ITO玻璃系列知识

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1、.ITO玻璃系列知识(一)，基片主要要求300以上的是高电阻，主要用于生产触摸屏；150以下的是中、低电阻，主要用于生产液晶显示器件。基片玻璃主要类型.1. .钠钙玻璃 .2.硼硅玻璃 .3. .其它玻璃基片玻璃主要供应商1.Asahi Glass2.Central Glass3.Desag 4.Glaverbel S.A.5.Nippon Sheet Glass6.Pilkington Micronics Limited7.Samsung Corning8.其它供应商基片玻璃磨边情况.R型园边.C型斜边.未磨边.其它情况基片玻璃外表状况1.超浮法玻璃2.抛光玻璃3.未抛光玻璃Z.其它情况基片

2、玻璃规格要求1.长(宽)公差2.厚度公差3.垂直度见图1La/L0.1%a各种规格基片的垂直度均不超过0.1%。图14翘曲度见图2hL其中： 图2 厚度0.7mm的基片玻璃， 翘曲度h/L0.1%。 厚度0.55mm的基片玻璃，翘曲度h/L0.15%。 不允许有S形翘曲5微观波纹度浮法锡面玻璃基片的外表存在宏观的不平直度即翘曲度和微观的外表波纹度Microcorrugation。适合于LCD工艺要求的微观波纹度测量方法如下：用长程外表轮廓仪，在待测样片上沿垂直于浮法拉伸方向扫描150mm外表轮廓线，并设定载止波长为0.8-8.0mm。如图3所示在所得的粗糙度曲线上，PV的间距h即为微观波纹度值

3、。如果峰峰间距大于20mm，那么忽略不计。图3玻璃厚度 未抛光玻璃 超浮法玻璃 抛光玻璃3.0mm ;0.30 mm/20mm2.0mm ;0.30 mm/20mm1.8mm ;0.30 mm/20mm1.6mm ;0.30 mm/20mm1.10mm ;0.15 mm/20mm ;0.08 mm/20mm ;0.05 mm/20mm0. 85mm ;0.20 mm/20mm0.70mm ;0.20 mm/20mm ;0.10 mm/20mm ;0.08 mm/20mm0.55mm ;0.25 mm/20mm ;0.18 mm/20mm ;0.15 mm/20mm0. 40mm ;0.30 m

4、m/20mm ;0.20 mm/20mm0.30mm ;0.30 mm/20mm 6磨边 (剖面图)7倒角8外观品质ITO玻璃系列知识(二)，SiO2 阻挡膜层规格SiO2 阻挡膜层规格1应用于液晶显示器的钠钙Na-Ca玻璃，通常在其与液晶材料相接触的一面需要镀制一个膜层以阻挡来自玻璃中的钠离子Na+向液晶层中迁移。1.1镀膜面为锡面。1.2 SiO2膜层厚度为20.030.0纳米(nm)。1.3成份为100%的SiO2。1.4阻挡层性能: 经过48小时、96以上温度的水浴, 阻挡膜层允许的单位面积内的钠离子渗透量不超过1.0mg/m2。1.5有效镀膜面为除去边缘3mm区域的玻璃面。在距边缘3

5、mm内有四个装架卡具处无镀膜层, 其余边缘局部均有膜层。1.6光学性能规格1.6.1在光波长为632.8nm处,折射率为1.570.10。1.6.2在波长为550.0nm时,其透过率(包括厚度小于或等于1.1mm的基片玻璃)大于91%。1.7耐化学性能要求a) 耐碱性经温度为602、浓度为10%的氢氧化钠(A.R.)溶液浸泡5分钟后, SiO2阻挡层性能仍符合5.1.4节所述的规格要求。b) 耐酸性经温度为602的3份36%盐酸A.R.、50份去离子水、3份67%硝酸(A.R.)配制的溶液浸泡5分钟后, SiO2阻挡膜层性能仍符合1.4节所述的规格要求。c) 耐溶剂性能将镀膜玻璃放入丙酮(A.

