微电子专业词汇5780330168gqyn

上传人:muj****520 文档编号:157929420 上传时间:2022-10-02 格式:DOCX 页数:30 大小:57.34KB
收藏 版权申诉 举报 下载
微电子专业词汇5780330168gqyn_第1页
第1页 / 共30页
微电子专业词汇5780330168gqyn_第2页
第2页 / 共30页
微电子专业词汇5780330168gqyn_第3页
第3页 / 共30页
资源描述:

《微电子专业词汇5780330168gqyn》由会员分享,可在线阅读,更多相关《微电子专业词汇5780330168gqyn(30页珍藏版)》请在装配图网上搜索。

1、Abruuptjunnctiion突突变结Acceelerrateedttesttingg加速实实验 Acccepttor受主主Acceeptooraatomm受受主原子子 AAccuumullatiion积积累、堆堆积Acccumuulattinggcoontaact积积累接触触 AAccuumullatiionreggionn积累累区Acccumuulattionnlaayerr积累层层 AActiivereggionn有源区区Actiivecommponnentt有源元元 AActiivedevvicee有源器器件Acttivaatioon激激活 Acttivaatiooneenerrg

2、y激激活能Actiivereggionn有有源(放放大)区区 AAdmiittaancee导纳Allooweddbaand允带带 AAllooy-jjuncctioonddeviice合合金结器器件Alumminuum(AAlumminiium)铝 Aluuminnum?ooxidde铝铝氧化物物Aluuminnumpasssivvatiion铝铝钝化 Ammbippolaar双极的的Ambiienttteempeeratturee环境温温度 Amoorphhouss无定形形的,非非晶体的的Amppliffierr功放扩音器器放大大器 Anaaloggue(Anaalogg)ccomppara

3、atorr模拟拟比较器器Angsstroom埃埃 AAnneeal退火Aniisottroppic各向向异性的的 AAnodde阳阳极Arseenicc(AAS)砷 Auugerr俄歇歇Auggerproocesss俄歇歇过程 Avvalaanchhe雪崩Avallancchebreeakddownn雪崩崩击穿 Avvalaanchheeexciitattionn雪崩激激发 Backkgroounddcaarriier本底载载流子Backkgrooundddoopinng本本底掺杂杂 BBackkwarrd反反向BBackkwarrdbbiass反向向偏置 Baallaastiingressi

4、sttor整流电电阻Balllboond球形键键合 Bannd能能带Banddgaap能能带间隙隙 BBarrrierr势垒垒Barrrieerllayeer势势垒层 Baarriierwiddth势垒宽宽度Basee基极极 BBaseecoontaact基区接接触Baseesttrettchiing基区扩扩展效应应 BBaseetrranssittimme基基区渡越越时间Baseetrranssporrteeffiicieencyy基区输输运系数数 BBasee-wiidthhmoodullatiion基基区宽度度调制Basiisvvecttor基矢 Biias偏置Bilaaterralsw

5、iitchh双向向开关 Biinarryccodee二进进制代码码Binaarycommpouundsemmicoonduuctoor二二元化合合物半导导体 Bippolaar双双极性的的BipoolarrJuuncttionnTrranssisttor(BJJT)双双极晶体体管 Blooch布洛赫赫Blocckinngbbandd阻挡挡能带 Bllockkinggcoontaact阻挡接接触Bodyy-cennterred体心立立方 Boddy-ccenttreddcuubiccsttruccturre体体立心结结构Bolttzmaann波尔兹兹曼 Bonnd键键、键合合Bonddingge

6、llecttronn价电电子 Bonndinngppad键合点点Boottstrrapcirrcuiit自自举电路路 BBoottstrrapppedemiitteerffollloweer自自举射极极跟随器器Boroon硼硼 BBoroosillicaateglaass硼硅玻玻璃Bounndarryccondditiion边界条条件 Bouundeleectrron束缚电电子Breaadbooardd模拟拟板、实实验板 Brreakkdoown击穿Breaakooverr转折折 BBrilllouuin布里渊渊Brilllouuinzonne布布里渊区区 BBuillt-iin内内建的Bui

