套刻对准标记及套刻测量方法

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19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利说明书(21) 申请号 CN201510187315.6(22) 申请日 2015.04.20(71) 申请人 武汉新芯集成电路制造有限公司地址 430205 湖北省武汉市东湖开发区高新四路18 号(72) 发明人 周绍顺(74)专利代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)代理人 屈蘅(51)Int.CI权利要求说明书 说明书 幅图(54)发明名称套刻对准标记及套刻测量方法(57)摘要本发明揭示了一种套刻对准标记及套 刻测量方法。本发明提供的套刻对准标记， 使得前层标记与当层标记在相互垂直的第一 方向与第二方向存在间隙。当进行套刻测量 时，通过测量前层标记与当层标记底部在第 一方向和第二方向上的间距值，然后利用测 量的间距值减去预设间距值，获得偏移量。 本发明是测量间距，因此改变了现有技术中 对套刻机台的依赖，也就避免了当层标记过 厚时，套刻机台对边界信号抓取不准的缺 陷，从而提高了测量精度。