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2、- Vi,. .U-q ii m 皓也性 R 弗沖卜吶纣司射波长 ，由于 长的紫紫外光清洗术是利用有机化合物的光敏氧化作用达到去除粘附在材料表面上的有机物质，经过 光清洗后的材料表面可以达到“原子清洁度”。更详细的讲，天津瑞森特UV光源发氧化W希曲琳LU哉flff”鳩册iWFt. T Witfl尽甜1M-宿MT上的世1口叶祕冋冷为I85nm”和254nm的光波，具有很高的能量。当这些光子作用到被清洗物质表面时 大多数碳氢化合物对485nm波长的紫外光具有较强的吸收能力，并在吸收185nm波 外光的能量后分解成离子、游离态原子、受激分子和中子就是所谓的光敏iff 空气中的氧气分子在吸收185nm
3、波长的紫外光后也会产生臭氧和原子氧。臭氧对254nm波 长的紫外光同样具有强烈的吸收作用。臭氧又分解为原子氧和氧气。其中原子氧是极活泼的。 在它作用下，物体表面上的碳和碳氢氧化物的分解物可化合成可挥发气体，二氧化碳和水蒸 气等溢出表面。从而彻底清除了粘附在物体表面上的碳和有机污染物。清洗时，使基板治湿 性向上，玻璃基板是以滚轮方式输送，上方装置低压水银灯产生紫外线照射。玻璃基板所累 积紫外线能量越多，其表面水接触越小，成反比关系。一般STN-LCD制作过程中.霊求的玻璃基板累枳紫外线能昴为30血肌沁（2 537阿）以上.而驀色STN-LCD及簷色滤光片制作过程中，要求的破璃基板 累积紫外践能量
4、为600叩m2（2酣丁时）。S TFTLCD制作过程中，陳了低 压加银灯产筈昊氧蓿洗玻轉卜，目就制鼬主淀是.便用Excim&r Lamp, B J 了2wn波烽緊外线前窩反应住质对玻璃的犢抚嫂率更好W渭洗过程配蚕使帘了反甲氐 基布罔是罂Civ灯总出阿UV光反般到破璃基板上.尿福如轻坯诵基圾-賢巴貝貯僵茂 诵拆待常并线毘輩您+在设备去现上， 有三顼魅重要旳因手龙迥汪言巨住孙二我昌一、熹保持豳昌基梅到灯在 一个较中的距爲 通皆丄一间傑须小于基蕙义在于能师供足夢的烦一般STN-LCD制作过程中，需求的玻璃基板积累紫外线能量为300mj/cm2（253.7nm）以上。 而彩色STN-LCD及彩色滤光片
5、制作过程中，要求的玻璃基板累积紫外线能量为 600mj/cm2（253.7nm）.。在TFT-LCD制作过程中，除了低压水银灯产生臭氧清洗玻璃外，目 前制成的主流是，使用 Excimer Lamp , 其.172nm 波长紫夕卜线的高反应性质对玻璃的清洗效 率更好。UV清洗过程配套使用了反射板，其作用是将UV灯发出的UV光反射到玻璃基板上，从而 加强玻璃基板受光照的强度。瑞森特紫外线提醒你，在设备实现上，有三项很重要的因素必 须注意与控制，这就是：一，要保持玻璃基板到UV灯在一个较小的距离，通常这一间隙须 小于10XX，其意义在于能够提供足够的光照强度，a強度，并且可以避免出现光照盲区乜二更保
6、持帝拄机内腔使适当的03濫庫 过多过泌丕显圧达翌惜洗的悬與效案通蒂03涼度是栓制左107住ODom范险内三、炉腔的韻度不能太高.因此磁须注邑冷却.-控制好炉腔的工作得以防止緊夕卜光灯因过热而变带或琴外线鹘射功率的减损点*w灯吒逼与周圈屈度的戋系有黄的壬轄辽明，邂过吃竽利釣谨播it后.朮淸形成的角度）只能丑 叩罠古苔记.=-:F . TN产品.来说墨远远不藝前”而浓度是控制1机0内1体适范浓度炉过温少能利于并且可以避达到清洗的因此必须瞇冷却，控制好炉腔的工作温度，以防止紫外光灯因过热而变形或紫外线照射功 率的减损。刑UV灯光强与周围温度的关系，有关的实验证明，经过化学和物理清洗后，玻璃表面的接触 角（衡量物体表面洁净度旧的主要参数，是用定量的纯水滴到物体表面，水滴形成的角度）, 只能51左右，这对STN产品来说是远远不够外光清洗后触光照区。现光照盲常O3浓表面的接fift角（衡畳物体裘面洁淨匮的空要参数屣用常最餌纯水满到物偉養面*下降到20度以下，能够满足STN产品的工艺要求。
紫外光清洗原理