7、lld-iineelecctriicffielld内内建电场场 BBulkk体/体内Bulkkabbsorrptiion体吸收收 BBulkkgeenerratiion体产生生Bulkkreecommbinnatiion体复合合 BBurnn-in老化Burnnouut烧烧毁 Burrieddchhannnel埋沟Buriieddifffussionnreegioon隐隐埋扩散散区Can外壳Capaacittancce电电容 Cappturreccrosssssecttionn俘获获截面Capttureecaarriier俘获载载流子 Caarriier载流子子、载波波Carrrybbit进位

8、位位 CCarrry-iinbbit进位输输入Carrry-ooutbitt进位位输出 Caascaade级联Casee管壳壳 CCathhodee阴极极Centter中心 Ceerammic陶瓷(的的)Channnell沟道道 CChannnellbrreakkdowwn沟沟道击穿穿Channnellcuurreent沟道电电流 Chaanneelddopiing沟道掺掺杂Channnellshhortteniing沟道缩缩短 Chaanneelwwidtth沟沟道宽度度Charractteriistiiciimpeedannce特征阻阻抗 Chaargee电荷荷、充电电Charrge-co

9、mmpennsattionnefffeccts电荷补补偿效应应 CCharrgeconnserrvattionn电荷荷守恒Charrgeneuutraalittyccondditiion电中性性条件 Chharggeddrivve/eexchhangge/ssharringg/trranssferr/sttoraage电荷驱驱动/交交换/共共享/转转移/存存储 Cheemmiicallettchiing化学腐腐蚀法Chemmicaallyy-Poolissh化化学抛光光 CChemmmiccallly-MMechhaniicalllyPollishh(CCMP)化学学机械抛抛光CChipp芯片

10、片 CChippyiieldd芯片片成品率率Clammpedd箝位位 CClammpinngddiodde箝箝位二极极管Cleaavaggepplanne解解理面 Cllockkraate时钟频频率Clocckggeneerattor时钟发发生器 Cllockkfllip-floop时时钟触发发器Closse-ppackkedstrructturee密堆堆积结构构 CClosse-llooppgaain闭环增增益Colllecttor集电极极 CColllisiion碰撞ComppenssateedOOP-AAMP补偿运运放 Commmonn-baase/colllecctorr/emmitt

11、terconnnecctioon共共基极/集电极极/发射射极连接接 CCommmon-gatte/ddraiin/ssourrceconnnecctioon共共栅/漏漏/源连连接 Commmonn-moodegaiin共共模增益益Commmon-moddeiinpuut共共模输入入 CCommmon-modderrejeectiionrattio(CMMRR)共模模抑制比比 CComppatiibillityy兼容容性Comppenssatiion补偿 Coompeensaateddimmpurritiies补偿杂杂质Comppenssateedssemiiconnducctorr补偿偿半导体

12、体 CCompplemmenttaryyDaarliingttoncirrcuiit互互补达林林顿电路路 CCompplemmenttaryyMeetall-Oxxidee-SeemiccondducttorFieeld-Efffectt-Trranssisttor(CMOOS) 互补补金属氧氧化物半半导体场场效应晶晶体管 Coompllemeentaaryerrrorfunnctiion余误差差函数 Coompuuterr-aiidedddeesiggn(CADD)/ttestt(CAAT)/mannufaactuure(CAMM)计计算机辅辅助设计计/测测试/制 造 CommpouundS

13、emmicoonduuctoor化化合物半半导体Condducttancce电电导 Connducctioonbbandd(eedgee)导导带(底底)Condducttionnleevell/sttatee导带带态 Connducctorr导体体Condducttiviity电导率率 CConffiguurattionn组态态Conllombb库仑仑 CConppleddCoonfiigurratiionDevvicees结结构组态态Consstannts物理常常数 Connstaanteneergyysuurfaace等能面面Consstannt-ssourrcedifffussionn恒

14、定源源扩散 Coontaact接触Conttamiinattionn治污污 CConttinuuityyeqquattionn连续续性方程程Conttactthoole接触孔孔 CConttacttpootenntiaal接接触电势势Conttinuuityycoondiitioon连连续性条条件 Conntraadoopinng反反掺杂Conttrollledd受控控的 Connverrterr转换换器Convveyeer传传输器 Cooppeeriinteercoonneectiionsysstemm铜互互连系统统Couppingg耦合合 CCovaalennt共共阶的Crosssovve