6、R.)、无水乙醇(A.R.)或由100份去离子水加3份EC101配 制成的清洗液中浸泡5分钟后，SiO2阻挡层性能仍符合1.4节所述的规格要求。2应用于电阻式触摸屏的钠钙Na-Ca玻璃，通常在其一面需要镀制一个SiO2膜层以保证膜层的均匀性。2.1镀膜面为锡面。2.2 SiO2膜层厚度为10.0纳米(nm)。2.3成份为100%的SiO2。2.4有效镀膜面为除去边缘3mm区域的玻璃面。在距边缘3mm内有四个装架卡具处无镀膜层, 其余边缘局部均有膜层。ITO玻璃系列知识(三)，ITO 导电膜层规格ITO 导电膜层规格1化学成份膜层化学成份为铟、锡氧化物。2有效镀膜面为除去边缘3mm区域的玻璃面。

7、在距边缘3mm内有四个装架卡具处无镀膜层, 其余边缘局部均有膜层。3光学性能3.1 在光波长为632.8nm处，折射率为1.900.10。3.2 在波长为550nm时，不同规格产品的透过率的最小值见表。4电学性能不同规格产品的方电阻范围见表。5蚀刻性能蚀刻性能的测试：用50份36%的盐酸(A.R.)和50份纯水外加3份67%的硝酸(A.R.),在温度为602时混合配制成蚀刻液。蚀刻性能应符合本标准 表的性能要求。6温度稳定性6.1中、低电阻产品在空气中经30030、烘烤30分钟后，ITO膜的方电阻增长不超过200%。6.2高电阻产品在空气中经12010、烘烤2小时后，ITO膜的方电阻增长不超过

8、20%，且电阻均匀性亦符合要求。7耐化学性能a) 耐碱性 膜层在温度为602, 浓度为10%的氢氧化钠(A.R.)溶液中浸泡5分钟, ITO膜的方电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过110%。b) 耐酸性 在252, 6%盐酸(A.R.)溶液中浸泡2分钟, ITO膜的方电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过110%。高电阻产品不做此项测试。c) 耐溶剂性能 将镀膜玻璃放入丙酮(A.R.)、无水乙醇(A.R.)或由100份去离子水加3份EC101配制成的清洗液中浸泡5分钟后，ITO膜的方电阻与浸泡前的方电阻相比不得超过110%。8粘着力 3M 610型号胶带粘在玻璃外表并迅速撕开，镀膜层不受损伤。ITO玻

9、璃系列知识(四)，外表及内部缺陷规格外表及内部缺陷规格1本章所列全部内容适合于基片、SiO2膜层、ITO膜层的外观检验。2外观品质保证区域：距四周边缘8mm以外的区域为厂商的外表质量保证区域，8mm边缘以内区域中允许除崩边、裂边以外的其它种类缺陷包括划痕、气泡、针孔、污迹等。3裂纹 不允许4崩边见图6)长宽 3.0mm1.5mm 厚度不得超过基片玻璃厚度的 50% 每片不多于 10个 5粘附物：粘附物包括尘粒、玻璃屑等凸起物高度不超过0.3mm。5.1 镀膜面： d0.1mm 忽略不计 0.1d0.2mm 2个/片 d 0.2mm 不允许 5.2未镀膜面： 不计 6划痕6.1 玻璃厚度1.6m

10、m：宽 0.1mm 不允许 宽 0.1mm 总累计长度基片玻璃(长宽);4% 单条最大长度 5mm 2根/每片6.2 1.6mm玻璃厚度3.0mm：宽 0.2mm 不允许 宽 0.2mm 总累计长度基片玻璃(长宽);4% 单条最大长度 8mm 2根/每片导电膜不能有断线的划痕。7点状缺陷：包括内部气泡、夹杂物、白点、针孔、外表凹坑、结点等。7.1 玻璃厚度1.6mm：d0.05mm 忽略不计 0.05d0.3mm 4个/片 d0.3mm 不允许 7.2 1.6mm玻璃厚度3.0mm：d0.1mm 忽略不计 0.1d0.5mm 4个/片 d0.5mm 不允许 8雾斑： 不允许9污迹： 不允许有不溶于水或碱性清洗液的污迹(油污、水渍等)10色斑SiO2和ITO膜层颜色的变异不是色斑，只要膜层的电学、化学、光学、机械等性能符合本标准的有关规定，都是允许的。注： 1. 缺陷的直径d定义为：d=(L+W)/2 W. v