钙钛矿材料的吸光系数高、载流子传输距离长、缺陷容忍度高、带隙可调,非常适合制备高效太阳能电池。但由于电池本身受温度及湿度影响,化学键合作用弱,易形变,光致衰退明显,因此稳定性问题仍未解决,尚处于小规模试验阶段。本报告为模板参考范文,不作为投资建议,仅供参考。报告产业背景、市

3、场分析、技术方案、风险评估等内容基于公开信息;项目建设方案、投资估算、经济效益分析等内容基于行业研究模型。本报告可用于学习交流或模板参考应用。目录第一章 拟成立公司基本信息8一、 公司名称8二、 注册资本8三、 注册地址8四、 主要经营范围8五、 主要股东8公司合并资产负债表主要数据9公司合并利润表主要数据9公司合并资产负债表主要数据11公司合并利润表主要数据11六、 项目概况11第二章 行业、市场分析15一、 光伏行业概览15二、 薄膜沉积技术概况16三、 光伏设备行业20第三章 公司筹建方案23一、 公司经营宗旨23二、 公司的目标、主要职责23三、 公司组建方式24四、 公司管理体制24

4、五、 部门职责及权限25六、 核心人员介绍29七、 财务会计制度30第四章 项目背景及必要性37一、 半导体薄膜沉积设备的发展情况37二、 行业发展面临的机遇与挑战43三、 激发人才创新创造活力45四、 项目实施的必要性46第五章 法人治理48一、 股东权利及义务48二、 董事51三、 高级管理人员56四、 监事58第六章 发展规划60一、 公司发展规划60二、 保障措施61第七章 项目环境保护64一、 环境保护综述64二、 建设期大气环境影响分析65三、 建设期水环境影响分析65四、 建设期固体废弃物环境影响分析66五、 建设期声环境影响分析66六、 环境影响综合评价68第八章 风险评估分析

5、69一、 项目风险分析69二、 公司竞争劣势72第九章 项目选址分析73一、 项目选址原则73二、 建设区基本情况73三、 加强区域开放平台建设75四、 强化科技创新驱动75五、 项目选址综合评价76第十章 项目经济效益78一、 基本假设及基础参数选取78二、 经济评价财务测算78营业收入、税金及附加和增值税估算表78综合总成本费用估算表80利润及利润分配表82三、 项目盈利能力分析83项目投资现金流量表84四、 财务生存能力分析86五、 偿债能力分析86借款还本付息计划表87六、 经济评价结论88第十一章 建设进度分析89一、 项目进度安排89项目实施进度计划一览表89二、 项目实施保障措施

6、90第十二章 项目投资分析91一、 投资估算的编制说明91二、 建设投资估算91建设投资估算表93三、 建设期利息93建设期利息估算表94四、 流动资金95流动资金估算表95五、 项目总投资96总投资及构成一览表96六、 资金筹措与投资计划97项目投资计划与资金筹措一览表98第十三章 总结100第十四章 补充表格102主要经济指标一览表102建设投资估算表103建设期利息估算表104固定资产投资估算表105流动资金估算表106总投资及构成一览表107项目投资计划与资金筹措一览表108营业收入、税金及附加和增值税估算表109综合总成本费用估算表109固定资产折旧费估算表110无形资产和其他资产摊

7、销估算表111利润及利润分配表112项目投资现金流量表113借款还本付息计划表114建筑工程投资一览表115项目实施进度计划一览表116主要设备购置一览表117能耗分析一览表117第一章 拟成立公司基本信息一、 公司名称xxx投资管理公司(以工商登记信息为准)二、 注册资本1140万元三、 注册地址大理xxx四、 主要经营范围经营范围:从事纳米级薄膜沉积设备相关业务(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)五、 主要股东xxx投资管理公司主要由xx有限公司和xxx(集团)有限公司发起

8、成立。(一)xx有限公司基本情况1、公司简介公司秉承“诚实、信用、谨慎、有效”的信托理念,将“诚信为本、合规经营”作为企业的核心理念,不断提升公司资产管理能力和风险控制能力。本公司秉承“顾客至上,锐意进取”的经营理念,坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务。公司坚持“责任+爱心”的服务理念,将诚信经营、诚信服务作为企业立世之本,在服务社会、方便大众中赢得信誉、赢得市场。“满足社会和业主的需要,是我们不懈的追求”的企业观念,面对经济发展步入快车道的良好机遇,正以高昂的热情投身于建设宏伟大业。2、主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产

9、总额17121.1613696.9312840.87负债总额9608.667686.937206.49股东权益合计7512.506010.005634.38公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入57615.5546092.4443211.66营业利润12147.569718.059110.67利润总额9928.197942.557446.14净利润7446.145807.995361.22归属于母公司所有者的净利润7446.145807.995361.22(二)xxx(集团)有限公司基本情况1、公司简介公司将依法合规作为新形势下实现高质量发展的基本保障,坚持合规

10、是底线、合规高于经济利益的理念,确立了合规管理的战略定位,进一步明确了全面合规管理责任。公司不断强化重大决策、重大事项的合规论证审查,加强合规风险防控,确保依法管理、合规经营。严格贯彻落实国家法律法规和政府监管要求,重点领域合规管理不断强化,各部门分工负责、齐抓共管、协同联动的大合规管理格局逐步建立,广大员工合规意识普遍增强,合规文化氛围更加浓厚。未来,在保持健康、稳定、快速、持续发展的同时,公司以“和谐发展”为目标,践行社会责任,秉承“责任、公平、开放、求实”的企业责任,服务全国。2、主要财务数据公司合并资产负债表主要数据项目2020年12月2019年12月2018年12月资产总额17121