15、r跨交 Crritiicall临界界的Crosssunnderr穿交交 CCrucciblle坩埚埚Crysstalldeefecct/ffacee/orrienntattionn/laattiice晶体缺缺陷/晶晶面/晶晶向/晶晶格 Currrenntddenssityy电流流密度Curvvatuure曲率 Cuutooff截止Currrenntddrifft/ddirvve/ssharringg电流流漂移/驱动/共享 CuurreentSennse电流取取样Curvvatuure弯曲 Cuustoomiinteegraateddciircuuit定制集集成电路路Cyliindrricaal

16、柱柱面的 Czzochhrallshiicryystaal直直立单晶晶 CCzocchraalskkittechhniqque切克劳劳斯基技技术(CCz法直直拉晶体体J)Dangglinngbbondds悬悬挂键Darkkcuurreent暗电流流 DDeaddtiime空载时时间Debyyellenggth德拜长长度 De.broogliie德德布洛意意Decdderaate减速 Deecibbel(dBB)分分贝Decoode译码 Deeepacccepttorlevvel深受主主能级Deeppdoonorrleevell深施施主能级级 DDeeppimmpurrityyleevell深度

17、度杂质能能级Deepptrrap深陷阱阱 DDefeeat缺陷 Deegenneraatesemmicoonduuctoor简简并半导导体Degeenerracyy简并并度 Deggraddatiion退化DegrreeCellsiuus(ccenttigrradee)/Kellvinn摄氏氏/开氏氏温度 Deelayy延迟迟Denssityy密度度 DDenssityyoffsttatees态态密度Deplletiion耗尽 Deepleetioonaapprroxiimattionn耗尽尽近似Deplletiionconntacct耗耗尽接触触 DDeplletiiondeppth耗尽深深

18、度Deplletiionefffectt耗尽尽效应 Deepleetioonllayeer耗耗尽层DeplletiionMOSS耗尽尽MOSS DDeplletiionreggionn耗尽尽区Depoosittedfillm淀淀积薄膜膜 DDepoosittionnprroceess淀积工工艺Desiignrulles设计规规则 Diee芯片片(复数数dicce)Diodde二二极管 Diieleectrric介电的的Diellecttriccissolaatioon介介质隔离离 DDifffereencee-moodeinpput差模输输入Difffereentiialamppliffier

19、r差分分放大器器 DDifffereentiialcappaciitannce微分电电容Difffuseedjjuncctioon扩扩散结 Diiffuusioon扩扩散Difffusiioncoeeffiicieent扩散系系数 Difffussionncoonsttantt扩散散常数Difffusiivitty扩扩散率 Diiffuusioonccapaacittancce/bbarrrierr/cuurreent/furrnacce扩扩散电容容/势垒垒/电流流/炉 Diigittalcirrcuiit数数字电路路Dipooledommainn偶极极畴 Dippoleelaayerr偶极极

20、层Direect-couupliing直接耦耦合 Dirrectt-gaapssemiiconnducctorr直接接带隙半半导体Direecttraansiitioon直直接跃迁迁 DDisccharrge放电Disccretteccompponeent分立元元件 Disssippatiion耗散Disttribbutiion分布 Diistrribuuteddcaapaccitaancee分布布电容Disttribbuteedmmodeel分分布模型型 DDispplaccemeent位移Disllocaatioon位位错 Dommainn畴Donoor施施主 Donnorexhhauss

21、tioon施施主耗尽尽Dopaant掺杂剂剂 DDopeedssemiiconnducctorr掺杂杂半导体体Dopiingconncenntraatioon掺掺杂浓度度 DDoubble-difffussiveeMOOS(DDMOSS)双扩扩散MOOS. Drriftt漂移移Drifftffielld漂漂移电场场 DDrifftmmobiilitty迁迁移率Dryetcchinng干干法腐蚀蚀 DDry/wettoxxidaatioon干干/湿法法氧化Dosee剂量量 DDutyycyyclee工作作周期Duall-inn-liinepacckagge(DDIP)双列直直插式封封装 Dynn

