半导体及晶体术语

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1、1. acceptance testing (WAT: wafer acceptance testing)2. acceptor:受主，如B,掺入Si中需要接受电子3. ACCESS： 一个 EDA (Engineering Data Analysis)系统4. Acid：酸5. Active device：有源器件，如MOS FET (非线性，可以对信号放大)6. Align mark(key):对位标记7. Alloy :合金8. Aluminum：铝9. Ammonia :氨水10. Ammonium fluoride： NH4F11. Ammonium hydroxide： NH4OH

2、12. Amorphous silicon： aSi，非晶硅(不是多晶硅)13. Analog：模拟的14. Angstrom： A ( 1E-10m)埃15. Anisotropic：各向异性(如 POLY ETCH)16. AQL(Acceptance Quality Level) ：接受质量标准，在一定采样下，可以 95%置信度通过质量 标准(不同于可靠性，可靠性要求一定时间后的失效率)17. ARC(Antireflective coating)：抗反射层(用于 METAL 等层的光刻)18. Antimony(Sb)锑19. Argon(Ar)氩20. Arsenic(As)砷21.

3、 Arsenic trioxide(As2O3)三氧化二砷22. Arsine(AsH3)23. Asher:去胶机24. Aspect ration：形貌比（ETCH中的深度、宽度比）25. Autodoping：自搀杂（外延时SUB的浓度高，导致有杂质蒸发到环境中后，又回掺到外延 层）26. Back end：后段（CONTACT 以后、PCM 测试前）27. Baseline :标准流程28. Benchmark :基准29. Bipolar :双极30. Boat：扩散用（石英）舟31. CD:（Critical Dimension）临界（关键）尺寸。在工艺上通常指条宽，例如POLY

4、CD为多晶条宽。32. Character window：特征窗口。用文字或数字描述的包含工艺所有特性的一个方形区域。33. Chemical-mechanical polish（CMP）：化学机械抛光法。一种去掉圆片表面某种物质的方法。34. Chemical vapor deposition（CVD）:化学汽相淀积。一种通过化学反应生成一层薄膜的工艺。35. Chip:碎片或芯片。36. CIM：computer-integrated manufacturing 的缩写。用计算机控制和监控制造工艺的一种综合 方式。37. Circuit design ：电路设计。一种将各种元器件连接起来实

5、现一定功能的技术。38. Cleanroom： 一种在温度，湿度和洁净度方面都需要满足某些特殊要求的特定区域。39. Compensation doping:补偿掺杂。向P型半导体掺入施主杂质或向N型掺入受主杂质。40. CMOS： complementary metal oxide semiconductor 的缩写。一种将 PMOS 和 NMOS 在同一个 硅衬底上混合制造的工艺。41. Computer-aided design （CAD）:计算机辅助设计。42. Conductivity type:传导类型，由多数载流子决定。在N型材料中多数载流子是电子，在P 型材料中多数载流子是空穴

6、。43. Contact :孔。在工艺中通常指孔1,即连接铝和硅的孔。44. Control chart:控制图。一种用统计数据描述的可以代表工艺某种性质的曲线图表。45. Correlation :相关性。46. Cp： 工艺能力，详见 process capability。47. Cpk：工艺能力指数，详见 process capability index。48. Cycle time：圆片做完某段工艺或设定工艺段所需要的时间。通常用来衡量流通速度的快慢。49. Damage：损伤。对于单晶体来说，有时晶格缺陷在表面处理后形成无法修复的变形也可以 叫做损伤。50. Defect densi

7、ty :缺陷密度。单位面积内的缺陷数。51. Depletion implant :耗尽注入。一种在沟道中注入离子形成耗尽晶体管的注入工艺。(耗尽晶 体管指在栅压为零的情况下有电流流过的晶体管。)52. Depletion layer:耗尽层。可动载流子密度远低于施主和受主的固定电荷密度的区域。53. Depletion width:耗尽宽度。53中提到的耗尽层这个区域的宽度。54. Deposition:淀积。一种在圆片上淀积一定厚度的且不和下面层次发生化学反应的薄膜的一 种方法。55. Depth of focus (DOF)：焦深。56. design of experiments (D