11、.1613696.9312840.87负债总额9608.667686.937206.49股东权益合计7512.506010.005634.38公司合并利润表主要数据项目2020年度2019年度2018年度营业收入57615.5546092.4443211.66营业利润12147.569718.059110.67利润总额9928.197942.557446.14净利润7446.145807.995361.22归属于母公司所有者的净利润7446.145807.995361.22六、 项目概况(一)投资路径xxx投资管理公司主要从事关于成立纳米级薄膜沉积设备公司的投资建设与运营管理。(二)项目提出的

12、理由伴随着国家鼓励类产业政策和产业投资基金不断的落实与实施,本土半导体及其设备制造业迎来了前所未有的发展契机,而薄膜沉积设备作为半导体制造的核心设备,将会迎来巨大的进口替代市场空间。到二三五年,我州与全国全省同步基本实现社会主义现代化。全州综合经济实力进入全省前列,人均地区生产总值、中等收入群体比重力争达到全国平均水平。创新驱动发展能力明显增强,基本实现新型工业化、信息化、城镇化、农业现代化。生态环境建设取得重大成效,洱海水质稳定向好,流域生态环境质量明显改善,美丽湖区基本建成,生态保护、环境质量、资源利用走在全省前列,实现“水清、河畅、岸绿、景美”,美丽大理建设目标基本实现。具有国际影响力的

13、区域中心城市能级大幅提升,面向南亚东南亚辐射中心重要枢纽作用显著发挥。乡村振兴取得决定性进展,农业农村现代化基本实现。基本建成教育强州、人才强州、文化强州和健康大理。民族团结进步事业和平安大理、法治大理建设达到更高水平,基本实现治理体系和治理能力现代化,幸福大理建设目标基本实现。(三)项目选址项目选址位于xx,占地面积约99.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越,交通便利,规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备,非常适宜本期项目建设。(四)生产规模项目建成后,形成年产xx套纳米级薄膜沉积设备的生产能力。(五)建设规模项目建筑面积120682.15,其中:生产工程74397.31,仓储工程26

14、619.65,行政办公及生活服务设施13041.96,公共工程6623.23。(六)项目投资根据谨慎财务估算,项目总投资42265.51万元,其中:建设投资34680.18万元,占项目总投资的82.05%;建设期利息749.47万元,占项目总投资的1.77%;流动资金6835.86万元,占项目总投资的16.17%。(七)经济效益(正常经营年份)1、营业收入(SP):77900.00万元。2、综合总成本费用(TC):65917.37万元。3、净利润(NP):8736.52万元。4、全部投资回收期(Pt):6.75年。5、财务内部收益率:14.17%。6、财务净现值:3490.87万元。(八)项目

15、进度规划项目建设期限规划24个月。(九)项目综合评价项目建设符合国家产业政策,具有前瞻性;项目产品技术及工艺成熟,达到大批量生产的条件,且项目产品性能优越,是推广型产品;项目产品采用了目前国内最先进的工艺技术方案;项目设施对环境的影响经评价分析是可行的;根据项目财务评价分析,经济效益好,在财务方面是充分可行的。第二章 行业、市场分析一、 光伏行业概览1、光伏产业链情况光伏产业链从上到下依次为:晶体硅料的生产和硅棒、硅锭、硅片的加工制作;光伏电池片的生产加工;光伏电池组件的制作;光伏应用(包括电站项目开发、电站系统的集成和运营)。2、光伏行业发展概况2010年以来,全球太阳能光伏产业进入了高速发

16、展期,太阳能光伏年装机容量快速增长,上游相关行业也得到迅速发展。2011年至2020年的10年间,全球年度光伏新增装机容量和累计装机容量大幅增长,其中,新增装机容量由2011年的32.2GW增加至2020年的126.84GW,增长约4倍。IRENA根据巴黎协定制定的目标进行测算,从现在起至2050年,与能源有关的二氧化碳排放量需要每年减少3.5%左右,并在此后持续减少。因此,全球能源格局的深刻变革对于实现该协定的气候目标至关重要。随着清洁能源的使用和迅速发展,太阳能和风能将引领全球电力行业的转型,取代传统的化石燃料发电将成为可能。根据IRENA的预测,未来,风力发电将占总电力需求的三分之一以上

17、,而太阳能光伏发电将紧随其后,占总电力需求的25%,这意味着在未来十年内,太阳能光伏发电的全球总容量将从2018年的480GW,到2030年达到2,840GW,到2050年达到8,519GW。按年增长率计算,到2030年,太阳能光伏发电的年新增容量较2018年水平需要增加近3倍,达到270GW/年,到2050年,需要增加4倍,达到372GW/年。到2050年,太阳能光伏将有助于减少4.9Gt的二氧化碳年排放量,占实现巴黎气候目标所需能源部门总减排量的21%。我国太阳能光伏产业起步相对国外较晚,但受惠于全球光伏行业的高速发展,凭借国家政策的大力支持与人力资源、成本优势,发展极为迅速。截至2020

18、年底,我国光伏发电装机量达253GW,同比增长48.2%,连续6年位居全球首位;2020年新增光伏发电装机48.2GW,增幅达60.1%,连续8年位居世界第一。2020年9月中国提出了“努力争取2030年前实现碳达峰,2060年前实现碳中和”的应对气候变化新目标。根据中国光伏行业协会预测,在“碳达峰、碳中和”目标下,“十四五”期间我国光伏市场将迎来市场化建设高峰,预计国内年均光伏装机新增规模在70-90GW。二、 薄膜沉积技术概况1、基本情况薄膜沉积设备通常用于在基底上沉积导体、绝缘体或者半导体等材料膜层,使之具备一定的特殊性能,广泛应用于光伏、半导体等领域的生产制造环节。2、薄膜沉积设备技术