22、amiics动态Dynaamiccchharaacteerissticcs动动态属性性 DDynaamiccimmpeddancce动动态阻抗抗Earllyeeffeect厄利效效应Earllyffailluree早期期失效 Efffecctivvemmasss有效效质量Einssteiinrrelaatioon(sshipp)爱爱因斯坦坦关系 EllecttriccErraseePrrogrrammmablleRReaddOnnlyMemmoryy(E22PROOM)一次性性电可擦擦除只读读存储器器 EElecctroode电极Elecctroominnggrratiim电电迁移 Ellec

23、ttronnafffinnityy电子子亲和势势Elecctroonicc-ggradde电电子能 Ellecttronn-beeamphooto-ressisttexxpossuree光致致抗蚀剂剂的电子子束曝光光 EElecctroonggas电子气气Elecctroon-ggraddewwateer电电子级纯纯水 Eleectrrontraappiingcennterr电子子俘获中中心ElecctroonVVoltt(eeV)电子伏伏 EElecctroostaaticc静电电的Elemmentt元素素/元件件/配件件 EElemmenttalsemmicoonduuctoor元元素半导

24、导体Elliipsee椭圆圆 EElliipsooid椭球Emittterr发射射极 Emiitteer-ccouppleddloogicc发射射极耦合合逻辑Emittterr-coouplledpaiir发发射极耦耦合对 Emmittterfolllowwer射随器器Empttybbandd空带带 EEmittterrcrrowddinggefffecct发发射极集集边(拥拥挤)效效应 Endduraanceeteest=liifetesst寿寿命测试试Enerrgystaate能态 Ennerggymmomeentuumddiaggramm能量量-动量量(E-K)图图Enhaanceeme

25、nntmmodee增强强型模式式 EEnhaanceemenntMMOS增强性性MOSSEnteeficc(低低)共溶溶的 Envviroonmeentaalttestt环境境测试Epittaxiial外延的的 EEpittaxiiallayyer外延层层Epittaxiialsliice外延片片 EExpiitaxxy外外延Equiivallenttcuurcuuit等效电电路 Equuiliibriiummajjoriity/miinorrityycaarriierss平衡衡多数/少数载载流子 ErrasaableePrrogrrammmablleRROM(EPPROMM)可搽搽取(编编程

26、)存存储器 Errrorrfuuncttionncoompllemeent余误差差函数 Ettch刻蚀Etcchannt刻刻蚀剂 Ettchiingmassk抗抗蚀剂掩掩模Exceesscarrrieer过过剩载流流子 Exccitaatiooneenerrgy激发能能Exciiteddsttatee激发发态 Exccitoon激激子Extrrapoolattionn外推推法 Exttrinnsicc非本本征的Extrrinssicsemmicoonduuctoor杂杂质半导导体Facee-cennterred面心立立方Fallltiime下降时时间 Fann-inn扇入入Fan-outt扇出

27、出 FFasttreecovveryy快恢恢复Fasttsuurfaacestaatess快界界面态 Feeedbbackk反馈馈Fermmilleveel费费米能级级 FFermmi-DDiraacDDisttribbutiion费米-狄拉克克分布Femiipootenntiaal费费米势 Fiickequuatiion菲克方方程(扩扩散)Fielldeeffeecttraansiistoor场场效应晶晶体管 Fiielddoxxidee场氧氧化层Fillledbannd满满带 Fillm薄薄膜Flasshmmemoory闪烁存存储器 Fllatbannd平平带Flattpaack扁平封封装

28、 Fliickeernnoisse闪闪烁(变变)噪声声Flipp-flloptoggglee触发发器翻转转 FFloaatinngggatee浮栅栅Fluooriddeeetchh氟化化氢刻蚀蚀 FForbbidddenbannd禁禁带Forwwarddbiias正向偏偏置 Forrwarrdbblocckinng/connducctinng正向向阻断/导通 Frrequuenccyddeviiatiionnoiise频频率漂移移噪声 Frrequuenccyrrespponsse频频率响应应Funcctioon函函数Harddeneedddeviice辐射加加固器件件Heattofffoor

29、maatioon形形成热 Heeatsinnk散散热器、热热沉Heavvy/llighhthholeebaand重/轻轻空穴穴带 Heaavysatturaatioon重重掺杂Helll-efffectt霍尔尔效应 Heeterrojuuncttionn异质质结Heteerojjuncctioonsstruuctuure异质结结结构 HeeterrojuuncttionnBiipollarTraansiistoor(HHBT)异异质结双双极型晶晶体 Higghffielldpproppertty高高场特性性 HHighh-peerfoormaanceeMOOS.(H-MOSS)高性性能MOOS