8、OE):为了达到费用最小化、降低试验错误、以及保证数据结果的统 计合理性等目的，所设计的初始工程批试验计划。57. develop :显影(通过化学处理除去曝光区域的光刻胶，形成所需图形的过程)58. developer ：1 )显影设备；II)显影液59. diborane (B2H6):乙硼烷，一种无色、易挥发、有毒的可燃气体，常用来作为半导体生产中 的硼源60. dichloromethane (CH2CL2)： 二氯甲，一种无色，不可燃，不可爆的液体。61. dichlorosilane (DSC)：二氯甲硅烷，一种可燃，有腐蚀性，无色，在潮湿环境下易水解的物 质，常用于硅外延或多晶硅

9、的成长，以及用在沉积二氧化硅、氮化硅时的化学气氛中。62. die:硅片中一个很小的单位，包括了设计完整的单个芯片以及芯片邻近水平和垂直方向上 的部分划片槽区域。63. dielectric：1 )介质，一种绝缘材料；II)用于陶瓷或塑料圭寸装的表面材料，可以提供电 绝缘功能。64. diffused layer:扩散层，即杂质离子通过固态扩散进入单晶硅中，在临近硅表面的区域形成 与衬底材料反型的杂质离子层。65. disilane (Si2H6):乙硅烷，一种无色、无腐蚀性、极易燃的气体，燃烧时能产生高火焰，暴 露在空气中会自燃。在生产光电单元时，乙硅烷常用于沉积多晶硅薄膜。66. driv

10、e-in :推阱，指运用高温过程使杂质在硅片中分布扩散。67. dry etch:干刻，指采用反应气体或电离气体除去硅片某一层次中未受保护区域的混合了物 理腐蚀及化学腐蚀的工艺过程。68. effective layer thickness :有效层厚，指在外延片制造中，载流子密度在规定范围内的硅锭前 端的深度。69. EM: electromigration，电子迁移，指由通过铝条的电流导致电子沿铝条连线进行的自扩散 过程。70. epitaxial layer:外延层。半导体技术中，在决定晶向的基质衬底上生长一层单晶半导 体材 料，这一单晶半导体层即为外延层。71. equipment d

11、owntime :设备状态异常以及不能完成预定功能的时间。72. etch :腐蚀，运用物理或化学方法有选择的去除不需的区域。73. exposure :曝光，使感光材料感光或受其他辐射材料照射的过程。74. fab:常指半导体生产的制造工厂。75. feature size:特征尺寸，指单个图形的最小物理尺寸。76. field-effect transistor (FET)：场效应管。包含源、漏、栅、衬四端，由源经栅到漏的多子流 驱动而工作，多子流由栅下的横向电场控制。77. film:薄膜，圆片上的一层或多层迭加的物质。78. flat:平边79. flatband capacitans

12、e :平带电容80. flatband voltage :平带电压81. flow coefficicent :流动系数82. flow velocity: 流速计83. flow volume:流量计84. flux：单位时间内流过给定面积的颗粒数85. forbidden energy gap :禁带86. four-point probe：四点探针台87. functional area：功能区88. gate oxide :栅氧89. glass transition temperature :玻璃态转换温度90. gowning:净化服91. gray area：灰区92. graz

13、ing incidence interferometer :切线入射干涉仪93. hard bake :后烘94. heteroepitaxy :单晶长在不同材料的衬底上的外延方法95. high-current implanter:束电流大于3ma的注入方式，用于批量生产96. hign-efficiency particulate air(HEPA) filter：高效率空气颗粒过滤器，去掉 99.97%的大于 0.3um 的颗粒97. host：主机98. hot carriers： 热载流子99. hydrophilic：亲水性100. hydrophobic:疏水性101. impu

14、rity :杂质102. inductive coupled plasma(ICP):感应等离子体103. inert gas :惰性气体104. initial oxide： 氧105. insulator :绝缘106. isolated line:隔离线107. implant : 注入108. impurity n : 掺杂109. junction : 结110. junction spiking n :铝穿刺Ci Ci AD111. kerf :划片槽112. landing pad n113. lithography n 制版114. maintainability, equip

