宝石级人造钻石(大颗粒单晶金刚石)地设备介绍MPCVD新型地方法

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1、 宝石级人造钻石〔大颗粒单晶金刚石〕的设备介绍 MPCVD 型的方法 介绍 CVD 金刚石设备， 主要为微波CVD 设备，是被公认的能够制备高品级的大颗粒金刚石和大面积金刚石厚膜。有需要CVD 设备，主要供给 1 kW 5 kW 8 kW 微波等离子体CVD 设备，也欢送询问！ 目前化学气相沉积〔CVD〕法制备金刚石主要有：热丝CVD，直流电弧CVD，微波等离子体CVD。这些方法在本质上都是用某种形式的能量来鼓励和分解含碳化合物气体分子,并在肯定条件下使金刚石在基片外表 成核和生长。 用于刀具涂层的热丝设备 能够工业化得直流设备 能够制备高品级钻石的微波设备 热丝

2、CVD 直流 CVD 微波CVD 各自的内部构造图，可以觉察三者就是激发等离子体的方式不一样，有各自的优缺点 做出来的金刚石的质量也是不一样的哦，看比照就知道了 热丝主要用于刀具涂层上 直流法生长不够稳定 微波法最好，但是耗资较大 三者比照可是看的出来的哦，三种方法做出来的东西就是不一样的因此，只有微波法能做出高品级金刚石！ 直接看看微波CVD 金刚石的应用就知道好了：光学级金刚石能够应用到各个领域 更重要的是，

3、可以做钻石的！ apollo 公司生产 0.28-0.67 克拉的粉红CVD 钻石，目前无色钻石最大可达 16 克拉 微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)是制备高品质金刚石膜的首选方法。主要优点为：无内部电极,可避开电极放电污染;运行气压范围宽; 能量转换效率高;可以产生大范围的高密度等离子体;微波和等离子体参数均可便利地掌握等. 所以,它是制备大面积均匀、无杂质污染的高质量金刚石膜的有开 发前景的重要方法. MPCVD 装置通常分为微波系统、等离子体反响室、真空系统和供气系统等四大局部. 微波系统包括微波功率源、环行器、水负载、阻抗调配器,有时还包括测

4、量微波入射和反射功率的定向耦合器 及功率探头和显示仪表. 微波频率通常选用工业用加热频段的2. 45GHz. 真空和统由真空泵、真空阀门和真空测量仪器(包括真空规管和显示仪器) 组成. 供气系统由气源、管道和掌握气体流量的阀和流量计等组成. 这三个局部各自都是通用型的,可以适用于各种类型的 MPCVD 装置和其他用途的试验装置. 等离子体反响室包括微波与等离子体的耦合器、真空沉积室以及基片台等. 不同类型的PCVD 装置的区分在于等离子体反响室形式的不同. 从真空沉积室的形式来分,有石英管式、石英钟罩式和带有微波窗的金属腔体式. 从微波与等离子体的耦合方式分,有外表波耦合式、直接耦合式和天线耦

5、合式. 在过去的 20 年里，金刚石膜MPCVD 装置经受了从早期的石英管、石英钟罩式，到后期的圆柱谐振腔式、椭球谐振腔式以及圆周天线式(CAP)谐振腔的进展。下面一一进展介绍： 1. 直接耦合石英管式 MPCVD 装置的构造 装置图 构造图 这也是最常用、最简洁也是最早消灭的微波等离子装置是直接耦合石英管式装置。此装置的根本 工作原理是：2．45 GHz 微波经过波导管、磁控管和环行器，在阻抗螺钉和波导管中的短路活塞共同调整下进入直径 50 mm 的石英管真空反响室，从而在电场最强的放电管中部生成稳定的等离子体球。装置如上图所示。等离子体球

6、的准确位置可以通过波导终端的短路滑片来调整。当微波功率增大到肯定时击穿气体 放电并形成等离子体球。该装置的特点是将石英管真空室直接插入到波导管内，微波在阻抗调配器和短路 活塞的调整下直接耦合鼓励产生等离子体。在直接耦合石英管式反响器中，当微波功率加大时。石英管会 受热软化，因此该类反响器的微波功率受到限制，微波发生器产生的微波频率为2．45 GHz，但其输出可调功率范围为 0—800 W，有效最大功率仅为 400-500 W。这类小功率设备进展比较成熟，用于摸索参数和争论性的试验具有高的性价比， 2. 天线耦合石英钟罩式微波等离子体CVD 装置 装置图：以SEKI 公司的AX501

