磁控溅射样本

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1、Magnetron Ion Sputter Metal Coating Device日本VACUUM DEVICE公司成立于1985年，主要为生命科学、半导体工业和纳米材料等领域使用的电子显微镜实验用样品的制备生 产仪器，这其中包括离子溅射仪、冷冻十燥仪等。MSP-1S磁控离子溅射仪用途：为SEM样品喷金，增加二次电子产量，同时减少获取SEM图 像时样品损伤。特性：阳极磁控型靶材水平装入:超低放电电压减小样品所受离子损伤以及 热损伤；低真空喷镀与浮动样品台设计：电流无需通过样品，升温幅度小，减 弱样品损伤；操作简便易行:打开EVAC抽真空按钮，喷镀即可短时间内自动进行。技术参数:项目描述电源A

2、C100 V，最大电流10 A设备尺寸340 mm X 200 mmX 350 mm；台式设计，内置旋转泵，m=14 kg真空系统抽真空速率20 I/ min；旋转泵最大真空度2 Pa；喷涂最佳真空度为8-10 Pa。靶材到样品台距离（L）标准 L=25 mm；最大 L=35 mm；附带调节间距的辅助台。样品仓尺寸内径e =120 mmX高度 H=65 mm,耐热玻璃材质电极靶材尺寸e =55 mm,永磁体内置磁控管型靶材标配 Au-Pd,选配 Au,Pt-Pd,Pt样品工作台50 mm,与阳极分离的浮动式装配方式注意：辅助台与靶材和样品的距离由工作台高度决定。附件：说明书一份和200 ml旋转油泵一个。