19、基本情况及对比薄膜沉积设备按照工艺原理的不同可分为物理气相沉积(PVD)设备、化学气相沉积(CVD)设备和原子层沉积(ALD)设备。(1)PVD物理气相沉积(PVD)技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD镀膜技术主要分为三类:真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。(2)CVD化学气相沉积(CVD)是通过化学反应的方式,利用加热、等离子或光辐射等各种能源,在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术,是一种通过

20、气体混合的化学反应在基体表面沉积薄膜的工艺,可应用于绝缘薄膜、硬掩模层以及金属膜层的沉积。(3)薄膜沉积设备技术之间对比PVD为物理过程,CVD为化学过程,两种具有显著的区别。ALD也是采用化学反应方式进行沉积,但反应原理和工艺方式与CVD存在显著区别,在CVD工艺过程中,化学蒸气不断地通入真空室内,而在ALD工艺过程中,不同的反应物(前驱体)是以气体脉冲的形式交替送入反应室中的,使得在基底表面以单个原子层为单位一层一层地实现镀膜。相比于ALD技术,PVD技术生长机理简单,沉积速率高,但一般只适用于平面的膜层制备;CVD技术的重复性和台阶覆盖性比PVD略好,但是工艺过程中影响因素较多,成膜的均

21、匀性较差,并且难以精确控制薄膜厚度。3、ALD、PVD、CVD技术应用差异PVD、CVD、ALD技术各有自己的技术特点和技术难点,经过多年的发展,亦分别发展出诸多应用领域。原子层沉积可以将物质以单原子层形式一层一层地镀在基底表面的方法。从原理上说,ALD是通过化学反应得到生成物,但在沉积反应原理、沉积反应条件的要求和沉积层的质量上都与传统的CVD不同,在传统CVD工艺过程中,化学气体不断通入真空室内,因此该沉积过程是连续的,沉积薄膜的厚度与温度、压力、气体流量以及流动的均匀性、时间等多种因素有关;在ALD工艺过程中,则是将不同的反应前驱物以气体脉冲的形式交替送入反应室中,因此并非一个连续的工艺

22、过程。ALD与CVD技术之间既存在明显的区分度,又在部分常规应用场景中存在可替代性。具体情况如下:在PERC电池背钝化Al2O3的沉积工艺中,ALD技术与PECVD技术存在互相替代的关系在2016年之前,PECVD在PERC电池背面钝化的应用被迅速推广,原因是在常规单晶电池制造工艺流程中,仅电池正面需要用PECVD镀SiNX,因此电池厂商选择PERC电池背面沉积Al2O3的方法时,PECVD技术被优先用于Al2O3的沉积。而当时的ALD技术在国外主要应用于半导体领域,大多属于单片式反应器类型,这种反应器虽然镀膜精度高,但产能较低。近年来,晶圆制造的复杂度和工序量大大提升,以逻辑芯片为例,随着9

23、0nm以下制程的产线数量增多,尤其是28nm及以下工艺的产线对镀膜厚度和精度控制的要求更高,特别是引入多重曝光技术后,工序数和设备数均大幅提高;在存储芯片领域,主流制造工艺已由2DNAND发展为3DNAND结构,内部层数不断增高;元器件逐步呈现高密度、高深宽比结构。由于ALD独特的技术优势,在每个周期中生长的薄膜厚度是一定的,拥有精确的膜厚控制和优越的台阶覆盖率,因此能够较好的满足器件尺寸不断缩小和结构3D立体化对于薄膜沉积工序中薄膜的厚度、三维共形性等方面的更高要求。ALD技术愈发体现出举足轻重、不可替代的作用。三、 光伏设备行业1、光伏设备行业发展情况按照光伏电池产业链,可将光伏设备分为硅

24、片设备、电池片设备、组件设备,其中硅片设备主要包括多晶铸锭炉、单晶炉、切片机、切断机、硅片检测分选设备等;电池片设备主要包括清洗制绒设备、扩散炉、刻蚀设备、镀膜设备、激光开槽设备、丝网印刷机等;组件设备主要包括划片机、自动串焊机、自动叠层设备、层压机、自动包装机等。我国光伏电池设备制造企业通过工艺与装备的创新融合,以提高设备产能、自动化程度及转换效率为目标,同时适应大硅片生产,已具备了成套工艺设备的供应能力,基本实现设备国产替代,并在国际竞争中处于优势地位。自2010年以来,中国一直是全球最大的光伏设备市场。2018年,我国光伏设备产业规模达到了220亿元。2019年达到了250亿元,同比增长

25、13.6%。2020年,虽然存在新冠疫情等客观不利因素,但我国主要光伏企业均发布了产能扩张计划,相关设备厂商订单不断增加,光伏设备产业规模超过280亿元,仍保持增长。在光伏行业“降本增效”的发展趋势推动下,新产品、新技术层出不穷,相应量产和扩产需求催生更多的生产设备需求,在国内巨大市场需求拉动下,光伏设备厂商收入快速增长。2、光伏薄膜沉积设备应用情况光伏薄膜沉积设备主要应用于太阳能晶硅电池片的制造环节,根据电池不同工艺和所需的薄膜性质,所采用的薄膜沉积设备会有所不同。2018年-2020年,我国新建产线已基本全部为PERC产线,针对目前已经大规模生产的PERC电池生产技术,生产设备基本实现国产

26、化,其中薄膜沉积设备主要用于PERC电池的钝化和减反膜的制备。对于新型高效电池来说,目前产业化前景最为明确的TOPCon电池和HJT电池对于薄膜沉积的需求更高。TOPCon电池生产线可以由PERC电池生产线升级改造实现,除原薄膜沉积需求外,还增加了隧穿层和掺杂多晶硅层镀膜需求。HJT电池整体结构变化较大,其制造环节只需4大类设备,分别是制绒清洗设备(投资占比10%)、非晶硅沉积设备(投资占比50%)、透明导电薄膜设备(投资占比25%)和印刷设备(投资占比15%),其中非晶硅沉积设备、透明导电薄膜设备均需要用到薄膜沉积设备。3、光伏薄膜设备发展趋势(1)技术创新催生更多设备需求现阶段,下游光伏行