7、0 为例，最大功率为 1.5 kw，目前售价为 10 万美金 构造图 我国已于 1993 年成功研制出天线耦合石英钟罩式800 W 的MPCVD 装置。石英钟罩式 MPCVD 装置原理及特点: 与石英管式不同的是石英钟罩式MPCVD 装置存在模式转换 。该装置的工作原理是微波产生频率为 2.45 GHz 的微波, 沿矩形波导以TE10 模式传播, 经过环行器、三螺钉调配器和放射天线等的共同作用, 微波传播模式转换为沿圆形波导传播的TM01 模式, 最终在谐振腔( 石英钟罩)内鼓励其中的气体形成均匀等离子体球。沉积腔体直径到达!120 mm,

8、等离子体球的直径取决于沉积腔体中的气体压力和微波功率。沉积温度以微波自加热方式来到达。此装置由于存在模式转换而能够在石英真空腔体中鼓励 出等离子体球。石英钟罩距离等离子体球较远, 因此不易产生器壁污染, 同时薄膜的沉积面积也得到扩大。这样对于面积较大、纯洁度要求高的金刚石薄膜的沉乐观为有利。随着真空腔体尺寸的扩大, 改善了石英管式沉积装置中微波功率和沉积气压等参数的限制, 从而拓展了金刚石薄膜沉积规律的争论范围。 3. 天线耦合不锈钢谐振腔式MPCVD 装置 装置图：5kw 天线耦合不锈钢谐振腔

9、 构造图 该装置包括 2.45 GHz、5.0 kW 的磁控管微波源、环形器与水负载、定向耦合器与微波功率计、三螺钉阻抗调配器、天线耦合式微波模式转换器、内径为1143 mm 的带有石英微波窗和观看窗的水冷却不锈钢反响室以及 4 路质量流量掌握器、机械真空泵、红外测温仪、热偶真空计和U 形水银压力计等。其中微波模式转换器可把矩形波导的TE10 模式转换为圆波导的TM01 模式, TM01 模式激发低压含碳气体 ( 133 ～ 9 310 Pa, H2 中混入 0.1%～5.0%的 CH4) 形成等离子体。由于TM01

10、 驻波模式的电场等势面分布为不接触谐振腔壁的同心椭球, 故 TM01 模式能激发不接触腔壁的椭球状等离子体, 避开了接触污染, 从而可制备出高质量的金刚石薄膜。 石英钟罩式设备用钟罩形〔或杯形，盘形〕石英窗，不锈钢反响室式设备用圆形平板石英窗， 是两种能通过微波并隔离大气与真空环境的微波等离子体装置的关键部件。从形成清洁环境〔指没有金属 腔体的金属对处理试样的污染〕和鼓励等离子体的场强分布等方面来看，钟罩形石英窗优于圆形平板石英 窗；从制造本钱和石英窗的散热冷却方面来说，圆形平板石英窗优于钟罩形石英窗〔钟罩面积大〕。两者 各有优缺点。制备金刚石膜的基体温度通常为600 ～1

11、200 C°。对于较高功率的装置，不锈钢反响室〔用圆形平板石英窗〕可加水冷夹套，使得设备制造本钱偏高。在1000 C°以下石英制品的长期使用是稳定和安全的，反响室由不锈钢底盘和石英钟罩以及金属圆筒形微波腔构成，制造本钱可明显下降。所以石英钟 罩式是微波功率在 2KW 以下的一种很好的装置类型。以前美国Wavemat 公司生产和销售的就是这类装置产品。对于更高功率和更大体积的微波等离子体制备金刚石膜设备，因石英钟罩的制造本钱和散热冷却要求 等缺乏之处成为主要问题，故通常承受水冷夹套不锈钢反响室式为宜。SEKI 公司是世界上著名的金刚石膜制备装置制造厂商，微波功率从1KW 直至 75KW，是目前唯

