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1、中科院光电所研制由实用深紫外光刻机近日，中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm 的实用深紫外光刻机（ Maskaligner） ，光刻分辨力达到 500nm 。 Mask aligner 因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最广、使用数量最多的一种光刻设备。在现有的微纳加工工艺中，光刻所采用的波段是决定光刻分辨力的重要因素之一。长期以来，国产 Mask aligner 均采用紫外波段（ 350nm 至 450nm ） ，分辨力只能做到1以m以上。而对于200nm至1以m的微纳器件复制，只能采用进口紫外投影光刻机， 200nm 以下分辨力则只能采用进口深紫外投影
2、光刻机。光电所该型设备的成功研制，填补了国内商用化深紫外光刻机的空白，可低成本解决 500nm 以上器件的高效复制，具有很好的社会经济效益。光电所微电子专用设备研发团队积极响应客户需求，大胆创新，成功解决了低成本深紫外光源、深紫外高均匀性匀光技术、新型深紫外介质膜镀膜技术以及非球面准直技术等诸多难点。该型设备仅需通过更换滤光模块，便可实现紫外、中紫外波段、深紫外波段的相互切换。同时，该型设备以光电所URE-2000 系列紫外光刻机为基台（已经销售550 台，其中出口 30 多台） ，配有高精度对准模块、真空曝光模式、双面曝光模式、纳米压印模式、接近式模式、数字设定曝光间隙等诸多功能供用户选择或定制，能满足不同光刻工艺需求。该设备自动化程度高、操作十分方便、外形美观。该型设备的成功研制，是光电所光刻机团队将光刻工艺需求与设备研发紧密结合的产物，市场前景十分广阔。光电所研发团队还积极与潜在用户单位进行需求沟通和工艺探索，利用中紫外波段（峰值波长310nm）在光敏玻璃（FOTURANII）上完成了高深宽比结构的制备直接光刻，设备已经销售数台，并与德国肖特（SCHOTT）公司达成合作协议。（a）设备外观图；（b）设备输出光谱实测曲线
中科院光电所研制出实用深紫外光刻机