27、业发展已经由过去的粗放式、外延式发展向精细化、内涵式发展转变,高效率、低成本的产品受到行业的青睐,产品升级需求进一步提高。光伏企业从传统重视规模效益、依赖补贴,逐步转向对高效率、高性能、高品质的光伏产品的追求。在市场化愈发重要的背景下,各种技术的创新,将会催生出更多的设备需求。(2)设备研制与新型工艺更紧密地结合设备研制与新型工艺技术开发相结合成为趋势。以提高转换效率为目的采用新型工艺的电池片生产将采取设计、制造、工艺开发、设备开发与改进联合进行的方式,上下游紧密合作,既缩短设备的开发周期,同时促进先进工艺的应用,也能降低设备采购成本,进一步提高国内光伏企业的市场竞争力。(3)薄膜沉积在新一代

28、光伏设备中投资比重增加由于TOPCon电池生产线可以由现有PECR电池生产线升级改造完成,而且目前TOPCon电池生产线单位投资规模和运营成本明显低于HJT电池生产线,因此TOPCon电池生产线在N型电池线建设中进展显著。根据上市公司披露的项目投资明细,TOPCon(含未披露具体技术类型的N型电池)产线每GW平均投资规模高于PERC产线。第三章 公司筹建方案一、 公司经营宗旨依据有关法律、法规,自主开展各项业务,务实创新,开拓进取,不断提高产品质量和服务质量,改善经营管理,促进企业持续、稳定、健康发展,努力实现股东利益的最大化,促进行业的快速发展。二、 公司的目标、主要职责(一)目标近期目标:

29、深化企业改革,加快结构调整,优化资源配置,加强企业管理,建立现代企业制度;精干主业,分离辅业,增强企业市场竞争力,加快发展;提高企业经济效益,完善管理制度及运营网络。远期目标:探索模式创新、制度创新、管理创新的产业发展新思路。坚持发展自主品牌,提升企业核心竞争力。此外,面向国际、国内两个市场,优化资源配置,实施多元化战略,向产业集团化发展,力争利用3-5年的时间把公司建设成具有先进管理水平和较强市场竞争实力的大型企业集团。(二)主要职责1、执行国家法律、法规和产业政策,在国家宏观调控和行业监管下,以市场需求为导向,依法自主经营。2、根据国家和地方产业政策、纳米级薄膜沉积设备行业发展规划和市场需

30、求,制定并组织实施公司的发展战略、中长期发展规划、年度计划和重大经营决策。3、深化企业改革,加快结构调整,转换企业经营机制,建立现代企业制度,强化内部管理,促进企业可持续发展。4、指导和加强企业思想政治工作和精神文明建设,统一管理公司的名称、商标、商誉等无形资产,搞好公司企业文化建设。5、在保证股东企业合法权益和自身发展需要的前提下,公司可依照公司法等有关规定,集中资产收益,用于再投入和结构调整。三、 公司组建方式xxx投资管理公司主要由xx有限公司和xxx(集团)有限公司共同出资成立。其中:xx有限公司出资627.00万元,占xxx投资管理公司55%股份;xxx(集团)有限公司出资513万元

31、,占xxx投资管理公司45%股份。四、 公司管理体制xxx投资管理公司实行董事会领导下的总经理负责制,各部门按其规定的职能范围,履行各自的管理服务职能,而且直接对总经理负责;公司建立完善的营销、供应、生产和品质管理体系,确立各部门相应的经济责任目标,加强产品质量和定额目标管理,确保公司生产经营正常、有效、稳定、安全、持续运行,有力促进企业的高效、健康、快速发展。总经理的主要职责如下:1、全面领导企业的日常工作;对企业的产品质量负责;向本公司职工传达满足顾客和法律法规要求的重要性;2、制定并正式批准颁布本公司的质量方针和质量目标,采取有效措施,保证各级人员理解质量方针并坚持贯彻执行;3、负责策划

32、、建立本公司的质量管理体系,批准发布本公司的质量手册;4、明确所有与质量有关的职能部门和人员的职责权限和相互关系;5、确保质量管理体系运行所必要的资源配备;6、任命管理者代表,并为其有效开展工作提供支持;7、定期组织并主持对质量管理体系的管理评审,以确保其持续的适宜性、充分性和有效性。五、 部门职责及权限(一)综合管理部1、协助管理者代表组织建立文件化质量体系,并使其有效运行和持续改进。2、协助管理者代表,组织内部质量管理体系审核。3、负责本公司文件(包括记录)的管理和控制。4、负责本公司员工培训的管理,制订并实施员工培训计划。5、参与识别并确定为实现产品符合性所需的工作环境,并对工作环境中与

33、产品符合性有关的条件加以管理。(二)财务部1、参与制定本公司财务制度及相应的实施细则。2、参与本公司的工程项目可信性研究和项目评估中的财务分析工作。3、负责董事会及总经理所需的财务数据资料的整理编报。4、负责对财务工作有关的外部及政府部门,如税务局、财政局、银行、会计事务所等联络、沟通工作。5、负责资金管理、调度。编制月、季、年度财务情况说明分析,向公司领导报告公司经营情况。6、负责销售统计、复核工作,每月负责编制销售应收款报表,并督促销售部及时催交楼款。负责销售楼款的收款工作,并及时送交银行。7、负责每月转账凭证的编制,汇总所有的记账凭证。8、负责公司总长及所有明细分类账的记账、结账、核对,