15、ment : 设备产能115. maintenance n :保养116. majority carrier n :多数载流子117. masks, device series of n : 一成套光刻版118. material n :原料119. matrix n 1 :矩阵120. mean n : 平均值121. measured leak rate n :测得漏率122. median n :中间值123. memory n : 记忆体124. metal n :金属125. nanometer (nm) n ：纳米126. nanosecond (ns) n ：纳秒127. nit

16、ride etch n ：氮化物刻蚀128. nitrogen (N2 ) n： 氮气，一种双原子气体129. n-type adj ：n 型130. ohms per square n ：欧姆每平方：方块电阻131. orientation n： 晶向，一组晶列所指的方向132. overlap n ： 交迭区133. oxidation n ：氧化，高温下氧气或水蒸气与硅进行的化学反应134. phosphorus (P) n ：磷 ，一种有毒的非金属元素135. photomask n ：光刻版，用于光刻的版136. photomask, negative n： 反刻137. image

17、s :去掉图形区域的版138. photomask, positive n： 正亥U139. pilot n ：先行批，用以验证该工艺是否符合规格的片子140. plasma n ：等离子体，用于去胶、刻蚀或淀积的电离气体141. plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) n ： 等离子体化学气相淀积，低温条件下 的等离子淀积工艺142. plasma-enhanced TEOS oxide deposition n： TEOS 淀积，淀积 TEOS 的一种工艺143. pn junction n： pn 结144. pocked be

18、ad n：麻点，在20X下观察到的吸附在低压表面的水珠145. polarization n：偏振，描述电磁波下电场矢量方向的术语146. polycide n：多晶硅/金属硅化物，解决高阻的复合栅结构147. polycrystalline silicon (poly) n：多晶硅，高浓度掺杂(5E19)的硅，能导电。148. polymorphism n：多态现象，多晶形成一种化合物以至少两种不同的形态结晶的现象149. prober n :探针。在集成电路的电流测试中使用的一种设备，用以连接圆片和检测设备。150. process control n :过程控制。半导体制造过程中，对设备

19、或产品规范的控制能力。151. proximity X-ray n :近X射线：一种光刻技术，用X射线照射置于光刻胶上方的掩膜版，从而 使对应的光刻胶暴光。152. pure water n : 纯水。半导体生产中所用之水。153. quantum device n :量子设备。一种电子设备结构，其特性源于电子的波动性。154. quartz carrier n :石英舟。155. random access memory (RAM) n :随机存储器。156. random logic device n :随机逻辑器件。157. rapid thermal processing (RTP)

20、n :快速热处理(RTP)。158. reactive ion etch (RIE) n :反应离子刻蚀(RIE)。159. reactor n :反应腔。反应进行的密封隔离腔。160. recipe n :菜单。生产过程中对圆片所做的每一步处理规范。161. resist n :光刻胶。162. scanning electron microscope (SEM) n :电子显微镜(SEM)。163. scheduled downtime n : (设备)预定停工时间。164. Schottky barrier diodes n :肖特基二极管。165. scribe line n :划片槽

21、。166. sacrificial etchback n :牺牲腐蚀。167. semiconductor n :半导体。电导性介于导体和绝缘体之间的元素。168. sheet resistance (Rs) (or per square) n :薄层电阻。一般用以衡量半导体表面杂质掺杂水平。169. side load: 边缘载荷，被弯曲后产生的应力。170. silicon on sapphire(SOS)epitaxial wafer:外延是蓝宝石衬底硅的原片171. small scale integration(SSI):小规模综合，在单一模块上由2到10个图案的布局。172. so

22、urce code:原代码，机器代码编译者使用的，输入到程序设计语言里或编码器的代码。173. spectral line: 光谱线，光谱镊制机或分光计在焦平面上捕捉到的狭长状的图形。174. spin webbing: 旋转带，在旋转过程中在下表面形成的细丝状的剩余物。175. sputter etch: 溅射刻蚀，从离子轰击产生的表面除去薄膜。176. stacking fault:堆垛层错，原子普通堆积规律的背离产生的2次空间错误。177. steam bath:蒸汽浴，一个大气压下，流动蒸汽或其他温度热源的暴光。178. step response time: 瞬态特性时间，大多数流量

