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1、 CVD方法简介方法简介-化学气相沉积(chemical vapor deposition):常压化学气相沉积;等离子体增强化学气相沉积（PECVD）;低压化学气相沉积（LPCVD）等;1、可制备多种薄膜;2、成膜速度快，效率高;3、镀膜的绕射性好，具有台阶覆盖性;4、所得薄膜的纯度高，致密性好，结晶良好;5、与基底的附着力好，残余应力小;6、沉积表面较平滑.CVD缺点，反应温度较高，基体材料受到破坏，一定程度上限制了CVD的应用范围。低压:反应气压在100Pa以下。由于气压下降，气体分子的平均自由程较常压约增大1000倍，扩散系数相应增大，整个系统的空间气体分子分布更均匀，所得膜的厚度更均匀
2、，基片也可以以更大的密度摆放，从而使生产效率大大提高。此外，反应气压的下降，还能够减少反应气体分子的气相反应，减少自掺杂，改善杂质分布.气源:SiCl2H2和NH3或SiH4和NH3，基本反应:3SiCl2H2(g)+4NH3(g)=Si3N4(s)+6ClH(g)+6H2(g)(1)3SiH4(g)+4NH3(g)=Si3N4(s)+12H2(g)(2)(1)的反应温度:700-800度,(2)的反应温度:700-900度。反应过程主要发生在衬底表面上。LPCVD PECVD沉积温度（0C）750 300膜折射率 2.0 1.2-1.8膜密度（g/cm3）2.9-3.1 2.4-2.8禁带宽
3、度（eV）5.0 4.0-5击穿场强（V/cm）107 5106 氢含量(Atom%)4-8 8-12 介电常数 6-7 6-9电阻率(cm)1016 106-1015 应力(Dyne/cm2)10G（T）2G（C）-5G(T)基本原理基本原理:分子或分子集团有着特征性的转动惯量和分子或分子集团有着特征性的转动惯量和固有振动频率，当转动能级或振动能级发固有振动频率，当转动能级或振动能级发生跃迁时，就会产生相应的转动光谱和振生跃迁时，就会产生相应的转动光谱和振动光谱，其振动光谱频率一般多处于红外动光谱，其振动光谱频率一般多处于红外频段，而转动光谱一般多处于微波波段频段，而转动光谱一般多处于微波波段 X射线衍射原理射线衍射原理:1912年劳埃等人根据理论预测，并用实验证实了X射线与晶体相遇时能发生衍射现象，证明了X射线具有电磁波的性质，一束单色X射线入射到晶体-规则排列的原子间距离与入射X射线波长有相同数量级-由不同原子散射的X射线相互干涉-产生强X射线衍射，衍射线在空间分布的方位和强度与晶体结构密切相关。布拉格方程:2dSinQ=n =1.5406 A0ndsin2ndsin2ndsin2
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