34、每月5日前完成会计报表的编制,并及时清理应收、应付款项。9、协助出纳做好楼款的收款工作,并配合销售部门做好销售分析工作。10、负责公司全年的会计报表、帐薄装订及会计资料保管工作。11、负责银行财务管理,负责支票等有关结算凭证的购买、领用及保管,办理银行收付业务。12、负责先进管理,审核收付原始凭证。13、负责编制银行收付凭证、现金收付凭证,登记银行存款及现金日记账,月末与银行对账单和对银行存款余额,并编制余额调节表。14、负责公司员工工资的发放工作,现金收付工作。(三)投资发展部1、调查、搜集、整理有关市场信息,并提出投资建议。2、拟定公司年度投资计划及中长期投资计划。3、负责投资项目的储备、

35、筛选、投资项目的可行性研究工作。4、负责经董事会批准的投资项目的筹建工作。5、按照国家产业政策,负责公司产业结构、投资结构的调整。6、及时完成领导交办的其他事项。(四)销售部1、协助总经理制定和分解年度销售目标和销售成本控制指标,并负责具体落实。2、依据公司年度销售指标,明确营销策略,制定营销计划和拓展销售网络,并对任务进行分解,策划组织实施销售工作,确保实现预期目标。3、负责收集市场信息,分析市场动向、销售动态、市场竞争发展状况等,并定期将信息报送商务发展部。4、负责按产品销售合同规定收款和催收,并将相关收款情况报送商务发展部。5、定期不定期走访客户,整理和归纳客户资料,掌握客户情况,进行有

36、效的客户管理。6、制定并组织填写各类销售统计报表,并将相关数据及时报送商务发展部总经理。7、负责市场物资信息的收集和调查预测,建立起牢固可靠的物资供应网络,不断开辟和优化物资供应渠道。8、负责收集产品供应商信息,并对供应商进行质量、技术和供就能力进行评估,根据公司需求计划,编制与之相配套的采购计划,并进行采购谈判和产品采购,保证产品供应及时,确保产品价格合理、质量符合要求。9、建立发运流程,设计最佳运输路线、运输工具,选择合格的运输商,严格按公司下达的发运成本预算进行有效管理,定期分析费用开支,查找超支、节支原因并实施控制。10、负责对部门员工进行业务素质、产品知识培训和考核等工作,不断培养、

37、挖掘、引进销售人才,建设高素质的销售队伍。六、 核心人员介绍1、段xx,中国国籍,无永久境外居留权,1970年出生,硕士研究生学历。2012年4月至今任xxx有限公司监事。2018年8月至今任公司独立董事。2、汤xx,1974年出生,研究生学历。2002年6月至2006年8月就职于xxx有限责任公司;2006年8月至2011年3月,任xxx有限责任公司销售部副经理。2011年3月至今历任公司监事、销售部副部长、部长;2019年8月至今任公司监事会主席。3、赵xx,中国国籍,无永久境外居留权,1961年出生,本科学历,高级工程师。2002年11月至今任xxx总经理。2017年8月至今任公司独立董

38、事。4、龙xx,中国国籍,无永久境外居留权,1958年出生,本科学历,高级经济师职称。1994年6月至2002年6月任xxx有限公司董事长;2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事长;2016年11月至今任xxx有限公司董事、经理;2019年3月至今任公司董事。5、白xx,中国国籍,无永久境外居留权,1971年出生,本科学历,中级会计师职称。2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司财务经理。2017年3月至今任公司董事、副总经理、财务总监。6、肖xx,中国国籍,1977年出生,本科学历。2018年9月至今历任公司

39、办公室主任,2017年8月至今任公司监事。7、严xx,1957年出生,大专学历。1994年5月至2002年6月就职于xxx有限公司;2002年6月至2011年4月任xxx有限责任公司董事。2018年3月至今任公司董事。8、方xx,中国国籍,1976年出生,本科学历。2003年5月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理;2003年11月至2011年3月任xxx有限责任公司执行董事、总经理;2004年4月至2011年9月任xxx有限责任公司执行董事、总经理。2018年3月起至今任公司董事长、总经理。七、 财务会计制度(一)财务会计制度1、公司依照法律、行政法规和国家有关部门的规定,制

40、定公司的财务会计制度。上述财务会计报告按照有关法律、行政法规及部门规章的规定进行编制。2、公司除法定的会计账簿外,将不另立会计账簿。公司的资产,不以任何个人名义开立账户存储。3、公司分配当年税后利润时,应当提取利润的10%列入公司法定公积金。公司法定公积金累计额为公司注册资本的50%以上的,可以不再提取。公司的法定公积金不足以弥补以前年度亏损的,在依照前款规定提取法定公积金之前,应当先用当年利润弥补亏损。公司从税后利润中提取法定公积金后,经股东大会决议,还可以从税后利润中提取任意公积金。公司弥补亏损和提取公积金后所余税后利润,按照股东持有的股份比例分配,但本章程规定不按持股比例分配的除外。股东

41、大会违反前款规定,在公司弥补亏损和提取法定公积金之前向股东分配利润的,股东必须将违反规定分配的利润退还公司。公司持有的本公司股份不参与分配利润。4、公司的公积金用于弥补公司的亏损、扩大公司生产经营或者转为增加公司资本。但是,资本公积金将不用于弥补公司的亏损。法定公积金转为资本时,所留存的该项公积金将不少于转增前公司注册资本的25%。5、公司股东大会对利润分配方案作出决议后,公司董事会须在股东大会召开后2个月内完成股利(或股份)的派发事项。6、公司利润分配政策为:公司采取积极的现金方式分配利润,即公司当年度实现盈利,在依法提取法定公积金、盈余公积金后进行利润分配。(1)利润分配原则公司的利润分配