23、控制器实验中，普通变化时段到气流刚 到达特 定地带的那个时刻之间的时间。179. stepper:步进光刻机(按BLOCK来曝光)180. stress test: 应力测试，包括特定的电压、温度、湿度条件。181. surface profile :表面轮廓，指与原片表面垂直的平面的轮廓(没有特指的情况下)。182. sympto m:征兆，人员感觉到在一定条件下产生变化的弊病的主观认识。183. tack weld:间断焊，通常在角落上寻找预先有的地点进行的点焊(用于连接盖子)。184. Taylor tray:泰勒盘，褐拈土组成的高膨胀物质。185. temperature cyclin

24、g :温度周期变化，测量出的重复出现相类似的高低温循环。186. testabilit y:易测性，对于一个已给电路来说，哪些测试是适用它的。187. thermal deposition:热沉积，在超过950度的高温下，硅片引入化学掺杂物的过程。188. thin film:超薄薄膜，堆积在原片表面的用于传导或绝缘的一层特殊薄膜。189. titanium(Ti): 钛。190. toluene(C6H5CH3): 甲苯。有毒、无色易燃的液体，它不溶于水但溶于酒精和大气。191. 1,1,1-trichloroethane(TCA)(CL3CCH3): 有毒、不易燃、有刺激性气味的液态溶剂。

25、这种混合物 不溶于水但溶于酒精和大气。192. tungsten(W): 钨。193. tungsten hexafluoride(WF6):氟化钨。无色无味的气体或者是淡黄色液体。在CVD中WF6用 于淀积硅化物，也可用于钨传导的薄膜。194. tinning: 金属性表面覆盖焊点的薄层。195. total fixed charge density(Nth): 下列是硅表面不可动电荷密度的总和：氧化层固定电荷密度 (Nf)、氧化层俘获的电荷的密度(N ot)、界面负获得电荷密度(Nit)。196. watt(W): 瓦。能量单位。197. wafer flat: 从晶片的一面直接切下去，用

26、于表明自由载流子的导电类型和晶体表面的晶向，也 可用于在处理和雕合过程中的排列晶片。198. wafer process chamber(WPC): 对晶片进行工艺的腔体。199. well: 阱。200. wet chemical etch: 湿法化学腐蚀。201. trench: 深腐蚀区域，用于从另一区域隔离出一个区域或者在硅晶片上形成存储电容器。202. via: 通孔。使隔着电介质的上下两层金属实现电连接。203. window: 在隔离晶片中，允许上下两层实现电连接的绝缘的通道。204. torr : 托。压力的单位。205. vapor pressure: 当固体或液体处于平衡态

27、时自己拥有的蒸汽所施加的压力。蒸汽压力是与物质 和温度有关的函数。206. vacuum: 真空。207. transition metals: 过渡金属Yield 良率Parameter 参数PAC感光化合物ASIC 特殊应用集成电路Solvent 溶剂Carbide 碳Refractive 折射Expansion 膨胀Strip 湿式刻蚀法的一种TM: top mental 顶层金属层WEE 周边曝光PSG 硼硅玻璃MFG 制造部Runcard 运作卡POD 装晶舟和晶片的盒子Scratch 刮伤Reticle 光罩Sputter 溅射Spin 旋转Merge 合并A/D 军 Analog

28、.Digital, 模拟/数字AC Magnitude 交流幅度AC Phase 交流相位Accuracy 精度Activity ModelActivity Model 活动模型Additive Process 加成工艺Adhesion 附着力Aggressor 干扰源Analog Source 模拟源AOI,Automated Optical Inspection 自动光学检查Assembly Variant 不同的装配版本输出Attributes 属性AXI,Automated X-ray Inspection 自动 X 光检查BIST,Built-in Self Test 内建的自测试B

29、us Route 总线布线Circuit 电路基准circuit diagram 电路图Clementine 专用共形开线设计Cluster Placement 簇布局CM 合约制造商Common Impedance 共模阻抗Concurrent 并行设计Constant Source 恒压源Cooper Pour 智能覆铜Crosstalk 串扰CVT,Component Verification and Tracking 元件确认与跟踪DC Magnitude 直流幅度Delay 延时Delays 延时Design for Testing 可测试性设计Designator 标识DFC,De

