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1、化学清洗用主要设备的操作规程化学清洗用主要设备的操作规程（清洗机，甩干机）（清洗机，甩干机）概述概述化学腐蚀液的配制化学腐蚀液的配制工艺过程和工艺条件（操作示范）工艺过程和工艺条件（操作示范）各化学清洗液的浓度检测，调整各化学清洗液的浓度检测，调整注意事项注意事项形成起伏不平的绒面，增加硅片对形成起伏不平的绒面，增加硅片对太阳光的吸收太阳光的吸收去除硅片表面的机械损伤层去除硅片表面的机械损伤层清除表面油污和金属杂质清除表面油污和金属杂质硅片表面处理的目的：硅片表面处理的目的：单晶硅多晶硅硅片机械损伤层（10微米）单晶硅片表面的金字塔状绒面单晶硅片表面反射率九槽清洗机九槽清洗机注：注：纯水是电阻
2、率为18Mcm的去离子水九槽清洗机九槽清洗机超声波清洗超声波清洗单晶硅片的表面油污比较严重，需要在60清洗剂的水溶液中，利用超声波震荡清洗15分钟。2322H2SiONaOHNaOH2Si 热的热的NaOH溶液去除硅片表面机械损伤层：溶液去除硅片表面机械损伤层：HF去除硅片表面氧化层：去除硅片表面氧化层：OH2SiFHHF6SiO2622 HCl去除硅片表面金属杂质：去除硅片表面金属杂质：盐酸具有酸和络合剂的双重作用，氯离子能与 Pt 2+、Au 3+、Ag+、Cu+、Cd 2+、Hg 2+等金属离子形成可溶于水的络合物。各槽设定时间（分钟）各槽设定时间（分钟）注：单晶硅制绒过程中，3号槽须用
3、盖子密封，减少乙醇的挥发。滴定管是滴定时准确测量溶液体积的容器，分酸式和碱式两种。酸式滴定管的下部带有磨口玻璃活塞，用于装酸性、氧化性、稀盐类溶液；碱式滴定管的下端用橡皮管连接一个带尖嘴的小玻璃管，橡皮管内有一玻璃球，以控制溶液的流出速度。NaOH +HCl =NaCl +H2O 40 ：36.5 M NaOHV NaOH ：M HClV HClHClHClNaOHNaOHVMVM5.3640其中M HCl已知，V NaOH=10毫升，V HCl通过测量可知，则未知的氢氧化钠溶液浓度M NaOH可以由计算得到。M NaOH=0.11M HClV HCl（克/升）NaOH +HCl =NaCl
4、+H2O 40 ：36.5 M NaOH V NaOH ：M HClV HClHClHClNaOHNaOHVMVM5.3640其中M NaOH已知为80克/升，V HCl=10毫升，V NaOH通过测量可知，则未知的盐酸溶液浓度M HCl可以由计算得到。M HCl=7.3V NaOHNaOH +HF =NaF +H2O 40 ：20 M NaOHV NaOH ：M HFV HFHFHFNaOHNaOHVMVM2040其中M NaOH=80克/升，V HF=10 ml，V NaOH通过测量可知，则未知的氢氟酸溶液浓度M HF可以由计算得到。M HF=4V NaOH（克/升）NaOH、HCl、HF都是强腐蚀性的化学药品，其固体颗粒、溶液、蒸汽会伤害到人的皮肤、眼睛、呼吸道，所以操作人员要按照规定穿戴防护服、防护面具、防护眼镜、长袖胶皮手套。一旦有化学试剂伤害了员工的身体，马上用纯水冲洗30分钟，送医院就医。
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