42、应重视对投资者的合理回报并兼顾公司的可持续发展。利润分配政策应保持连续性和稳定性,并符合法律、法规的相关规定。(2)具体利润分配政策利润分配形式及间隔期:公司可以采取现金方式分配股利,公司优先采用现金方式分配利润,现金分配的比例不低于当年实现的可分配利润的10%。公司当年如实现盈利并有可供分配利润时,应每年度进行利润分配。董事会可以根据公司盈利状况及资金需求状况提议公司进行中期现金分红。除非经董事会论证同意,且经独立董事发表独立意见、监事会决议通过,两次分红间隔时间原则上不少于六个月。现金分红的具体条件:公司在当年盈利且累计未分配利润为正,现金流满足公司正常生产经营和未来发展的前提下,最近三个

43、会计年度内,公司以现金形式分配的利润不少于最近三年实现的年均可分配利润的30%。公司董事会应当综合考虑所处行业特点、发展阶段、自身经营模式、盈利水平以及是否有重大资金支出安排等因素,区分下列情形,提出具体现金分红政策:公司发展阶段属成熟期且无重大资金支出安排的,进行利润分配时,现金分红在本次利润分配中所占比例最低应达到80%;公司发展阶段属成熟期且有重大资金支出安排的,进行利润分配时,现金分红在本次利润分配中所占比例最低应达到40%;公司发展阶段属成长期且无重大资金支出安排的,进行利润分配时,现金分红在本次利润分配中所占比例最低应达到20%。本章程中的“重大资金支出安排”是指公司未来十二个月内

44、拟对外投资、收购资产或购买资产累计支出达到或超过公司最近一次经审计净资产的10%。出现以下情形之一的,公司可不进行现金分红:合并报表或母公司报表当年度未实现盈利;合并报表或母公司报表当年度经营性现金流量净额或者现金流量净额为负数;合并报表或母公司报表期末资产负债率超过70%(包括70%);合并报表或母公司报表期末可供分配的利润余额为负数;公司财务报告被审计机构出具非标准无保留意见;公司在可预见的未来一定时期内存在重大资金支出安排,进行现金分红可能导致公司现金流无法满足公司经营或投资需要。(3)利润分配的决策程序和机制公司利润分配方案由董事会根据公司经营状况和有关规定拟定,并在征询监事会意见后提

45、交股东大会审议批准,独立董事应当发表明确意见。独立董事可以征集中小股东的意见,提出分红提案,并直接提交董事会审议。股东大会对现金分红具体方案进行审议时,应当通过多种渠道主动与股东特别是中小股东进行沟通和交流(包括但不限于提供网络投票表决、邀请中小股东参会等方式),充分听取中小股东的意见和诉求,并及时答复中小股东关心的问题。公司在年度报告中详细披露现金分红政策的制定及执行情况。公司董事会应在年度报告中披露利润分配方案及留存的未分配利润的使用计划安排或原则,公司当年利润分配完成后留存的未分配利润应用于发展公司经营业务。公司当年盈利但董事会未做出现金分红预案的,应在年度报告中披露未做出现金分红预案的

46、原因及未用于分红的资金留存公司的用途,独立董事发表的独立意见。公司如遇借壳上市、重大资产重组、合并分立或者因收购导致公司控制权发生变更的,应在重大资产重组报告书、权益变动报告书或者收购报告书中详细披露重组或者控制权发生变更后上市公司的现金分红政策及相应的规划安排、董事会的情况说明等信息。(4)利润分配政策调整的条件、决策程序和机制(5)利润分配方案的实施公司股东大会对利润分配方案作出决议后,董事会须在股东大会召开后两个月内完成现金分红或股利的派发事项。如存在股东违规占用公司资金情况的,公司应当扣减该股东所分配的现金红利,以偿还其占用的资金。(二)内部审计1、公司实行内部审计制度,配备专职审计人

47、员,对公司财务收支和经济活动进行内部审计监督。2、公司内部审计制度和审计人员的职责,应当经董事会批准后实施。审计负责人向董事会负责并报告工作。(三)会计师事务所的聘任1、公司聘用会计师事务所必须由股东大会决定,董事会不得在股东大会决定前委任会计师事务所。2、公司保证向聘用的会计师事务所提供真实、完整的会计凭证、会计账簿、财务会计报告及其他会计资料,不得拒绝、隐匿、谎报。3、会计师事务所的审计费用由股东大会决定。4、公司解聘或者不再续聘会计师事务所时,提前30天事先通知会计师事务所,公司股东大会就解聘会计师事务所进行表决时,允许会计师事务所陈述意见。会计师事务所提出辞聘的,应当向股东大会说明公司

48、有无不当情形。第四章 项目背景及必要性一、 半导体薄膜沉积设备的发展情况1、半导体薄膜沉积设备行业发展情况(1)薄膜沉积设备市场规模持续增长根据MaximizeMarketResearch数据统计,全球半导体薄膜沉积设备市场规模从2017年的125亿美元扩大至2020年的172亿美元,年复合增长率为11.2%。预计至2025年市场规模可达340亿美元。(2)薄膜沉积设备国产化率低我国半导体设备经过最近几年快速发展,在部分领域已有一定的进步,但整体国产设备特别在核心设备化上的国产化率仍然较低,半导体薄膜沉积设备行业基本由AMAT、ASM、Lam、TEL等国际巨头垄断。近年来随着国家对半导体产业的

49、持续投入及部分民营企业的兴起,我国半导体制造体系和产业生态得以建立和完善。半导体薄膜沉积设备的国产化率虽然由2016年的5%提升至2020年的8%,但总体占比尤其是中高端产品占比较低。(3)各类薄膜沉积设备发展态势从半导体薄膜沉积设备的细分市场上来看,CVD设备占比56%,PVD设备市占率23%,其次是ALD及其他镀膜设备。在半导体制程进入28nm后,由于器件结构不断缩小且更为3D立体化,生产过程中需要实现厚度更薄的膜层,以及在更为立体的器件表面均匀镀膜。在此背景下,ALD技术凭借优异的三维共形性、大面积成膜的均匀性和精确的膜厚控制等特点,技术优势愈加明显,在半导体薄膜沉积环节的市场占有率也将