30、sign for Cost 面向成本的设计DFM,Design for Manufacturing 面向制造过程的设计DFR,Design for Reliability 面向可靠性的设计DFT,Design for Test 面向测试的设计DFX,Design for X 面向产品的整个生命周期或某个环节的设计DSM,Dynamic Setup Management 动态设定管理Dynamic Route 动态布线EDIF,The Electronic Design Interchange Format 电子设计交互格式EIA,Electronic Industries Associatio

31、n 电子工业协会Electro Dynamic Check 动态电性能分析Electromagnetic Disturbance 电磁干扰Electromagnetic Noise 电磁噪声EMC,Elctromagnetic Compatibilt 电磁兼容EMI,Electromagnetic Interference 电磁干扰Emulation 硬件仿真Engineering Change Order 原理图与 PCB 版图的自动对应修改Ensemble 多层平面电磁场仿真ESD 静电释放Fall Time 下降时间False Clocking 假时钟FEP 氟化乙丙烯FFT,Fast

32、Fourier Transform 快速傅里叶变换Float License 网络浮动Frequency Domain 频域Gaussian Distribution 高斯分布Global flducial 板基准Ground Bounce 地弹反射GUI,Graphical User Interface 图形用户界面Harmonica 射频微波电路仿真HFSS 三维高频结构电磁场仿真IBIS,Input/Output Buffer Information Specification 模型ICAM,Integrated Computer Aided Manufacturing 在 ECCE 项

33、目里就是指制作 PCB IEEE,The Institute of Electrical and Electronic Engineers 国际电气和电子工程师协会 IGES,Initial Graphics Exchange Specification 三维立体几何模型和工程描述的标准 Image Fiducial 电路基准Impedance 阻抗In-Circuit-Test 在线测试Initial Voltage 初始电压Input Rise Time 输入跃升时间IPC,The Institute for Packaging and Interconnect 封装与互连协会IPO,In

34、teractive Process Optimizaton 交互过程优化ISO,The International Standards Organization 国际标准化组织Jumper 跳线Linear Design Suit 线性设计软件包Local Fiducial 个别基准manufacturing 制造业MCMs,Multi-Chip Modules 多芯片组件MDE,Maxwell Design EnvironmentNonlinear Design Suit 非线性设计软件包ODB+ Open Data Base 公开数据库OEM 原设备制造商OLE Automation 目标

35、连接与嵌入On-line DRC 在线设计规则检查Optimetrics 优化和参数扫描Overshoot 过冲Panel fiducial 板基准PCB PC Board Layout Tools 电路板布局布线PCB,Printed Circuit Board 印制电路板Period 周期Periodic Pulse Source 周期脉冲源Physical Design Reuse 物理设计可重复PI,Power Integrity 电源完整性Piece-Wise-linear Source 分段线性源Preview 输出预览Pulse Width 脉冲宽度Pulsed Voltage

36、脉冲电压Quiescent Line 静态线Radial Array Placement 极坐标方式的元件布局Reflection 反射Reuse 实现设计重用Rise Time 上升时间Rnging 振荡,信号的振铃Rounding 环绕振荡Rules Driven 规则驱动设计Sax Basic Engine 设计系统中嵌入SDE,Serenade Design EnvironmentSDT,Schematic Design Tools 电路原理设计工具Setting 设置Settling Time 建立时间Shape Base 以外形为基础的无网格布线Shove 元器件的推挤布局SI,S

37、ignal Integrity 信号完整性Simulation 软件仿真Sketch 草图法布线Skew 偏移Slew Rate 斜率SPC,Statictical Process Control 统计过程控制SPI,Signal-Power Integrity 将信号完整性和电源完整性集成于一体的分析工具SPICE,Simulation Program with Integrated Circuit Emphasis 集成电路模拟的仿真程序Split/Mixed Layer 多电源/地线的自动分隔SSO 同步交换STEP,Standard for the Exchange of Product Model DataSymphony 系统仿真Time domain 时域Timestep Setting 步进时间设置UHDL,VHSIC Hardware Description Language 硬件描述语言Undershoot 下冲Uniform Distribution 均匀分布Variant 派生VIA-Vendor Integration Alliance 程序框架联盟Victim 被干扰对象Virtual System Prototype 虚拟系统原型VST,Verfication and Simulation Tools 验证和仿真工具Wizard 智能建库工具,向导