中科院科技成果——X射线荧光微区镀层测厚仪

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中科院科技成果一一X射线荧光（XRF）微区镀层测厚仪项目简介当一束激励X射线照射到样品上，镀层和基底中的元素都放射出 特征荧光X射线（XRF）。镀层荧光X射线的强度随镀层厚度而增加; 基底荧光X射线的强度随镀层厚度而降低。根据这类关系，测定荧光 X射线的强度，便可以计算出镀层的厚度。普通XRF仪器的照射区域 比较大，不适用于精微细小、形状复杂的样品。微区XRF仪器将微束X射线集中照射在很小的区域内（专利 ZL94112117.8），采用激光定位技术（专利ZL97235392.5），能方便地 选择样品上任意部位进行精确测量。XRF微区镀层测厚仪的国内市场 需求量每年约300台，（以每台20万计算，每年需求额约6000万元）， 绝大部分来自三家外国公司（美国CMI公司、德国Fischer公司和日 本精工舍公司）。中国科学院上海应用物理研究所凝聚30多年从事X射线荧光 （XRF ）技术研究的经验，结合近年来在微区分析领域取得的成果， 于1994年研制成功XRF系列微区镀层测厚仪，受到用户好评。这项 研究成果的目标是在镀层质量检验中，用我国高新科学技术，取代昂 贵的进口仪器。该项产品已通过国家技术监督局鉴定，性能指标达到进口仪器的 水平，它的价格只有进口仪器的几分之一，是一种比较先进而实用的 质量检验仪器，适合于电子元件、精密机械、钟表眼镜、制笔工艺、 珠宝首饰及其它电镀行业推广使用。