50、持续提高。2、ALD技术在半导体薄膜沉积设备中的典型应用情况ALD技术在高k材料、金属栅、电容电极、金属互联、TSV、浅层沟道隔等工艺中均存在大量应用,广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、第三代化合物半导体等领域。(1)ALD典型应用高介电常数金属栅极(HKMG)工艺晶体管是构成逻辑电路、微处理器及记忆元件的基本单元,漏电一直是影响其良率、性能和功耗的重要影响因素。在半导体晶圆制程进入65nm及之前,集成电路主要通过沉积SiO2薄膜形成栅极介电质减少漏电;随着集成电路尺寸不断缩小,特别是制程28nm之后,传统的SiO2栅介质层物理厚度缩小至1纳米以下,达到了其物理极限,产生明显的量子隧穿效应和多晶硅

51、耗尽效应,导致漏电流急剧增加,器件性能急剧恶化。通过引入高介电常数金属栅极(HKMG)工艺,可以解决上述问题,即采用高k材料替代传统的二氧化硅栅极氧化层作为栅极介质层,TiN替代传统的多晶硅栅极作为金属栅极,高k栅氧化层与金属栅极的组合使用,不仅能够大幅减小栅极漏电流,同时因高k栅氧化层的等效氧化物厚度较薄,还能有效减低栅极电容。ALD技术凭借其精确的膜厚控制、均匀性和致密性的特点,自从英特尔在45nm技术节点将应用于栅介质薄膜制造工艺后,就被广泛应用于栅极介质层、金属栅极制备。(2)ALD典型应用电容和电极材料集成电路2D存储器件的线宽已接近物理极限,NAND闪存已进入3D时代。目前64层3

52、DNAND闪存已进入量产阶段,128层闪存也陆续有厂商开始推出,行业预期未来将叠加至500层,技术工艺还会持续推进。3DNAND制造工艺中,增加集成度的主要方法不仅是缩小单层上线宽,而且需要增加堆叠的层数,使得一些器件结构的深宽比增加至40:1,甚至是80:1的极深孔或极深的沟槽,对薄膜沉积设备等生产设备提出了更高的要求。ALD技术最早应用于DRAM存储器件的超高深宽比的电容电极制作工艺。随着3DNAND和DRAM相关技术的不断发展,等效氧化物厚度进一步下降,3DNAND和DRAM电容呈现高深宽比结构,在这种情况下,高k电容材料和电容电极的沉积只有具备优异填隙性和共形性的ALD技术才可以满足。

53、除此之外,新型存储器也在快速发展,与闪存和DRAM相比,新型存储器一般具有更高的写入速度和更长的读写寿命。以铁电存储器(FeRAM)为例,其由电容和场效应管构成,其中电容为在两个电极板中间沉淀的一层晶态的铁电晶体薄膜,该薄膜对于厚度、质量均有非常高的要求,ALD技术可以较好地满足技术指标。(3)ALD典型应用金属互联阻挡层金属互联即在集成电路片上沉积金属薄膜,并通过光刻技术形成布线,把互相隔离的元件按一定要求互连成所需电路的工艺。铜互连为金属互联的一种,而在铜互连中采用ALD的主要驱动力在于随着制程进步、TSV等先进封装工艺的发展,元件集成度提高、几何构架收缩,导致深宽比的增加,ALD技术能够

54、沉积尽可能薄的阻挡层,阻止铜和周围绝缘体之间的相互扩散,且作为粘附层促进互连铜的生长,给铜沉积留出最大的空间。3、半导体薄膜沉积设备发展趋势(1)半导体行业景气度带动设备需求增长随着半导体行业整体景气度的提升,全球半导体设备市场呈现快速增长态势,拉动市场对薄膜沉积设备需求的增加。薄膜沉积设备行业一方面长期受益于全球半导体需求增加与产线产能的扩充,另一方面受益于技术演进带来的增长机遇,包括制程进步、多重曝光与3DNAND存储技术,全球半导体薄膜沉积设备市场规模将因此高速增长。MaximizeMarketResearch预计全球半导体薄膜沉积设备市场规模在2025年将从2020年的172亿美元扩大

55、至340亿美元,保持年复合13.3%的增长速度。(2)进口替代空间巨大近年来,在国家政策的拉动和支持下,我国半导体产业快速发展,整体实力显著提升,设计、制造能力与国际先进水平不断缩小,但半导体先进设备制造仍然相对薄弱。中国制造2025对于半导体设备国产化提出明确要求:在2020年之前,90-32nm工艺设备国产化率达到50%,实现90nm光刻机国产化,封测关键设备国产化率达到50%。在2025年之前,20-14nm工艺设备国产化率达到30%,实现浸没式光刻机国产化。为推动我国半导体产业的发展,国家先后设立国家重大专项和国家集成电路基金,国家集成电路基金首期募资1,387亿元,二期募资超过2,0

56、00亿元。伴随着国家鼓励类产业政策和产业投资基金不断的落实与实施,本土半导体及其设备制造业迎来了前所未有的发展契机,而薄膜沉积设备作为半导体制造的核心设备,将会迎来巨大的进口替代市场空间。(3)薄膜要求提高衍生设备需求在晶圆制造过程中,薄膜发挥着形成导电层或绝缘层、阻挡污染物和杂质渗透、提高吸光率、阻挡刻蚀等重要作用。由于芯片的线宽越来越窄、结构越来越复杂,薄膜性能参数精细化要求也随之提高,如先进制程的前段工艺对薄膜均匀性、颗粒数量控制、金属污染控制的要求逐步提高,台阶覆盖能力强、薄膜厚度控制精准的ALD设备因此被引入产线。(4)先进制程增加导致设备市场攀升随着集成电路制造不断向更先进工艺发展