12、一出售第三代大功率〔75KW〕微波等离子体制备金刚石膜专用装置的一家公司。 对不锈钢谐振腔式MPCVD 装置进展进一步改进，可实现 10kW 的微波功率输入，并可进一步提高沉积速率。基于装置尺寸的局限性，微波频率为 2.45GHz 下制备的等离子风光积有限，同样可以利用石英钟罩式对装置尺寸扩大的思想，通过转变微波的频率来增大石英板式圆柱形谐振腔内激发的等离子风光 积。 改进不锈钢谐振腔式MPCVD 装置图：Model AX6550/6560 4. 椭球形 MPCVD 装置 椭球形MPCVD 装置的谐振腔可看作是一种准光学谐振腔，腔体的设计主要利用了椭球的

13、焦点的原理。准光学谐振腔是光波在其中来回反射从而供给光能反响的空腔，通常由两块与工作介质轴线垂直的平 面或凹球面反射镜构成。整个微波系统包括微波源，传输微波的矩形波导，调整系统阻抗的三螺钉阻抗调 配器和短路活塞，以及耦合微波的模式转换天线。从磁控管动身的微波沿着矩形波导以TE10 模式传播， 然后经三螺钉调配器和短路活塞的调整，使得整个系统内的阻抗到达匹配状态，同时，将模式转换天线放 置在矩形波导中电场最强处，利于微波耦合到椭球形谐振腔中。微波经由天线从一个焦点馈入，在另一个 焦点产生稳定的较大的电场，等离子体区域主要分布在椭球的下方焦点处。在下方焦点处放置一个石英钟 罩，钟罩内放置水冷基片台

14、，等离子体将在石英钟 罩内激发。椭球形谐振腔具有诸多优异的性能，如：激发的等离子体强度和位置格外稳定，不管气压和工 作的微波功率如何变化，它始终保持在基片台上方处，与基片台具有良好的接触。同时，微波与等离子体 的耦合效率格外高，不需要承受多余的器件来进展整个系统的阻抗调配。虽然椭球形谐振腔相较圆柱形谐 振腔更适合高功率，高压力的金刚石薄膜沉积环境。但椭球形谐振腔却存在尺寸较大，并且承受石英钟罩 包围基片台的方式，不利于系统的冷却等缺点，因此，在肯定程度上限制了它的应用。 椭球形MPCVD 装置图 构造图为 由于微波等离子体CVD 法是制备优质金刚石薄

15、膜的主流方法，同时微波等离子体在材料制备和处理，微电子器件制造，纺织品外表改性，机械产品加工等众多领域有极为广泛的应用，国外有很多公司正 在研制和生产与销售微波等离子体CVD 制备金刚石膜设备，这类设备同样可以应用于微波等离子体的其他应用领域。 用微波等离子体化学气相渗透(CVI)法可制备高性能的金刚石复合材料。美国Crystallume 公司曾研制出一类的合成金刚石,称为金刚石复合陶瓷,用微波等离子体制备金刚石膜的类似方法将高温高压法生产的金刚石颗粒的聚拢体进展固结，能以相当低的费用生产出直径为10cm 厚 4mm 的具有光滑平滑外表的金刚石复合体部件。近年来，美国Garnegie 争论所和

16、 Alabama 大学合作，用改造 过的Wavemat MPDR313E MP型微波等离子体化学气相沉积装置制备成功人造金刚石单晶〔钻石〕。美国Apollo 公司用类似于ASTeX 公司的微波等离子体制备金刚石膜装置制造出人造金刚石单晶〔钻石〕并在世界各国销售，价格约为自然钻石的三分之一。这方面的进展更突出了微波等离子体方法制造金刚石膜产品的优越 性和重要性。 下面排列出国外出售的MPCVD 装置 SEKI 公司研制的MPCVD 设备简介 AX500 MPCVD 装置 输入的最大微波功率为 1.5 kw 该设备的金刚石膜及其拉

17、曼光谱 Model AX5250/AX5400 (5 kW) AX6300 工作中产生的等离子体 该设备制备的金刚石膜 从左往右依次为：微米级，高取向 100 面。纳米级及单晶金刚石 Model 6550/6560 AX6600 型 具有高的电脑集成，微波功率从 35kw 到 100kw，能够批量制备高品级金刚石 列个表，明白下什么型号能做些什么事儿 设备图片多多益善 30kw MPCVD 椭球形的MPCVD 装置，能够大面积沉积金刚石膜