30、.Hormmaliizedd归一一化 Horrizoontaaleepittaxiialreaactoor卧卧式外延延反应器器Hotcarrrioor热热载流子子 HHybrridinttegrratiion混合集集成Imagge-foorcee镜象象力Impaactionnizaatioon碰碰撞电离离 IImpeedannce阻抗Impeerfeectstrructturee不完完整结构构 IImpllanttatiiondosse注注入剂量量Impllanttedionn注入入离子 Immpurrityy杂质质Impuurittysscattterringg杂志志散射 Inncreeme

31、nntallreesisstannce电阻增增量(微微分电阻阻)In-cconttacttmaask接触式式掩模 Inndiuumttinoxiide(ITTO)铟锡氧氧化物Induuceddchhannnel感应沟沟道 Inffrarred红外的的Injeectiion注入 Innputtofffseetvvolttagee输入入失调电电压Insuulattor绝缘体体 IInsuulattedGatteFFET(IGFFET)绝缘栅栅FETTInteegraateddinnjecctioonllogiic集成成注入逻逻辑 Inttegrratiion集成、积积分Inteercoonneec

32、tiion互连 Innterrconnnecctioonttimeedeelayy互连连延时Inteerdiigittateedsstruuctuure交互式式结构 Innterrfacce界界面Inteerfeerennce干涉 Innterrnattionnalsysstemmoffunnionns国际际单位制制Inteernaallyysccattteriing谷间散散射 Intterppolaatioon内内插法Inttrinnsicc本征征的 Inttrinnsiccseemiccondducttor本征半半导体Inveerseeopperaatioon反反向工作作 IInveers

33、iion反型Inveerteer倒倒相器 Ioon离离子Ionbeaam离离子束 Iooneetchhingg离子子刻蚀Ionimpplanntattionn离子子注入 Ioonizzatiion电离Ioniizattionnennerggy电电离能 Irrraddiattionn辐照照Isollatiionlannd隔隔离岛 Issotrropiic各各向同性性 JJuncctioonFFET(JFEET)结型场场效应管管Juncctiooniisollatiion结隔离离 JJuncctioonsspaccingg结间间距Juncctioonssidee-waall结侧壁壁Latcchuu

34、p闭闭锁Lateerall横向向的 Lattticce晶晶格Layoout版图 Laattiicebinndinng/ccelll/coonsttantt/deefecct/ddisttorttionn晶格格结合力力/晶胞胞/晶格格/晶格格常熟/晶格格缺陷/晶格畸畸变 Leaakaggeccurrrentt(泄泄)漏电电流Leveelsshifftinng电电平移动动 LLifeetiime寿命lineeariity线性度度 LLinkkedbonnd共共价键LiquuidNittroggen液氮 Liiquiidpphasseeepittaxiialgroowthhteechnniquue液

35、液相外延延生长技技术 Litthoggrapphy光刻LigghtEmiittiingDioode(LEDD)发发光二极极管 LoaadllineeorrVaariaablee负载载线LocaatinngaandWirringg布局局布线 Loongiituddinaal纵纵向的Logiicsswinng逻逻辑摆幅幅 LLoreentzz洛沦沦兹Lumppedmoddel集总模模型Majoorittyccarrrierr多数数载流子子Maskk掩膜膜板,光光刻板 Maasklevvel掩模序序号Maskkseet掩掩模组 Maass-aactiionlaww质量守守恒定律律Mastter-sl

36、aaveDfflipp-fllop主主从D触触发器 Maatchhingg匹配配Maxwwelll麦克克斯韦 Meeanfreeeppathh平均均自由程程Meannderredemiitteerjjuncctioon梳状状发射极极结 Meaanttimeebeeforreffailluree(MMTBFF)平平均工作作时间 Meegetto-reesisstannce磁阻Mesaa台面面 MMESFFET-MettalSemmicoonduuctoor金属属半导体体FETT MMetaalliizattionn金属属化Micrroellecttronnictecchniiquee微电电子技术