57、,单位面积集成的电路规模不断扩大,芯片内部立体结构日趋复杂,所需要的薄膜层数越来越多,对绝缘介质薄膜、导电金属薄膜的材料种类和性能参数不断提出新的要求。在90nmCMOS工艺大约需要40道薄膜沉积工序。在3nmFinFET工艺产线,则超过100道薄膜沉积工序,涉及的薄膜材料由6种增加到近20种,对于薄膜颗粒的要求也由微米级提高到纳米级。只有薄膜沉积设备的不断创新和进步才能支撑集成电路制造工艺向更小制程发展。目前,半导体行业的薄膜沉积设备中,PVD设备与CVD设备均已初步实现国产化,而ALD设备作为先进制程所必须的工艺设备,在大规模量产方面国内厂商尚未形成突破。当技术节点向14纳米甚至更小的方向

58、升级时,与PVD设备和CVD设备相比,ALD设备的必要性更加凸显。目前,基于供应链安全考虑,国内设备制造商正面临更多的机会。面对半导体设备向高精度化与高集成化方向发展的趋势,以及国产化进程加快的背景下,国产半导体ALD设备迎来前所未有的发展契机。二、 行业发展面临的机遇与挑战1、行业发展面临的机遇(1)清洁能源发展以及光伏产业降本提效带动行业持续发展过去对传统能源如煤炭、石油、天然气等化石能源的过度依赖已导致严重的生态环境问题,使得国际社会对保障能源安全、保护生态环境、应对气候变化等问题日益重视。而太阳能作为最重要的可再生能源之一,具有资源普遍可及、便于应用、成本低等优势,是替代化石能源的主力

59、能源之一,已经成为世界范围内应对气候变化的共同选择。近年来,全球多个国家陆续出台了一系列鼓励和扶持太阳能光伏产业发展的政策,为各国光伏产业的健康、持续发展创造了良好的政策环境。中国在2020年9月提出了“二氧化碳排放力争于2030年前达到峰值,努力争取2060年前实现碳中和”的目标;2021年3月12日发布的国民经济第十四个五年规划和2035年远景目标纲要指出,推进能源革命,建设清洁低碳、安全高效的能源体系,提高能源供给保障能力,加快发展非化石能源,坚持集中式和分布式并举,大力提升风电、光伏发电规模。通过数十年的持续研发,光伏产业主要原材料的价格已经大幅下降,技术不断迭代升级,光电转换效率稳步

60、提升,与之相对的,光伏领域的专用设备行业技术也将大幅提升。随着行业技术的持续进步与生产成本的不断下降,光伏发电的综合成本有望维持降低趋势。这将有助于光伏发电的大规模普及应用,进而使得高性能光伏专用设备的市场规模呈现持续扩张态势。(2)半导体产能转移以及国产替代背景使得国内设备厂商面临发展机遇中国大陆作为全球最大半导体终端产品消费市场,随着国际产能不断向中国转移,半导体企业纷纷在中国投资建厂,国内半导体产业的规模不断扩大,设备需求将不断增长。持续的产能转移不仅带动了国内半导体整体产业规模和技术水平的提高,为半导体专用设备制造业提供了巨大的市场空间,也促进了国内半导体产业专业人才的培养及配套行业的

61、发展,半导体产业环境的良性发展为中国半导体专用设备制造业产业的扩张和升级提供了机遇。在半导体领域,元器件逐步呈现高密度、高深宽比结构,部分核心工艺通过传统方式难以实现,ALD设备在该类应用中已通过国外大型集成电路晶圆制造厂商的量产验证。与此同时,从中美贸易战开始,限制了通过国际采购获得先进设备渠道。在此背景下,我国半导体设备提升国产化率的任务迫在眉睫,随着国内核心晶圆厂商规模扩大和工艺提升,国内设备厂商面临发展机遇。2、行业发展面临的挑战(1)高端技术和人才缺乏光伏、半导体等专用设备属于典型技术密集型行业,对于技术人员的知识背景、研发能力及操作经验积累均有较高要求。由于中国研发起步较晚,业内人

62、才和技术水平仍然较为缺乏,在一定程度上制约了行业的快速发展。随着市场的日臻成熟与下游需求的推动,专业人才缺乏的矛盾将会更加突出。(2)国产核心零部件配套能力薄弱国产高端专用设备总体起步较晚,对零部件市场拉动时间较短,高端专用设备零部件配套能力较弱,影响专用设备的优化周期和制造成本。三、 激发人才创新创造活力实施人才兴州战略,破除人才引进、培养、使用、评价、流动、激励等体制机制障碍,引才聚才,优才留才,用活人才,优化人才发展平台和环境,提升人才服务能级,最大限度激发人才创新创业活力。持续推进苍洱人才“霞光计划”,强化党政人才、专业技术人才、农村实用人才三支队伍建设。大力实施人才引育工程,推进“产

63、业链”与“人才链”有效衔接。创新灵活高效的人才引进使用机制,强化对创新人才、创新团队的分配激励,实施差别化、竞争性的人才政策,全面打造人才聚集洼地。强化行业部门联动,制定高层次人才享受同城化服务待遇政策措施,强化创新创业、安家落户、子女教育、医疗养老等方面的服务保障,让大理成为人才想来、愿来、留得住、能出彩的沃土。四、 项目实施的必要性(一)现有产能已无法满足公司业务发展需求作为行业的领先企业,公司已建立良好的品牌形象和较高的市场知名度,产品销售形势良好,产销率超过 100%。预计未来几年公司的销售规模仍将保持快速增长。随着业务发展,公司现有厂房、设备资源已不能满足不断增长的市场需求。公司通过优化生产

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