37、术 MMicrroellecttronnicss微电电子学Millleninddicees密密勒指数数 MMinoorittyccarrrierr少数数载流子子Misffit失配 Miismaatchhingg失配配Mobiileionns可可动离子子 MMobiilitty迁迁移率Moduule模块 Moodullatee调制制Moleecullarcryystaal分子子晶体 MoonollithhicIC单片IICMMOSFFET金金属氧化化物半导导体场效效应晶体体管 Moss.TTrannsisstorr(MOOST)MOOS.晶体管管Multtipllicaatioon倍倍增 Mod

38、dulaatorr调制制Multti-cchippICC多芯芯片ICC MMultti-cchippmoodulle(MMCM)多芯芯片模块块Mulltippliccatiioncoeeffiicieent倍倍增因子子Nakeedcchipp未封封装的芯芯片(裸裸片)Negaativveffeeddbacck负负反馈 Neegattiveereesisstannce负阻Nesttingg套刻刻 NNegaativve-ttempperaaturre-ccoeffficciennt负负温度系系数Noissemmarggin噪声容容限 Nonnequuiliibriium非平衡衡Nonrrolaa

39、tille非非挥发(易易失)性性 NNormmalllyooff/on常闭/开Numeericcalanaalyssis数值分分析Quallityyfaactoor品品质因子子Quanntizzatiion量子化化 QQuanntumm量子子Quanntummeffficcienncy量量子效应应 QQuanntummmeechaaniccs量量子力学学Quassi?Feermiileevell准费米米能级 Quuarttz石石英Radiiatiionconnducctivvityy辐射射电导率率Radiiatiiondammagee辐射射损伤 Raadiaatioonffluxxdeensi

40、ity辐射通通量密度度Radiiatiionharrdenningg辐射射加固 Raadiaatioonpprottecttionn辐射射保护Radiioacctivve-reecommbinnatiion辐辐照复合合 RRadiioacctivve放放射性Reacchtthrooughh穿通通 RReacctivvessputtterringgsoourcce反反应溅射射源Readddiiodee里德德二极管管 RRecoombiinattionn复合合Recooverryddiodde恢恢复二极极管 Recciprrocaalllattticee倒核核子Recooverryttimee恢复

41、复时间 Reectiifieer整整流器(管管)Recttifyyinggcoontaact整流接接触 Reffereencee基准准点基基准参参考点Refrracttiveeinndexx折射射率 Reggistter寄存器器Regiistrratiion对准 Reegullatee控制制调整整Relaaxattionnliifettimee驰豫豫时间 Reeliaabillityy可靠靠性Resoonannce谐振 Reesisstannce电阻Resiistoor电电阻器 Reesisstivvelyy电阻阻率Reguulattor稳压管管(器) Reelaxxatiion驰豫Resoo

42、nanntffreqquenncy共共射频率率 RRespponssettimee响应应时间Reveersee反向向的 Revverssebbiass反向向偏置Sampplinngccirccuitt取样样电路Sappphirre蓝蓝宝石(AAl2OO3) Saatelllittevvallley卫星谷谷Satuurattedcurrrenntrrangge电流流饱和区区 SSatuurattionnreegioon饱饱和区Satuurattionn饱和和的 Scaaledddoown按比例例缩小Scattterringg散射射 SSchoocklleydioode肖克莱莱二极管管Schoot

43、tkky肖肖特基 Scchotttkyybaarriier肖特基基势垒Schoottkkycconttactt肖特特基接触触 SSchrrodiingeen薛薛定厄Scriibinngggridd划片片格 Secconddaryyfllat次平面面 SSeeddcrrysttal籽晶Segrregaatioon分分凝 Sellecttiviity选择性性Selffallignned自对准准的 Sellfddifffusiion自扩散散Semiiconnducctorr半导导体 Semmicoonduuctoor-cconttrollleddreectiifieer可可控硅Senddsittiv

44、iity灵敏度度 SSeriial串行/串联Seriiesindducttancce串串联电感感 SSetttletimme建建立时间间Sheeetrresiistaancee薄层层电阻 Shhielld屏屏蔽Shorrtccirccuitt短路路 SShottnooisee散粒粒噪声Shunnt分分流 Siddewaallcappaciitannce边墙电电容Signnal信号 Siiliccagglasss石石英玻璃璃Siliiconn硅 Siilicconcarrbidde碳碳化硅Siliiconndiioxiide(SiiO2)二氧氧化硅 SiilicconNittridde(SSi3

45、NN4)氮化硅硅SiliiconnOnnInnsullatoor绝绝缘硅 Siilivverwhiiskeers银须Simpplecubbic简立方方 SSingglecryystaal单单晶Sinkk沉 Skkinefffectt趋肤肤效应Snapptiime急变时时间 Sneeakpatth潜潜行通路路Suleethrreshholdd亚阈阈的 Sollarbattterry/ccelll太阳阳能电池池Soliidccirccuitt固体体电路 SooliddSoolubbiliity固溶度度Sonbbandd子带带 SSourrce源极Sourrcefolllowwer源随器器 SSpa

46、cceccharrge空间电电荷Speccifiichheatt(PTT)热热 SSpeeed-ppoweerpprodductt速度度功耗乘乘积Spheericcal球面的的 SSpinn自旋旋Spliit分分裂 Spoontaaneoousemiissiion自发发发射Spreeadiingressisttancce扩展展电阻 Spputtter溅射Stacckinngffaullt层层错 Staaticcchharaacteerissticc静态态特性Stimmulaateddemmisssionn受激激发射 Sttimuulattedreccombbinaatioon受受激复合合Sto

47、rrageetiime存储时时间 Strresss应力力Straagglle偏偏差 Subblimmatiion升华Subsstraate衬底 Suubsttituutioonall替位位式的Supeerlaattiice超晶格格 SSuppply电源Surffacee表面面 SSurggeccapaacitty浪浪涌能力力Subsscriipt下标 Swwitcchinngttimee开关关时间Swittch开关Ultrraviioleet紫紫外的Unijjuncctioon单单结的 Unnipoolarr单极极的Unittceell原(元元)胞 Unnityy-gaainfreequeen

48、cyy单位位增益频频率Unillateerall-swwitcch单向向开关 Vaacanncy空位Vacuuum真空 Vaalennce(vallue)baand价带Valuuebbanddeddge价带顶顶 VValeenceeboond价键Vapoourphaase汽相 Vaaracctorr变容容管Variistoor变变阻器 Viibraatioon振振动Volttagee电压压 WWafeer晶晶片Waveeeqquattionn波动动方程 Waaveguiide波导Waveenuumbeer波波数 Wavve-ppartticlledduallityy波粒粒二相性性Wearr-ouut烧烧毁 Wirrerrouttingg布线线Workkfuuncttionn功函函数 Worrst-casseddeviice最坏情情况器件件 YYielld成成品率 Zeenerrbrreakkdowwn齐齐纳击穿穿 ZZoneemeeltiing区熔法法

展开阅读全文
温馨提示:
1: 本站所有资源如无特殊说明,都需要本地电脑安装OFFICE2007和PDF阅读器。图纸软件为CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.压缩文件请下载最新的WinRAR软件解压。
2: 本站的文档不包含任何第三方提供的附件图纸等,如果需要附件,请联系上传者。文件的所有权益归上传用户所有。
3.本站RAR压缩包中若带图纸,网页内容里面会有图纸预览,若没有图纸预览就没有图纸。
4. 未经权益所有人同意不得将文件中的内容挪作商业或盈利用途。
5. 装配图网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对用户上传分享的文档内容本身不做任何修改或编辑,并不能对任何下载内容负责。
6. 下载文件中如有侵权或不适当内容,请与我们联系,我们立即纠正。
7. 本站不保证下载资源的准确性、安全性和完整性, 同时也不承担用户因使用这些下载资源对自己和他人造成任何形式的伤害或损失。
关于我们 - 网站声明 - 网站地图 - 资源地图 - 友情链接 - 网站客服 - 联系我们

copyright@ 2023-2025  zhuangpeitu.com 装配图网版权所有   联系电话:18123376007

备案号:ICP2024067431-1 川公网安备51140202000466号


本站为文档C2C交易模式,即用户上传的文档直接被用户下载,本站只是中间服务平台,本站所有文档下载所得的收益归上传人(含作者)所有。装配图网仅提供信息存储空间,仅对用户上传内容的表现方式做保护处理,对上载内容本身不做任何修改或编辑。若文档所含内容侵犯了您的版权或隐私,请立即通知装配图网,我们立即给予删除!